JPS63236304A - 耐食強磁性膜 - Google Patents
耐食強磁性膜Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスク装置、VTRなどに用いる磁気ヘ
ッドのコア材料に係り、特に高飽和磁束密度、高透磁率
、低磁歪定数、高耐食性を有する強磁性膜に関する。
ッドのコア材料に係り、特に高飽和磁束密度、高透磁率
、低磁歪定数、高耐食性を有する強磁性膜に関する。
近年、磁気記録技術の進歩は著しく、家庭用VTRの分
野では小型、軽量化のために、また、磁気ディスク装置
の分野では大容量化のために、記録密度の高密度化が進
められている。このような高密度化のためには高保磁力
の記録媒体に十分書き込みができる高飽和磁束密度をも
つ磁気ヘッド用の強磁性膜が必要となる。
野では小型、軽量化のために、また、磁気ディスク装置
の分野では大容量化のために、記録密度の高密度化が進
められている。このような高密度化のためには高保磁力
の記録媒体に十分書き込みができる高飽和磁束密度をも
つ磁気ヘッド用の強磁性膜が必要となる。
また、磁気ヘッド用材料は記録再生効率の向上の点から
高透磁率を有することが必要であり、効率の安定化のた
めには磁歪定数を零近傍に制御することか望ましい。
高透磁率を有することが必要であり、効率の安定化のた
めには磁歪定数を零近傍に制御することか望ましい。
このような材料としては従来、飽和磁束密度の高いFe
を主成分とするF e −A Q −S i係合金(セ
ンダスト)(特開昭60−74110号)、FC−3i
係合金〔特開昭52−112797号、特開昭59−1
82938号〕が開発されており、また、磁気ヘッドへ
の適用も図られている。
を主成分とするF e −A Q −S i係合金(セ
ンダスト)(特開昭60−74110号)、FC−3i
係合金〔特開昭52−112797号、特開昭59−1
82938号〕が開発されており、また、磁気ヘッドへ
の適用も図られている。
しかし、Fe−AQSi系合金は飽和磁束密度がl0K
G程度と低いことが問題である。また、Fe−8i係合
金は飽和磁束密度が18KGと高いが、耐食性に問題が
あり、Ruなどの添加により耐食性の改善を行なうと飽
和磁束密度が14KG程度まで低下するという問題があ
った。
G程度と低いことが問題である。また、Fe−8i係合
金は飽和磁束密度が18KGと高いが、耐食性に問題が
あり、Ruなどの添加により耐食性の改善を行なうと飽
和磁束密度が14KG程度まで低下するという問題があ
った。
本発明の目的は上述した従来技術の欠点を解消し、高飽
和磁束密度、高透磁率、低磁歪定数をもち、耐食性の高
い、磁気へラドコア用強磁性膜を提供することにある。
和磁束密度、高透磁率、低磁歪定数をもち、耐食性の高
い、磁気へラドコア用強磁性膜を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は上記目的を達成するため、Feに侵入型で固溶
する元素を含有した高飽和磁束密度、高透磁率のFeを
主成分とする強磁性膜にNi。
する元素を含有した高飽和磁束密度、高透磁率のFeを
主成分とする強磁性膜にNi。
Rh、Ru、Pd、Zr、Nb、Tar Ag+Os、
I r、Pt、Au、Cr、Mo、W、Tiの群より選
ばれる少なくとも1種の元素を0.5〜5at%添加し
たことによって、その磁気特性を劣化させることなく、
耐食性を向上させ、かつ低磁歪定数としたことを骨子と
するものである。
I r、Pt、Au、Cr、Mo、W、Tiの群より選
ばれる少なくとも1種の元素を0.5〜5at%添加し
たことによって、その磁気特性を劣化させることなく、
耐食性を向上させ、かつ低磁歪定数としたことを骨子と
するものである。
本発明の強磁性膜に添加する侵入型元素としてはl”l
、N、C,Pより選ばれる1種類以上の元素を用いるこ
とが望ましい。また、この強磁性膜を16Ji性膜と異
なる金glc膜を介して多層化することにより、さらに
透磁率を大幅に増加させることが可能になる。
、N、C,Pより選ばれる1種類以上の元素を用いるこ
とが望ましい。また、この強磁性膜を16Ji性膜と異
なる金glc膜を介して多層化することにより、さらに
透磁率を大幅に増加させることが可能になる。
本発明者らは飽和磁束密度の高いFeを主成分とする磁
性膜の探索研究を行なってきたが、この中でFeに侵入
型で固溶する元素を添加した場合はその飽和磁束密度が
減少することなく、その透磁率が増大し、保磁力が減少
することを見出した6侵入型固溶する元素を添加したと
き、Feを主成分とする磁性膜の軟磁気特性が向上する
理由は必ずしも明確になっていないが、侵入型固溶の元
素を添加したFeを主成分とする磁性膜はブロードなX
線回折ピークを示すばかりか、電子顕微鏡で観察した結
晶粒径が未添加の場合に比べて小さくなっており、結晶
磁気異方性定数もしくは異方性の分散が小さくなり、軟
磁気特性を向上させたものと推察される。また、添加量
が10数at%という多地になっても飽和磁束密度の減
少がほとんどみられないことが侵入型固溶元素の特徴で
あり、Feの格子内に侵入型に固溶するため、単位体積
当た・やのFeJM子数が変化しないことが利点となっ
ているものと思われる。
性膜の探索研究を行なってきたが、この中でFeに侵入
型で固溶する元素を添加した場合はその飽和磁束密度が
減少することなく、その透磁率が増大し、保磁力が減少
することを見出した6侵入型固溶する元素を添加したと
き、Feを主成分とする磁性膜の軟磁気特性が向上する
理由は必ずしも明確になっていないが、侵入型固溶の元
素を添加したFeを主成分とする磁性膜はブロードなX
線回折ピークを示すばかりか、電子顕微鏡で観察した結
晶粒径が未添加の場合に比べて小さくなっており、結晶
磁気異方性定数もしくは異方性の分散が小さくなり、軟
磁気特性を向上させたものと推察される。また、添加量
が10数at%という多地になっても飽和磁束密度の減
少がほとんどみられないことが侵入型固溶元素の特徴で
あり、Feの格子内に侵入型に固溶するため、単位体積
当た・やのFeJM子数が変化しないことが利点となっ
ているものと思われる。
一方、上記磁性膜にNi、Rh、Ru、Pd+Zr、N
b、Ta、Ag、Os、I r、Pt。
b、Ta、Ag、Os、I r、Pt。
Au、Cr、Mo、W、Ti等の1種以上の元素を添加
すると、その軟磁気特性をほとんど劣化させることなく
、その耐食性を大幅に向上させることが明らかになった
。このとき、これらの耐食性を向上させる元素の添加量
が増加する程、Faを主成分とする磁性膜の耐食性が向
上する傾向が見られたが、磁性膜の磁歪定数も添加量と
ともに負から正に増大することが明らかになり、低磁歪
定数を与え、かつ耐食性の良い添加量は0.5〜5at
、%であった。
すると、その軟磁気特性をほとんど劣化させることなく
、その耐食性を大幅に向上させることが明らかになった
。このとき、これらの耐食性を向上させる元素の添加量
が増加する程、Faを主成分とする磁性膜の耐食性が向
上する傾向が見られたが、磁性膜の磁歪定数も添加量と
ともに負から正に増大することが明らかになり、低磁歪
定数を与え、かつ耐食性の良い添加量は0.5〜5at
、%であった。
なお、Feに侵入型で固溶する元素を添加した場合も磁
歪定数の増大が認められた。したがって、低磁歪定数で
軟磁気特性が高く、耐食性の良い磁性膜を得るためには
Feに侵入型で固溶する元素の添加を1〜15at%、
耐食性向上元素の添加量を0.5 〜5at%とするこ
とが望ましい。
歪定数の増大が認められた。したがって、低磁歪定数で
軟磁気特性が高く、耐食性の良い磁性膜を得るためには
Feに侵入型で固溶する元素の添加を1〜15at%、
耐食性向上元素の添加量を0.5 〜5at%とするこ
とが望ましい。
さらに、゛上述した磁性膜を主磁性膜とし、これを主磁
性膜と異なる金属膜を介して多層化すると。
性膜と異なる金属膜を介して多層化すると。
層数の増加(すなわち、主磁性膜1層の膜厚が減少)す
るにしたがって、その透磁率が増大し、保磁力が減少す
ることが明らかになった。多層化によってその軟磁気特
性が増加する理由の1つは多層化による結晶粒の微細化
が異方性の分散を減少させることにあるものと考えられ
る。
るにしたがって、その透磁率が増大し、保磁力が減少す
ることが明らかになった。多層化によってその軟磁気特
性が増加する理由の1つは多層化による結晶粒の微細化
が異方性の分散を減少させることにあるものと考えられ
る。
以下、本発明を実施例により詳しく説明する。
(実施例1)
Feを主成分とする磁性膜の形成はイオンビームスパッ
タリング法によって行なった。本実施例で使用したイオ
ンビームスパッタリング装置はデュアルイオンビーム装
置であり、イオンガンが2台あり、片方でターゲットの
スパッタリングを行ない、スパッタ粒子を基板に被着さ
せる。また、片方のイオンガンは基板を直接イオン照射
することができ、通常低加速エネルギー(500V以下
)のイオンを基板に当てて、被着膜の膜構造を制御する
ことができる。
タリング法によって行なった。本実施例で使用したイオ
ンビームスパッタリング装置はデュアルイオンビーム装
置であり、イオンガンが2台あり、片方でターゲットの
スパッタリングを行ない、スパッタ粒子を基板に被着さ
せる。また、片方のイオンガンは基板を直接イオン照射
することができ、通常低加速エネルギー(500V以下
)のイオンを基板に当てて、被着膜の膜構造を制御する
ことができる。
高飽和磁束密度、高透磁率、低磁歪定数、高耐食性をも
つ磁性膜を形成するためのスパッタリング条件は検討の
結果、以下の条件であった。
つ磁性膜を形成するためのスパッタリング条件は検討の
結果、以下の条件であった。
第1イオンガン加速電圧1000〜1400V第2イオ
ンガン加速電圧 200〜400VAr 圧力
2〜3 X 10−”P a基板表面温度
50〜100℃基板U転数 2
0〜60RPM以上の条件でFe板上に第1表で示す各
種材料を固定した複合ターゲットを用いて、ガラス基板
上にド(3を主成分とし、侵入型固溶元素としてCを含
む各種磁性体膜を0.5〜1μmの厚さで形成した。こ
の結果得られた各種磁性体膜の組成はプラズマ発光分光
法(溶液法)およびオージェ電子分光法によって測定し
た。また、これらの磁性体膜の磁気特性は300℃で熱
処理を行なった後、飽和磁束密度を振動試料磁束計、透
磁率をベクトルインピーダンスメーター、保磁力をB−
Hカーブトレーサー、磁歪定数をトルクメーターを用い
て測定した。また、この磁性膜の耐食性は0.5%Na
CQ水溶液を噴霧しつつ30℃7日間に保持した時の飽
和磁束密度の減少から求めた。
ンガン加速電圧 200〜400VAr 圧力
2〜3 X 10−”P a基板表面温度
50〜100℃基板U転数 2
0〜60RPM以上の条件でFe板上に第1表で示す各
種材料を固定した複合ターゲットを用いて、ガラス基板
上にド(3を主成分とし、侵入型固溶元素としてCを含
む各種磁性体膜を0.5〜1μmの厚さで形成した。こ
の結果得られた各種磁性体膜の組成はプラズマ発光分光
法(溶液法)およびオージェ電子分光法によって測定し
た。また、これらの磁性体膜の磁気特性は300℃で熱
処理を行なった後、飽和磁束密度を振動試料磁束計、透
磁率をベクトルインピーダンスメーター、保磁力をB−
Hカーブトレーサー、磁歪定数をトルクメーターを用い
て測定した。また、この磁性膜の耐食性は0.5%Na
CQ水溶液を噴霧しつつ30℃7日間に保持した時の飽
和磁束密度の減少から求めた。
以上の測定で得られた結果を第1表に示す。また、第1
図にはFe−5at%CにRhを添加した場合の耐食性
および磁歪定数の変化を示す。
図にはFe−5at%CにRhを添加した場合の耐食性
および磁歪定数の変化を示す。
第1表かられかるように、Fe−C膜の耐食性はこれに
Ni、Rh、Ru、Pd、Zr、Nb。
Ni、Rh、Ru、Pd、Zr、Nb。
Ta、Ago Os、I r、Pt、Au、Cr。
Mo、W、Tiの群より選ばれる少なくとも1種の元素
を添加したときに向上することが明らかである。また、
第1図からはFe−C膜の耐食性がr< hの添加量の
増加とともに向上し、その磁歪定数はRhの添加量の増
加とともに負から正に増大することが明らかになる。こ
の結果、Rhの好ましい添加量は耐食性が80%以上と
良く、磁歪定数が2 X 10−6以下と小さい組成領
域の0.5〜5at%が好ましい、なお、第1表で示し
たRh以外の添加元素もRhと同様な効果を示し、0.
5〜5at%の添加が耐食性、磁歪定数から好ましい添
加量であった。
を添加したときに向上することが明らかである。また、
第1図からはFe−C膜の耐食性がr< hの添加量の
増加とともに向上し、その磁歪定数はRhの添加量の増
加とともに負から正に増大することが明らかになる。こ
の結果、Rhの好ましい添加量は耐食性が80%以上と
良く、磁歪定数が2 X 10−6以下と小さい組成領
域の0.5〜5at%が好ましい、なお、第1表で示し
たRh以外の添加元素もRhと同様な効果を示し、0.
5〜5at%の添加が耐食性、磁歪定数から好ましい添
加量であった。
得られたF e −C系磁性体膜をX線回折法で観察し
た結果、α−Feの(110)回折線が観測され、得ら
れた膜は(110)配向した結晶質の磁性体膜であるこ
とが確認された。
た結果、α−Feの(110)回折線が観測され、得ら
れた膜は(110)配向した結晶質の磁性体膜であるこ
とが確認された。
(実施例2)
実施例1において、Feに侵入型で固溶する元素として
Cの代わりに第2表に示す元素を添加し、さらに耐食性
を向上するために、Ni等の第3の元素を添加した。
Cの代わりに第2表に示す元素を添加し、さらに耐食性
を向上するために、Ni等の第3の元素を添加した。
得られた0、5〜1μmの厚さの磁性体膜の磁気特性お
よび耐食性を第2表に示した。
よび耐食性を第2表に示した。
表から明らかなように、C以外のFeに侵入型固溶する
元素を添加した場合もCを添加した場合と同様にその透
磁率が向上し、好ましい軟磁気特性を示す。さらに、そ
の耐食性もNi、Rh。
元素を添加した場合もCを添加した場合と同様にその透
磁率が向上し、好ましい軟磁気特性を示す。さらに、そ
の耐食性もNi、Rh。
Ru、Pd+ Zr、Nb、Ta、Ag、O9゜丁r、
Pt、、Au、Cr、Mo、W、Ti等の元素を添加す
ることにより向上することが明らかである。このとき、
磁性体膜の磁歪定数は実施例1の場合と同様にNi、R
h等の耐食性を向上させる目的で添加した元素の添加量
が増加するにしたがって増大する傾向を示すことから、
高耐食性であり、かつ低磁歪定数を与える添加量は0.
5〜b なお、Feに侵入型で固溶する元素のC,B。
Pt、、Au、Cr、Mo、W、Ti等の元素を添加す
ることにより向上することが明らかである。このとき、
磁性体膜の磁歪定数は実施例1の場合と同様にNi、R
h等の耐食性を向上させる目的で添加した元素の添加量
が増加するにしたがって増大する傾向を示すことから、
高耐食性であり、かつ低磁歪定数を与える添加量は0.
5〜b なお、Feに侵入型で固溶する元素のC,B。
N、P等の添加量が15at%を超えてFeを主成分と
する磁性体膜に添加されると、急激にその耐食性が劣化
する傾向を示し、この場合はNi。
する磁性体膜に添加されると、急激にその耐食性が劣化
する傾向を示し、この場合はNi。
Rh等の耐食性を向上させる元素を添加しても、その効
果は認められなくなる。したがって、高耐食磁性膜を得
るためにはFeに侵入型で固溶する元素の添加量を15
at%以下にしなければならない。但し、その透磁率を
上げるためにlat%以上の添加が必要である。
果は認められなくなる。したがって、高耐食磁性膜を得
るためにはFeに侵入型で固溶する元素の添加量を15
at%以下にしなければならない。但し、その透磁率を
上げるためにlat%以上の添加が必要である。
(実施例3)
回転式ターゲットホルダーを有するイオンビームスパッ
タリング装置のターゲットホルダーの片側に実施例1で
用いたFeを主成分とする磁性体膜用のターゲツト材を
設置し1反対側のターゲットホルダーにはN i −1
9w t%FeもしくはG o −7w t%Zrター
ゲットを設置した。実施例1と同様のスパッタリング条
件で上記Feを主成分とする磁性体膜を主磁性体膜とし
て460人。
タリング装置のターゲットホルダーの片側に実施例1で
用いたFeを主成分とする磁性体膜用のターゲツト材を
設置し1反対側のターゲットホルダーにはN i −1
9w t%FeもしくはG o −7w t%Zrター
ゲットを設置した。実施例1と同様のスパッタリング条
件で上記Feを主成分とする磁性体膜を主磁性体膜とし
て460人。
N i −19w t%FeもしくはCo−7wt%
響Zr膜を中間層として40人を順次積層し、19層と
した多層磁性体膜を形成した。
響Zr膜を中間層として40人を順次積層し、19層と
した多層磁性体膜を形成した。
得られた多層磁性体膜の磁気特性を第3表に示す。
表かられかるように、多層磁性体膜の透磁率は+B層膜
に比べて飛躍的に増大しており、いずれも1500以上
となった。すなわち、多層化することによって、@層膜
の柱状結晶粒が分断され、微結晶粒となり、この結果異
方性の分散が生じたために透6J&率が増加したものと
推察される。この多層膜の耐食性はおおむね実施例1お
よび2で示した単層膜の耐食性と同様であったが、表3
かられかるようにN i −19w t%Fe膜を中間
層として多層化した膜は耐食性の向上が認められた。
に比べて飛躍的に増大しており、いずれも1500以上
となった。すなわち、多層化することによって、@層膜
の柱状結晶粒が分断され、微結晶粒となり、この結果異
方性の分散が生じたために透6J&率が増加したものと
推察される。この多層膜の耐食性はおおむね実施例1お
よび2で示した単層膜の耐食性と同様であったが、表3
かられかるようにN i −19w t%Fe膜を中間
層として多層化した膜は耐食性の向上が認められた。
上述の単層もしくは多層磁性体膜を垂直および面内磁気
記録用磁気ヘッドの磁極に用いた結果。
記録用磁気ヘッドの磁極に用いた結果。
従来の磁気記録密度の80KBPI (キロビット/
インチ)を上まわる100KBPI以上の記録密度を得
ることができた。なお、多層膜を用いた場合は120K
BPI以上となった。
インチ)を上まわる100KBPI以上の記録密度を得
ることができた。なお、多層膜を用いた場合は120K
BPI以上となった。
以上の実施例ではイオンビームスパッタリング法によっ
て磁性膜の形成を行なった結果を示したが、本発明者ら
はRFスパッタリング法でも同様の検討を行なっており
、基板温度を200℃前後まで上昇させるだけでほぼ同
様の磁気特性および耐食性が一得られることを確認した
。したがって、本発明は膜形成法によらず適用できる。
て磁性膜の形成を行なった結果を示したが、本発明者ら
はRFスパッタリング法でも同様の検討を行なっており
、基板温度を200℃前後まで上昇させるだけでほぼ同
様の磁気特性および耐食性が一得られることを確認した
。したがって、本発明は膜形成法によらず適用できる。
以上説明したごとく、本発明によるFeを主成分とする
磁性体膜は高飽和磁束密度(18KG以上)、高透磁率
(単層で500以上、多層で1500以上)、低保磁力
(単層で50e以下、多層でioθ以下)、低磁歪定数
(2X10−B以下)、高耐食性(σ/σ0が80%以
上)を有する。したがって、この磁性体膜を磁気記録用
の磁気ヘッド磁極として用いた場合には0.2 μm
程度の薄膜にしても磁気飽和を起こすことなく、磁極の
先端に強い磁界を発生させることができ、超高密度磁気
記録を達成することができる。
磁性体膜は高飽和磁束密度(18KG以上)、高透磁率
(単層で500以上、多層で1500以上)、低保磁力
(単層で50e以下、多層でioθ以下)、低磁歪定数
(2X10−B以下)、高耐食性(σ/σ0が80%以
上)を有する。したがって、この磁性体膜を磁気記録用
の磁気ヘッド磁極として用いた場合には0.2 μm
程度の薄膜にしても磁気飽和を起こすことなく、磁極の
先端に強い磁界を発生させることができ、超高密度磁気
記録を達成することができる。
以上の効果が生ずる理由はまだ明確になっていないが、
Feに侵入型で固溶する元素がFe中にあってもFeの
磁気モーメントを希釈せず、結晶粒の成長を防止するこ
と、耐食性を向上させるために添加した元素が微量にも
かかわらず、磁性膜の耐食性を向上すべく有効に寄与し
たこと等、Feに添加した元素がそれぞれ効果を発揮し
た結果であると思われる。
Feに侵入型で固溶する元素がFe中にあってもFeの
磁気モーメントを希釈せず、結晶粒の成長を防止するこ
と、耐食性を向上させるために添加した元素が微量にも
かかわらず、磁性膜の耐食性を向上すべく有効に寄与し
たこと等、Feに添加した元素がそれぞれ効果を発揮し
た結果であると思われる。
また、多層化によって軟磁気特性が向上する理由もまだ
明確になっていないが、結晶粒の微細化と関係があるも
のと推察される。
明確になっていないが、結晶粒の微細化と関係があるも
のと推察される。
第1図は本発明の実施例で得られたFe−5at%C系
磁性膜の耐食性および磁歪定数におよ茅1図 八 シルカッ! (にtZ) 八 :寡翫Δ<=r@襄1nq麦の亙ムづヒヘ :A氷
櫨当荊のル1こ
磁性膜の耐食性および磁歪定数におよ茅1図 八 シルカッ! (にtZ) 八 :寡翫Δ<=r@襄1nq麦の亙ムづヒヘ :A氷
櫨当荊のル1こ
Claims (3)
- 1.Feに侵入型で固溶する元素を含有したFeを主成
分とする強磁性膜にNi,Rh,Ru,Pd,Zr,N
b,Ta,Ag,Os,Ir,Pt,Au,Cr,Mo
,W,Tiの群より選ばれる少なくとも1種の元素を0
.5〜5at%添加したことを特徴とする耐食強磁性膜
。 - 2.上記侵入型で固溶する元素がB,C,N,Pより選
ばれる少なくとも1種の元素であり,その含有量が1〜
15at%であることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の耐食性強磁性膜。 - 3.Feに侵入型で固溶する元素を含有したFeを主成
分とする強磁性膜にNi,Rh,Ru,Pd,Zr,N
b,Ta,Ag,Os,Ir,Pt,Au,Cr,Mo
,W,Tiの群より選ばれる少なくとも1種の元素を0
.5〜5at%添加した耐食強磁性膜を主磁性膜とし、
これを主磁性膜と異なる金属膜を介して多層化したこと
を特徴とする耐食強磁性膜。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62068820A JP2555057B2 (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 耐食強磁性膜 |
KR1019880002706A KR910006582B1 (ko) | 1987-03-25 | 1988-03-15 | 자성막 및 이것을 사용한 자기헤드 |
US07/172,499 US4935314A (en) | 1987-03-25 | 1988-03-24 | Ferromagnetic film and magnetic head using the same |
CN88101596A CN1012234B (zh) | 1987-03-25 | 1988-03-25 | 铁磁膜及使用该膜的磁头 |
DE3810244A DE3810244C2 (de) | 1987-03-25 | 1988-03-25 | Ferromagnetfilm und dessen Verwendung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62068820A JP2555057B2 (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 耐食強磁性膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63236304A true JPS63236304A (ja) | 1988-10-03 |
JP2555057B2 JP2555057B2 (ja) | 1996-11-20 |
Family
ID=13384733
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62068820A Expired - Lifetime JP2555057B2 (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | 耐食強磁性膜 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4935314A (ja) |
JP (1) | JP2555057B2 (ja) |
KR (1) | KR910006582B1 (ja) |
CN (1) | CN1012234B (ja) |
DE (1) | DE3810244C2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0380136A2 (en) * | 1989-01-26 | 1990-08-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Soft magnetic thin film, method for preparing same and magnetic head |
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JPH02262307A (ja) * | 1989-04-03 | 1990-10-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 軟磁性薄膜 |
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JPH04333546A (ja) * | 1990-08-31 | 1992-11-20 | Alps Electric Co Ltd | 高飽和磁束密度Fe系軟磁性合金および高飽和磁束密度Fe系軟磁性合金薄帯 |
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US5772797A (en) * | 1989-01-26 | 1998-06-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Soft magnetic thin film, method for preparing same and magnetic head |
US6183568B1 (en) | 1989-01-26 | 2001-02-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for preparing a magnetic thin film |
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---|---|---|---|---|
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NL8802873A (nl) * | 1988-11-22 | 1990-06-18 | Philips Nv | Zachtmagnetische multilaagfilm en magneetkop voorzien van een dergelijke zachtmagnetische multilaagfilm. |
KR920003999B1 (ko) * | 1989-03-08 | 1992-05-21 | 알프스 덴기 가부시기가이샤 | 연자성 합금막 |
KR100210579B1 (ko) * | 1990-01-08 | 1999-07-15 | 가나이 쓰도무 | 강자성막 및 그 제조방법과 이것을 사용한 자기헤드 |
DE4027226A1 (de) * | 1990-02-13 | 1991-08-14 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Magnetfeldsensor mit ferromagnetischer, duenner schicht |
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JPH05304026A (ja) * | 1992-02-29 | 1993-11-16 | Sony Corp | 軟磁性薄膜とこれを用いた磁気ヘッド |
KR100265986B1 (ko) | 1997-01-31 | 2000-09-15 | 가타오카 마사타카 | 복합형 박막자기헤드 및 그 제조방법 |
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SG118264A1 (en) * | 2004-06-29 | 2006-01-27 | Sony Corp | A magnetic material and a MEMS device using the magnetic material |
EP3441493A1 (en) * | 2017-08-08 | 2019-02-13 | Siemens Aktiengesellschaft | Alloy and component having a layer thereof |
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-
1987
- 1987-03-25 JP JP62068820A patent/JP2555057B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-03-15 KR KR1019880002706A patent/KR910006582B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1988-03-24 US US07/172,499 patent/US4935314A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-03-25 CN CN88101596A patent/CN1012234B/zh not_active Expired
- 1988-03-25 DE DE3810244A patent/DE3810244C2/de not_active Expired - Fee Related
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CN1012234B (zh) | 1991-03-27 |
DE3810244A1 (de) | 1988-10-06 |
CN88101596A (zh) | 1988-10-05 |
JP2555057B2 (ja) | 1996-11-20 |
KR910006582B1 (ko) | 1991-08-28 |
KR880011739A (ko) | 1988-10-31 |
US4935314A (en) | 1990-06-19 |
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