JPS6323527B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
- G03C5/29—Development processes or agents therefor
- G03C5/31—Regeneration; Replenishers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Description
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に用いら
れる発色現像液の主成分を一定に維持しつゝ、処
理により蓄積した現像阻害成分を除去する方法に
関するものである。 通常のハロゲン化銀写真感光材料の処理は、現
像と定着を基本とし、発色現像に於いては現像と
脱銀工程の2工程から成るがこの他に付加的な処
理工程、例えば硬膜処理、停止処理、安定処理な
どが必要に応じて加えられる。 発色現像においては、露光されたハロゲン化銀
が還元されて銀になると同時に酸化された芳香族
第1アミン現像主薬とカプラーとが反応して色素
を形成する。この過程でハロゲン化銀の分解によ
つて生じたハロゲンイオンが現像液中に溶出し蓄
積するほか、ハロゲン化銀写真感光材料中に含ま
れる抑制剤等の成分も発色現像液中に溶出して蓄
積される。この事は白黒現像によつても同様に起
る。 一方、ハロゲン化銀写真感光材料を現像処理す
ることによつて、現像液中に含まれる成分、例え
ば現像主薬やベンジルアルコールは消費され、あ
るいは写真感光材料中に蓄積して持ち出され、そ
れらの成分濃度は低下してゆく。従つて、比較的
多量のハロゲン化銀写真感光材料を自動現像機な
どによつて連続して処理してゆく現像処理方式に
おいては、このような現像処理の進行に伴う成分
濃度の変化による現像特性の変化を避けるために
現像液の成分を一定濃度の範囲に保つための手段
が必要である。 かゝる手段として、通常は補充液にて補充する
方法がとられている。補充液による補充に際して
は必然的に多量のオーバーフローを生じこれは通
常廃棄され経済上および公害上大きな問題となつ
ている。特に発色現像液には毒性の高い芳香族第
1アミン発色現像主薬、ヒドロキシルアミン、な
らびにBOD(生物化学的酸素要求量)、COD(化学
的酸素要求量)負荷の高いベンジルアルコール、
エチレングリコール等が多量に含有されているの
で、これを廃棄することは環境汚染の点から好ま
しくない。従つて、近年この補充液の使用量を減
少させる努力が続けられている。 例えばオーバーフローの量を減少させる手段と
して補充液を濃厚化する手段が知られている。オ
ーバーフローの量が減少すればオーバーフローに
よつて排出されるハロゲンイオンの量が減少し現
像液中のハロゲンイオンが増大する傾向をまねく
ので、ハロゲンイオンを全く含まない補充液を用
いる手段が知られている。かゝる手段を用いても
なお補充液の濃厚化には薬品の溶解度におのずと
限度があり、オーバーフロー液を生ずるのでオー
バーフロー液の一部または全部を補充液の溶解の
ために利用し、再生剤を加えて補充液として現像
浴に戻して再使用する手段も知られている。しか
しながら、このような手段によると疲労現像液中
のハロゲンイオン濃度は遂次増大するので、オー
バーフロー液の再生分からハロゲンイオンを除去
することが必要とされている。 上記のハロゲンイオンの除去技術として、例え
ば (1) イオン交換樹脂によるハロゲン吸着法(例え
ば米国特許第3253920号明細書参照) (2) ポリマーによるハロゲン吸着法(例えば特開
昭49−5629号公報参照) (3) ビスマス化合物によるハロゲン吸着法(例え
ば特開昭49−53438号公報参照) (4) イオン交換膜電気透析法(例えば特開昭52−
34940号公報参照) (5) 可溶性銀塩添加法(例えば特開昭53−13416
号公報参照) 等が知られている。 これらの低補充化技術、再生技術により補充量
は非常に少なくなつてきたが、処理液の再生や補
充量を減少させた時に生じる問題としてはハロゲ
ンイオンの蓄積のみでなく、同時に蓄積増大する
乳剤溶出物や現像主薬等の疲労酸化物、他種処理
液成分の混入等がある。 ハロゲンイオン以外に写真性能上問題となる蓄
積成分は乳剤溶出物のうちのアニオン界面活性
剤、有機抑制剤であり、特に有機抑制剤は微量で
その抑制効果が高いために大きな問題となる。ま
た現像主薬の酸化物は現像阻害やステイン発生の
原因となる。さらに他種処理液成分の混入は、カ
ラーペーパー処理機やカラーネガ処理機で使用さ
れるエンドレスペルトリーダー、プラステイツク
リーダー、フイルムハンガー、錘り等が反復使用
される事によつて通常は起るが、スプラツシユ等
によつても日常ひんぱんに起りうる問題である。
この混入成分のうち特に写真性能に支障をきたす
のはチオ硫酸イオンの混入である。近年、水洗水
の節減にともなつてエンドレスペルトリーダー等
により逆混入する量が増え支障をきたしている。
これらの現像阻害蓄積成分を除去する方法とし
て、イオン交換樹脂や吸着剤による除去が提案さ
れているが、臭化物イオンを同時に除去してしま
うため、この方法はイオン交換樹脂によるオーバ
ーフロー液の臭化物イオンの除去による再生法以
外に使用することはできず、また電気透析法等で
処理タンクと直結して使用する場合には臭化物イ
オン濃度を変えずに行なわれなければならないた
め小量のイオン交換樹脂を使わざるを得なくな
り、阻害成分を完全に除去する事ができない。こ
れら再生処理においてはオーバーフロー液を再生
することがほとんどであるから処理タンク中の臭
化物イオン濃度を変えずに蓄積現像阻害成分を除
去することは不可能である。従つて、写真性能に
変動を与える臭化物イオンの濃度を変えずにアニ
オン界面活性剤や有機抑制剤現像主薬の酸化物及
びチオ硫酸イオン等を除去する方法の出現が強く
望まれているのが現状である。 本発明の目的は、第1の臭化物イオン以外の現
像阻害成分を臭化物イオンの濃度の変動なしに除
去する方法を提供することにあり、また第2に処
理コストと環境汚染を低減させる濃厚低補充液を
用いた低い補充レイトによる処理や電気透析法及
びイオン交換樹脂法による再生処理において蓄積
する現像阻害成分を効果的に除去する方法を提供
することにある。 本発明の上記目的は、塩基性イオン交換樹脂の
臭化物イオン置換体および該樹脂の臭化物イオン
以外のアニオン置換体を、現像液中の臭化物イオ
ン濃度が一定に保たれる樹脂容量比において現像
液と接触せしめる現像液中の現像阻害成分を除去
する方法によつて達成される。 以下本発明の方法について更に詳細に説明す
る。 先づ、本発明に用いられる塩基性イオン交換樹
脂は、陰イオンを交換するイオン交換樹脂で三次
元に重縮合した高分子基体に交換基として4級ア
ンモニウム塩構造をもつ強塩基性イオン交換樹脂
と、第1級〜第3級アミン塩構造を交換基とする
弱塩基性イオン交換樹脂である。これらのイオン
交換樹脂の高分子基体としては、例えばスチレン
とジビニルベンゼン、メタアクリレート又はアク
リレートとジビルベンゼンとの共重合体をあげる
ことができる。該イオン樹脂の化学構造を例示す
ると次の通りである。 強塩基性イオン交換樹脂 (例えば、三菱ダイヤイオンSA−10A,SA−
11A) (例えば、三菱ダイヤイオンSA−20A,SA−
21A) 弱塩基性イオン交換樹脂 (例えば、三菱ダイヤイオンWA−10,WA−
11) 〔式中R;水素原子、N(R′)2または低級アル
キル基、(こゝでR′は水素原子または低級アルキ
ル基であるが共に水素原子である場合を除く)
n;0〜3の整数〕 (例えば、三菱ダイヤイオンWA−20,WA−
21) (例えば、三菱ダイヤイオンWA−30) これら塩基性イオン交換樹脂の臭化物イオン置
換体(A)は上記のイオン交換樹脂を臭化水素酸、臭
化カリウム、臭化ナトリウム、臭化アンモニウム
等で処理することによつて得ることができ、ま
た、その他のアニオン置換体(B)は、アニオンとし
てOH-,Cl-,SO4 2-,COOH-,CO3 2-等を含有
する水溶液で処理することによつて容易に得られ
るが、好ましくは遊離アニオンが現像特性に影響
を与えず、選択係数が小さいものが好ましい。 本発明において上記塩基性イオン交換樹脂(A)お
よび(B)の使用に際しての混合比は、現像液中の臭
化物イオンの濃度、または塩基性イオン交換樹脂
の種類によつても異なるが、強塩基性イオン交換
樹脂の場合には現像液中の臭化物イオンの濃度と
の間に直線関係があり、おゝよそ次式で示される
比で用いることができる。 A/B(vol比)=kx+a x:現像液中の臭化物イオン濃 度(kBrとして、g/) k:0.1 a:6×10-2 また、弱塩基性イオン交換樹脂の場合も、おゝ
よそ上式で示される比で使用することができるが
架橋度や塩基度、ポーラス度によつて若干ずれる
ため実験により最適比を求める必要がある。 また、上式で示される樹脂混合比は現像液中の
臭化カリウム濃度が、当り0.1g〜5gの範囲
で有効であり、それ以上の高濃度の臭化物イオン
を含む場合には実験により最適比を求めなければ
ならない。 本発明において除去される現像阻害物質とは、
例えば現像を抑制または促進したり、カブリを著
しく抑制したり、現像処理に際し、感光材料から
現像液中に溶出したり、または他の処理液から混
入してくる成分等を指し、具体的には、6−メチ
ル−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザイ
ンデン、6−アミノプリン(アデニン)、4−ヒ
ドロキシ−5,6−トリメチレン−1,3,3a,
7−テトラザインデン、ベンツトリアゾール、6
−ニトロベンツイミダゾール、ガーリツク酸プロ
ピルエステル、(t)−ブチルカテコール、ハイド
ロキノン誘導体、チオ尿素誘導体等の有機抑制
剤、およびチオ硫酸イオン、チオシアン酸イオ
ン、エチレンジアミンテトラ酢酸鉄等の無機アニ
オンが挙げられるがこれ以外の化合物も除去する
ことができる。 本発明に係わるイオン交換樹脂による除去は、
必ずしもアニオンのみでなく、吸着やモレキユラ
ーシユーブ等の作用による吸着除去をも含むもの
である。 本発明による有機抑制剤、アニオン界面活性
剤、チオ硫酸イオン及び主薬酸化物の如き現像阻
害物の除去方法は、種々の使用状態で実施でき
る。例えば現像液のオーバーフローを再生する再
生工程、又は処理工程中の処理タンクに直接連結
された樹脂カラムやフイルターケース内に化学繊
維等で作つた布袋等に前記のイオン交換樹脂(A)及
び(B)を混合してつめて使用する。 また、本発明に用いられる臭化物イオンで置換
された塩基性イオン交換樹脂(A)と他のアニオンで
置換された塩基性イオン交換樹脂(B)とは、上記の
ように混合して使用しなくても臭化物イオンの濃
度が変動しない一定比率で使用する際において
は、別々の樹脂カラム、フイルターケース内に布
袋等に入れて処理してもよい。この際上記のイオ
ン交換樹脂を同時に使用する併行処理であつても
または(A)と(B)とを遂次使用する処理形態であつて
もよい。 また更に本発明に係わる上記の塩基性イオン交
換樹脂(A)と(B)の使用による処理と併行、または前
後のいずれかの部分で、その他の吸着剤や酸性イ
オン交換樹脂により他の不要成分、特に重金属イ
オン等を除去することも可能である。 本発明の方法による現像阻害成分の除去は、特
に補充量の少ない低補充量処理やオーバーフロー
液を直接再利用する処理において有効であり、臭
化物イオンを除去する方法として電気透析法の如
き、有機抑制剤等がほとんど除去されないシステ
ムにおいて特に有効である。 本発明においては好ましくはチオ硫酸イオンの
除去には強塩基性イオン交換樹脂を、現像抑制剤
の除去には低架橋度の強塩基性イオン交換樹脂、
及び中塩基性樹脂が有効である。 本発明による現像阻害物質の除去は、ハイドロ
キノンやメトール及びフエニドン等を含有する黒
白現像処理においても有効であるが、特に下記一
般式を有する現像薬を含む現像液による処理にお
いて有利に利用出来る。 一般式 上式において、R1は水素原子、アルキル基ま
たは−NHSO2R4基、R2はアルキル基、R3はアル
キレン基、Xは水素原子、水酸基、アルコキシ
基、−SO3H基または−NHSO2R5基、そして、R4
とR5は各々アルキル基である。 上記一般式で示される化合物としては、たとえ
ば、4−アミノ−N、N−ジエチルアニリン、3
−メチル−4−アミノ−N,N−ジエチルアニリ
ン、4−アミノ−N−エチル−N−β−ヒドロキ
シエチルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N
−エチル−N−β−ヒドロキシエチルアニリン、
3−メチル−4−アミノ−N−エチル−N−β−
メタンスルホンアミドエチルアニリン、3−メチ
ル−4−アミノ−N−エチル−N−β−メトキシ
エチルアニリン、4−アミノ−N,N−ジメチル
アニリン、N−エチル−N−β−〔β−(β−メト
キシエトキシ)エトキシ〕エチル−3−メチル−
4−アミノアニリン、N−エチル−N−β−(β
−メトキシエトキシ)エチル−3−メチル−4−
アミノアニリンやこれらの塩、例えば硫酸塩、塩
酸塩、亜硫酸塩、p−トルエンスルホン酸塩など
が挙げられる。 以下実施例により本発明の方法を具体的に述べ
るが本発明はこれらにより限定されるものではな
い。 実施例 1 サクラカラーネガ(小西六写真工業〓)を撮影
した後、次の工程に従つて自動現像機で連続的に
発色現像処理を行なつた。自動現像機はノーリツ
鋼機製シネフイルム自動現像機タイプNCV−24
を使用した。処理工程(38℃)、処理槽数、およ
び処理時間は下記の通りである。 発色現像 1槽 3分15秒 漂 白 2槽 6分30秒 水 洗 1槽 3分15秒 定 着 1槽 6分30秒 水 洗 2槽 4分20秒 安 定 1槽 2分10秒 また使用した発色現像液の組成は次の通りであ
る。 炭酸カリウム 30g 炭酸水素ナトリウム 25g 亜硫酸カリウム 5g 臭化ナトリウム 1.2g 沃化カリウム 2mg ヒドロキシルアミン硫酸塩 2.5g 塩化ナトリウム 0.6g ジエチレントリアミン五酢酸ナトリウム 2.5g 4−アミノ−3−メチル−4−エチル−N− (β−ヒドロキシエチル)アニリン硫酸塩 4.8g 水酸化カリウム 1.2g 水を加えて1とし、水酸化カリウムまたは20
%硫酸を用いてPH10.06に調整する。 使用した発色現像再生剤の組成は次のとおりで
ある。 炭酸カリウム 3.5g 炭酸水素ナトリウム 0.5g 亜硫酸カリウム 1.2g 臭化ナトリウム 0.33g ヒドロキシルアミン硫酸塩 0.7g ジエチレントリアミン五酢酸ナトリウム 0.5g 4−アミノ−3−メチル−4−エチル−N− (β−ヒドロキシエチル)アニリン硫酸塩 0.7g 以上をオーバーフロー液1に加え水酸化カリ
ウムまたは20%硫酸を用いてPH10.12に調整し
た。 使用した漂白液の組成は次のとおりである。 エチレンジアミンテトラ酢酸鉄アンモニウム 100g エチレンジアミンテトラ酢酸2ナトリウム 10g 臭化アンモニウム 150g 氷酢酸 10ml 水を加えて1としアンモニア水または氷酢酸
を用いてPH5.8に調整する。 使用した漂白補充用液の組成は次のとおりであ
る。 エチレンジアミンテトラ酢酸鉄アンモニウム 120g エチレンジアミンテトラ酢酸2ナトリウム 12g 臭化アンモニウム 178g 氷酢酸 21ml 水を加えて1としアンモニア水または氷酢酸
を用いてPH5.6に調整する。 使用した定着液の組成は次のとおりである。 〔チオ硫酸アンモニウム 150g 無水亜硫酸ナトリウム 12g メタ重亜硫酸ナトリウム 2.5g エチレンジアミンテトラ酢酸2ナトリウム 2g 炭酸ナトリウム 10g 水を加えて1とする。 使用した定着補充液の組成は次のとおりであ
る。 チオ硫酸アンモニウム 200g 無水亜硫酸ナトリウム 15g メタ重亜硫酸ナトリウム 3g エチレンジアミンテトラ酢酸2ナトリウム 2.5g 炭酸ナトリウム 14g 水を加えて1とする。 使用した安定液の組成は次のとおりである。 ホルマリン(37%水溶液) 2ml コニダツクス(小西六写真工業(株)製) 5ml 水を加えて1とする。 使用した安定補充液用液の組成は次のとおりで
ある。 ホルマリン(37%水溶液) 3ml コニダツクス(小西六写真工業(株)製) 7ml 水を加えて1とする。 発色現像補充液は、カラーネガフイルム100cm2
当り15ml発色現像浴に補充し、漂白補充用液はサ
クラカラーネガフイルム100cm2当り18ml漂白浴に
補充し、定着補充液はカラーネガフイルム100cm2
当り7ml定着定着浴に補充し、さらに安定補充用
液はカラーネガフイルム100cm2当り10ml安定浴に
補充した。 また水洗水はカラーネガフイルム100cm2当り150
ml流した。 発色現像液オーバーフローの再生は、帝人エン
ジニアリング製電気透析装置を用いた。透析によ
る臭素イオン除去は、パツチ処理で行ないオーバ
ーフロー液50mlを用いて0.16A、6Vで16時間行な
つた。第1回目の透析により臭化カリウムは1.2
g/から0.54g/となつた。その他の成分も
減少するため再生剤で補つた。 現像タンクに5本の樹脂カラムを附設し、処理
タンクから現像液を通じ、液が循環するように循
環ポンプを設置した。循環量は2/分で行なつ
た。 シネ型自動現像機(ノーリツNCV−24)によ
り上記処理液を用いて発色現像液のオーバーフロ
ー液を再生しつゝ処理を行なつた。 現像タンクには5本の樹脂カラムを附設した
が、その各々には以下の如き塩基性イオン交換樹
脂を入れ、1実験につき1日2000mずつを10日間
処理した。 実験 1 樹脂カラムにはイオン交換樹脂の充填なし。 実験 2 強塩基性イオン交換樹脂(三菱ダイヤイオン
SA−11A)の塩化物イオン置換体1000mlを充填
し、フイルター中を強制的に液を通過させた。 実験 3 実験−2と同様な方法でイオン交換樹脂を臭化
物イオン置換体となし、1000mlを充填した。 実験 4 実験−2を同様な方法でイオン交換樹脂を塩化
物イオン置換体および臭化物イオン置換体とな
し、それぞれ500mlずつ充填した。 実験 5 実験−2と同様な方法でイオン交換樹脂を塩化
物イオン置換体となし900mlを充填し、さらに臭
化物イオン置換体となしたものを100ml充填した。 実験 6 実験−2と同様な方法でイオン交換樹脂を塩化
物イオン置換体となし850mlを充填し、更に臭化
物イオン置換体となしたものを150ml充填した。 上記の各実験を通して、それぞれ処理開始時
10000m処理、20000m処理後の3時点における溶
出有機抑制剤、6−メチル−4−ヒドロキシ−
1,3,3a,7−テトラザインデンおよび臭素
イオンの濃度を分析した。以下の第1表、第2表
にその分析結果を示し、また各実験により得られ
た写真濃度の測定結果を第3表に示した。
れる発色現像液の主成分を一定に維持しつゝ、処
理により蓄積した現像阻害成分を除去する方法に
関するものである。 通常のハロゲン化銀写真感光材料の処理は、現
像と定着を基本とし、発色現像に於いては現像と
脱銀工程の2工程から成るがこの他に付加的な処
理工程、例えば硬膜処理、停止処理、安定処理な
どが必要に応じて加えられる。 発色現像においては、露光されたハロゲン化銀
が還元されて銀になると同時に酸化された芳香族
第1アミン現像主薬とカプラーとが反応して色素
を形成する。この過程でハロゲン化銀の分解によ
つて生じたハロゲンイオンが現像液中に溶出し蓄
積するほか、ハロゲン化銀写真感光材料中に含ま
れる抑制剤等の成分も発色現像液中に溶出して蓄
積される。この事は白黒現像によつても同様に起
る。 一方、ハロゲン化銀写真感光材料を現像処理す
ることによつて、現像液中に含まれる成分、例え
ば現像主薬やベンジルアルコールは消費され、あ
るいは写真感光材料中に蓄積して持ち出され、そ
れらの成分濃度は低下してゆく。従つて、比較的
多量のハロゲン化銀写真感光材料を自動現像機な
どによつて連続して処理してゆく現像処理方式に
おいては、このような現像処理の進行に伴う成分
濃度の変化による現像特性の変化を避けるために
現像液の成分を一定濃度の範囲に保つための手段
が必要である。 かゝる手段として、通常は補充液にて補充する
方法がとられている。補充液による補充に際して
は必然的に多量のオーバーフローを生じこれは通
常廃棄され経済上および公害上大きな問題となつ
ている。特に発色現像液には毒性の高い芳香族第
1アミン発色現像主薬、ヒドロキシルアミン、な
らびにBOD(生物化学的酸素要求量)、COD(化学
的酸素要求量)負荷の高いベンジルアルコール、
エチレングリコール等が多量に含有されているの
で、これを廃棄することは環境汚染の点から好ま
しくない。従つて、近年この補充液の使用量を減
少させる努力が続けられている。 例えばオーバーフローの量を減少させる手段と
して補充液を濃厚化する手段が知られている。オ
ーバーフローの量が減少すればオーバーフローに
よつて排出されるハロゲンイオンの量が減少し現
像液中のハロゲンイオンが増大する傾向をまねく
ので、ハロゲンイオンを全く含まない補充液を用
いる手段が知られている。かゝる手段を用いても
なお補充液の濃厚化には薬品の溶解度におのずと
限度があり、オーバーフロー液を生ずるのでオー
バーフロー液の一部または全部を補充液の溶解の
ために利用し、再生剤を加えて補充液として現像
浴に戻して再使用する手段も知られている。しか
しながら、このような手段によると疲労現像液中
のハロゲンイオン濃度は遂次増大するので、オー
バーフロー液の再生分からハロゲンイオンを除去
することが必要とされている。 上記のハロゲンイオンの除去技術として、例え
ば (1) イオン交換樹脂によるハロゲン吸着法(例え
ば米国特許第3253920号明細書参照) (2) ポリマーによるハロゲン吸着法(例えば特開
昭49−5629号公報参照) (3) ビスマス化合物によるハロゲン吸着法(例え
ば特開昭49−53438号公報参照) (4) イオン交換膜電気透析法(例えば特開昭52−
34940号公報参照) (5) 可溶性銀塩添加法(例えば特開昭53−13416
号公報参照) 等が知られている。 これらの低補充化技術、再生技術により補充量
は非常に少なくなつてきたが、処理液の再生や補
充量を減少させた時に生じる問題としてはハロゲ
ンイオンの蓄積のみでなく、同時に蓄積増大する
乳剤溶出物や現像主薬等の疲労酸化物、他種処理
液成分の混入等がある。 ハロゲンイオン以外に写真性能上問題となる蓄
積成分は乳剤溶出物のうちのアニオン界面活性
剤、有機抑制剤であり、特に有機抑制剤は微量で
その抑制効果が高いために大きな問題となる。ま
た現像主薬の酸化物は現像阻害やステイン発生の
原因となる。さらに他種処理液成分の混入は、カ
ラーペーパー処理機やカラーネガ処理機で使用さ
れるエンドレスペルトリーダー、プラステイツク
リーダー、フイルムハンガー、錘り等が反復使用
される事によつて通常は起るが、スプラツシユ等
によつても日常ひんぱんに起りうる問題である。
この混入成分のうち特に写真性能に支障をきたす
のはチオ硫酸イオンの混入である。近年、水洗水
の節減にともなつてエンドレスペルトリーダー等
により逆混入する量が増え支障をきたしている。
これらの現像阻害蓄積成分を除去する方法とし
て、イオン交換樹脂や吸着剤による除去が提案さ
れているが、臭化物イオンを同時に除去してしま
うため、この方法はイオン交換樹脂によるオーバ
ーフロー液の臭化物イオンの除去による再生法以
外に使用することはできず、また電気透析法等で
処理タンクと直結して使用する場合には臭化物イ
オン濃度を変えずに行なわれなければならないた
め小量のイオン交換樹脂を使わざるを得なくな
り、阻害成分を完全に除去する事ができない。こ
れら再生処理においてはオーバーフロー液を再生
することがほとんどであるから処理タンク中の臭
化物イオン濃度を変えずに蓄積現像阻害成分を除
去することは不可能である。従つて、写真性能に
変動を与える臭化物イオンの濃度を変えずにアニ
オン界面活性剤や有機抑制剤現像主薬の酸化物及
びチオ硫酸イオン等を除去する方法の出現が強く
望まれているのが現状である。 本発明の目的は、第1の臭化物イオン以外の現
像阻害成分を臭化物イオンの濃度の変動なしに除
去する方法を提供することにあり、また第2に処
理コストと環境汚染を低減させる濃厚低補充液を
用いた低い補充レイトによる処理や電気透析法及
びイオン交換樹脂法による再生処理において蓄積
する現像阻害成分を効果的に除去する方法を提供
することにある。 本発明の上記目的は、塩基性イオン交換樹脂の
臭化物イオン置換体および該樹脂の臭化物イオン
以外のアニオン置換体を、現像液中の臭化物イオ
ン濃度が一定に保たれる樹脂容量比において現像
液と接触せしめる現像液中の現像阻害成分を除去
する方法によつて達成される。 以下本発明の方法について更に詳細に説明す
る。 先づ、本発明に用いられる塩基性イオン交換樹
脂は、陰イオンを交換するイオン交換樹脂で三次
元に重縮合した高分子基体に交換基として4級ア
ンモニウム塩構造をもつ強塩基性イオン交換樹脂
と、第1級〜第3級アミン塩構造を交換基とする
弱塩基性イオン交換樹脂である。これらのイオン
交換樹脂の高分子基体としては、例えばスチレン
とジビニルベンゼン、メタアクリレート又はアク
リレートとジビルベンゼンとの共重合体をあげる
ことができる。該イオン樹脂の化学構造を例示す
ると次の通りである。 強塩基性イオン交換樹脂 (例えば、三菱ダイヤイオンSA−10A,SA−
11A) (例えば、三菱ダイヤイオンSA−20A,SA−
21A) 弱塩基性イオン交換樹脂 (例えば、三菱ダイヤイオンWA−10,WA−
11) 〔式中R;水素原子、N(R′)2または低級アル
キル基、(こゝでR′は水素原子または低級アルキ
ル基であるが共に水素原子である場合を除く)
n;0〜3の整数〕 (例えば、三菱ダイヤイオンWA−20,WA−
21) (例えば、三菱ダイヤイオンWA−30) これら塩基性イオン交換樹脂の臭化物イオン置
換体(A)は上記のイオン交換樹脂を臭化水素酸、臭
化カリウム、臭化ナトリウム、臭化アンモニウム
等で処理することによつて得ることができ、ま
た、その他のアニオン置換体(B)は、アニオンとし
てOH-,Cl-,SO4 2-,COOH-,CO3 2-等を含有
する水溶液で処理することによつて容易に得られ
るが、好ましくは遊離アニオンが現像特性に影響
を与えず、選択係数が小さいものが好ましい。 本発明において上記塩基性イオン交換樹脂(A)お
よび(B)の使用に際しての混合比は、現像液中の臭
化物イオンの濃度、または塩基性イオン交換樹脂
の種類によつても異なるが、強塩基性イオン交換
樹脂の場合には現像液中の臭化物イオンの濃度と
の間に直線関係があり、おゝよそ次式で示される
比で用いることができる。 A/B(vol比)=kx+a x:現像液中の臭化物イオン濃 度(kBrとして、g/) k:0.1 a:6×10-2 また、弱塩基性イオン交換樹脂の場合も、おゝ
よそ上式で示される比で使用することができるが
架橋度や塩基度、ポーラス度によつて若干ずれる
ため実験により最適比を求める必要がある。 また、上式で示される樹脂混合比は現像液中の
臭化カリウム濃度が、当り0.1g〜5gの範囲
で有効であり、それ以上の高濃度の臭化物イオン
を含む場合には実験により最適比を求めなければ
ならない。 本発明において除去される現像阻害物質とは、
例えば現像を抑制または促進したり、カブリを著
しく抑制したり、現像処理に際し、感光材料から
現像液中に溶出したり、または他の処理液から混
入してくる成分等を指し、具体的には、6−メチ
ル−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザイ
ンデン、6−アミノプリン(アデニン)、4−ヒ
ドロキシ−5,6−トリメチレン−1,3,3a,
7−テトラザインデン、ベンツトリアゾール、6
−ニトロベンツイミダゾール、ガーリツク酸プロ
ピルエステル、(t)−ブチルカテコール、ハイド
ロキノン誘導体、チオ尿素誘導体等の有機抑制
剤、およびチオ硫酸イオン、チオシアン酸イオ
ン、エチレンジアミンテトラ酢酸鉄等の無機アニ
オンが挙げられるがこれ以外の化合物も除去する
ことができる。 本発明に係わるイオン交換樹脂による除去は、
必ずしもアニオンのみでなく、吸着やモレキユラ
ーシユーブ等の作用による吸着除去をも含むもの
である。 本発明による有機抑制剤、アニオン界面活性
剤、チオ硫酸イオン及び主薬酸化物の如き現像阻
害物の除去方法は、種々の使用状態で実施でき
る。例えば現像液のオーバーフローを再生する再
生工程、又は処理工程中の処理タンクに直接連結
された樹脂カラムやフイルターケース内に化学繊
維等で作つた布袋等に前記のイオン交換樹脂(A)及
び(B)を混合してつめて使用する。 また、本発明に用いられる臭化物イオンで置換
された塩基性イオン交換樹脂(A)と他のアニオンで
置換された塩基性イオン交換樹脂(B)とは、上記の
ように混合して使用しなくても臭化物イオンの濃
度が変動しない一定比率で使用する際において
は、別々の樹脂カラム、フイルターケース内に布
袋等に入れて処理してもよい。この際上記のイオ
ン交換樹脂を同時に使用する併行処理であつても
または(A)と(B)とを遂次使用する処理形態であつて
もよい。 また更に本発明に係わる上記の塩基性イオン交
換樹脂(A)と(B)の使用による処理と併行、または前
後のいずれかの部分で、その他の吸着剤や酸性イ
オン交換樹脂により他の不要成分、特に重金属イ
オン等を除去することも可能である。 本発明の方法による現像阻害成分の除去は、特
に補充量の少ない低補充量処理やオーバーフロー
液を直接再利用する処理において有効であり、臭
化物イオンを除去する方法として電気透析法の如
き、有機抑制剤等がほとんど除去されないシステ
ムにおいて特に有効である。 本発明においては好ましくはチオ硫酸イオンの
除去には強塩基性イオン交換樹脂を、現像抑制剤
の除去には低架橋度の強塩基性イオン交換樹脂、
及び中塩基性樹脂が有効である。 本発明による現像阻害物質の除去は、ハイドロ
キノンやメトール及びフエニドン等を含有する黒
白現像処理においても有効であるが、特に下記一
般式を有する現像薬を含む現像液による処理にお
いて有利に利用出来る。 一般式 上式において、R1は水素原子、アルキル基ま
たは−NHSO2R4基、R2はアルキル基、R3はアル
キレン基、Xは水素原子、水酸基、アルコキシ
基、−SO3H基または−NHSO2R5基、そして、R4
とR5は各々アルキル基である。 上記一般式で示される化合物としては、たとえ
ば、4−アミノ−N、N−ジエチルアニリン、3
−メチル−4−アミノ−N,N−ジエチルアニリ
ン、4−アミノ−N−エチル−N−β−ヒドロキ
シエチルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N
−エチル−N−β−ヒドロキシエチルアニリン、
3−メチル−4−アミノ−N−エチル−N−β−
メタンスルホンアミドエチルアニリン、3−メチ
ル−4−アミノ−N−エチル−N−β−メトキシ
エチルアニリン、4−アミノ−N,N−ジメチル
アニリン、N−エチル−N−β−〔β−(β−メト
キシエトキシ)エトキシ〕エチル−3−メチル−
4−アミノアニリン、N−エチル−N−β−(β
−メトキシエトキシ)エチル−3−メチル−4−
アミノアニリンやこれらの塩、例えば硫酸塩、塩
酸塩、亜硫酸塩、p−トルエンスルホン酸塩など
が挙げられる。 以下実施例により本発明の方法を具体的に述べ
るが本発明はこれらにより限定されるものではな
い。 実施例 1 サクラカラーネガ(小西六写真工業〓)を撮影
した後、次の工程に従つて自動現像機で連続的に
発色現像処理を行なつた。自動現像機はノーリツ
鋼機製シネフイルム自動現像機タイプNCV−24
を使用した。処理工程(38℃)、処理槽数、およ
び処理時間は下記の通りである。 発色現像 1槽 3分15秒 漂 白 2槽 6分30秒 水 洗 1槽 3分15秒 定 着 1槽 6分30秒 水 洗 2槽 4分20秒 安 定 1槽 2分10秒 また使用した発色現像液の組成は次の通りであ
る。 炭酸カリウム 30g 炭酸水素ナトリウム 25g 亜硫酸カリウム 5g 臭化ナトリウム 1.2g 沃化カリウム 2mg ヒドロキシルアミン硫酸塩 2.5g 塩化ナトリウム 0.6g ジエチレントリアミン五酢酸ナトリウム 2.5g 4−アミノ−3−メチル−4−エチル−N− (β−ヒドロキシエチル)アニリン硫酸塩 4.8g 水酸化カリウム 1.2g 水を加えて1とし、水酸化カリウムまたは20
%硫酸を用いてPH10.06に調整する。 使用した発色現像再生剤の組成は次のとおりで
ある。 炭酸カリウム 3.5g 炭酸水素ナトリウム 0.5g 亜硫酸カリウム 1.2g 臭化ナトリウム 0.33g ヒドロキシルアミン硫酸塩 0.7g ジエチレントリアミン五酢酸ナトリウム 0.5g 4−アミノ−3−メチル−4−エチル−N− (β−ヒドロキシエチル)アニリン硫酸塩 0.7g 以上をオーバーフロー液1に加え水酸化カリ
ウムまたは20%硫酸を用いてPH10.12に調整し
た。 使用した漂白液の組成は次のとおりである。 エチレンジアミンテトラ酢酸鉄アンモニウム 100g エチレンジアミンテトラ酢酸2ナトリウム 10g 臭化アンモニウム 150g 氷酢酸 10ml 水を加えて1としアンモニア水または氷酢酸
を用いてPH5.8に調整する。 使用した漂白補充用液の組成は次のとおりであ
る。 エチレンジアミンテトラ酢酸鉄アンモニウム 120g エチレンジアミンテトラ酢酸2ナトリウム 12g 臭化アンモニウム 178g 氷酢酸 21ml 水を加えて1としアンモニア水または氷酢酸
を用いてPH5.6に調整する。 使用した定着液の組成は次のとおりである。 〔チオ硫酸アンモニウム 150g 無水亜硫酸ナトリウム 12g メタ重亜硫酸ナトリウム 2.5g エチレンジアミンテトラ酢酸2ナトリウム 2g 炭酸ナトリウム 10g 水を加えて1とする。 使用した定着補充液の組成は次のとおりであ
る。 チオ硫酸アンモニウム 200g 無水亜硫酸ナトリウム 15g メタ重亜硫酸ナトリウム 3g エチレンジアミンテトラ酢酸2ナトリウム 2.5g 炭酸ナトリウム 14g 水を加えて1とする。 使用した安定液の組成は次のとおりである。 ホルマリン(37%水溶液) 2ml コニダツクス(小西六写真工業(株)製) 5ml 水を加えて1とする。 使用した安定補充液用液の組成は次のとおりで
ある。 ホルマリン(37%水溶液) 3ml コニダツクス(小西六写真工業(株)製) 7ml 水を加えて1とする。 発色現像補充液は、カラーネガフイルム100cm2
当り15ml発色現像浴に補充し、漂白補充用液はサ
クラカラーネガフイルム100cm2当り18ml漂白浴に
補充し、定着補充液はカラーネガフイルム100cm2
当り7ml定着定着浴に補充し、さらに安定補充用
液はカラーネガフイルム100cm2当り10ml安定浴に
補充した。 また水洗水はカラーネガフイルム100cm2当り150
ml流した。 発色現像液オーバーフローの再生は、帝人エン
ジニアリング製電気透析装置を用いた。透析によ
る臭素イオン除去は、パツチ処理で行ないオーバ
ーフロー液50mlを用いて0.16A、6Vで16時間行な
つた。第1回目の透析により臭化カリウムは1.2
g/から0.54g/となつた。その他の成分も
減少するため再生剤で補つた。 現像タンクに5本の樹脂カラムを附設し、処理
タンクから現像液を通じ、液が循環するように循
環ポンプを設置した。循環量は2/分で行なつ
た。 シネ型自動現像機(ノーリツNCV−24)によ
り上記処理液を用いて発色現像液のオーバーフロ
ー液を再生しつゝ処理を行なつた。 現像タンクには5本の樹脂カラムを附設した
が、その各々には以下の如き塩基性イオン交換樹
脂を入れ、1実験につき1日2000mずつを10日間
処理した。 実験 1 樹脂カラムにはイオン交換樹脂の充填なし。 実験 2 強塩基性イオン交換樹脂(三菱ダイヤイオン
SA−11A)の塩化物イオン置換体1000mlを充填
し、フイルター中を強制的に液を通過させた。 実験 3 実験−2と同様な方法でイオン交換樹脂を臭化
物イオン置換体となし、1000mlを充填した。 実験 4 実験−2を同様な方法でイオン交換樹脂を塩化
物イオン置換体および臭化物イオン置換体とな
し、それぞれ500mlずつ充填した。 実験 5 実験−2と同様な方法でイオン交換樹脂を塩化
物イオン置換体となし900mlを充填し、さらに臭
化物イオン置換体となしたものを100ml充填した。 実験 6 実験−2と同様な方法でイオン交換樹脂を塩化
物イオン置換体となし850mlを充填し、更に臭化
物イオン置換体となしたものを150ml充填した。 上記の各実験を通して、それぞれ処理開始時
10000m処理、20000m処理後の3時点における溶
出有機抑制剤、6−メチル−4−ヒドロキシ−
1,3,3a,7−テトラザインデンおよび臭素
イオンの濃度を分析した。以下の第1表、第2表
にその分析結果を示し、また各実験により得られ
た写真濃度の測定結果を第3表に示した。
【表】
【表】
【表】
この結果から明らかなように、イオン交換樹脂
により処理を行なわず、電気透析による再生のみ
を行なつた実験−1では臭化物イオンの濃度は変
動せずに好ましいが、有機抑制剤が蓄積してしま
い現像が抑制され写真濃度が大巾に減少する。ま
た、塩素置換体樹脂のみを用いた実験−2では抑
制剤と同様に臭化物イオンも除去されてしまい、
臭素置換体樹脂のみを用いた実験−3では逆に臭
化物イオンが樹脂から脱離してその濃度が増加し
てしまい、写真濃度に大きく影響する。また本発
明外の比率で樹脂を用いた実験−4および5でも
また、臭化物イオン濃度が変動してしまう。 本発明による比率で樹脂を用いた実験−6では
臭化物イオン濃度が一定に保たれ、かつ抑制剤も
除去されていることがわかる。更に写真濃度に於
いても処理開始時の性能を維持していることがわ
かる。 実施例 2 サクラカラーペーパー(小西六写真工業〓)を
用いて自動プリンターで露光した後、次の工程に
従つて自動現像機で連続的に発色現像処理を行な
つた。自動現像機はノーリツ鋼機製RP−1180プ
ロセツサーを使用した。 処理工程は以下に従つて行なつた。 発色現像 38℃ 3分30秒 漂白定着 33℃ 1分30秒 水 洗 30℃ 2分 乾 燥 80℃ 使用した発色現像液の組成は次のとおりであ
る。 螢光増白剤(チバガイギー、チノパールSFP) 1.0g ベンジルアルコール 13.0ml エチレングリコール 13.0ml 亜硫酸カリウム 2g ヒドロキシルアミン硫酸塩 3.5g 炭酸カリウム 2.6g 塩化マグネシウム 0.3g N−エチル−N−β−メタンスルホンアミド エチル−3−メチル−4−アミノアニリン硫酸 塩 4.5g 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジスルホ
ン酸 0.6g 臭化カリウム 1.5g ヒドロキシイミノ二酢酸 2.5g KOH又はKHCO3でPH10.20に調整する。 使用した発色現像再生剤(補充液20分)の組
成は次のとおりである。 螢光増白剤(チノパールSFP、チバガイギー
製) 11.2g ベンジルアルコール 160.2g ジエチレングリコール 120.0g 亜硫酸カリウム 22.0g ヒドロキシエチリデンジスルホン酸 20g ヒドロキシルアミン硫酸塩 39.2g 炭酸カリウム 186.0g N−エチル−N−β−メタンスルホンアミド エチル−3−メチル−4−アミノアニリン硫酸 塩 78.0g 水酸化カリウム 46.8g 6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,9−テ
トラザインデン 250mg 漂白定着液および漂白定着補充液は、サクラカ
ラーペーパー処理剤タイプCPK−12、および2R
−12を用いた。ランニング処理の発色現像補充液
の量は処理したカラーペーパー200cm2当り6.4mlで
あつた。 本処理機はリーダー搬送方式のため、エンドレ
スベルトを使用してはいない。従つてエンドレス
ベルトによるチオ硫酸イオンの混入を想定し、発
色現像補充液には常に当り20mgのチオ硫酸アン
モニウムを添加して補充し、発色現像液の再生は
オーバーフロー液10.8に再生剤20を加え水で
20に仕上げて補充液とした。 現像タンクに樹脂カラムを3本附設し処理タン
クから現像液を通じ循環ポンプにより毎分2循
環させた。樹脂カラム3本の各々には次の如き塩
基性イオン交換樹脂を入れ、一実験につき1日89
mmサイズペーパーを1000mずつ処理し、10日間行
なつた。 実験 1 樹脂カラムには何も入れず、そのまゝ処理を行
なつた。 実験 2 強塩基性イオン交換樹脂(三菱ダイヤイオン
SA−10A)の塩化物イオン置換体1000mlを充填
し、フイルター中を強制的に通液させた。 実験 3 実験−2と同様な方法でイオン交換樹脂を臭化
物イオン置換体1000mlとした。 実験 4 実験−2と同様な方法でイオン交換樹脂を塩化
物イオン置換体500mlおよび臭化物イオン置換体
500mlとした。 実験 5 実験−2と同様な方法でイオン交換樹脂を塩化
物イオン置換体900mlおよび臭化物イオン置換体
100mlとした。 実験 6 実験−2と同様な方法でイオン交換樹脂を塩化
物イオン置換体833mlおよび臭化物イオン置換体
167mlとした。 各々の実験について、ペーパー処理開始時、
5000m処理後、10000m処理後の各時点における
発色現像タンク液中のチオ硫酸イオンおよび臭素
イオンの濃度を分析した。その分析結果を下記の
第4表および第5表に示す。また得られた写真濃
度について第6表に示した。
により処理を行なわず、電気透析による再生のみ
を行なつた実験−1では臭化物イオンの濃度は変
動せずに好ましいが、有機抑制剤が蓄積してしま
い現像が抑制され写真濃度が大巾に減少する。ま
た、塩素置換体樹脂のみを用いた実験−2では抑
制剤と同様に臭化物イオンも除去されてしまい、
臭素置換体樹脂のみを用いた実験−3では逆に臭
化物イオンが樹脂から脱離してその濃度が増加し
てしまい、写真濃度に大きく影響する。また本発
明外の比率で樹脂を用いた実験−4および5でも
また、臭化物イオン濃度が変動してしまう。 本発明による比率で樹脂を用いた実験−6では
臭化物イオン濃度が一定に保たれ、かつ抑制剤も
除去されていることがわかる。更に写真濃度に於
いても処理開始時の性能を維持していることがわ
かる。 実施例 2 サクラカラーペーパー(小西六写真工業〓)を
用いて自動プリンターで露光した後、次の工程に
従つて自動現像機で連続的に発色現像処理を行な
つた。自動現像機はノーリツ鋼機製RP−1180プ
ロセツサーを使用した。 処理工程は以下に従つて行なつた。 発色現像 38℃ 3分30秒 漂白定着 33℃ 1分30秒 水 洗 30℃ 2分 乾 燥 80℃ 使用した発色現像液の組成は次のとおりであ
る。 螢光増白剤(チバガイギー、チノパールSFP) 1.0g ベンジルアルコール 13.0ml エチレングリコール 13.0ml 亜硫酸カリウム 2g ヒドロキシルアミン硫酸塩 3.5g 炭酸カリウム 2.6g 塩化マグネシウム 0.3g N−エチル−N−β−メタンスルホンアミド エチル−3−メチル−4−アミノアニリン硫酸 塩 4.5g 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジスルホ
ン酸 0.6g 臭化カリウム 1.5g ヒドロキシイミノ二酢酸 2.5g KOH又はKHCO3でPH10.20に調整する。 使用した発色現像再生剤(補充液20分)の組
成は次のとおりである。 螢光増白剤(チノパールSFP、チバガイギー
製) 11.2g ベンジルアルコール 160.2g ジエチレングリコール 120.0g 亜硫酸カリウム 22.0g ヒドロキシエチリデンジスルホン酸 20g ヒドロキシルアミン硫酸塩 39.2g 炭酸カリウム 186.0g N−エチル−N−β−メタンスルホンアミド エチル−3−メチル−4−アミノアニリン硫酸 塩 78.0g 水酸化カリウム 46.8g 6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,9−テ
トラザインデン 250mg 漂白定着液および漂白定着補充液は、サクラカ
ラーペーパー処理剤タイプCPK−12、および2R
−12を用いた。ランニング処理の発色現像補充液
の量は処理したカラーペーパー200cm2当り6.4mlで
あつた。 本処理機はリーダー搬送方式のため、エンドレ
スベルトを使用してはいない。従つてエンドレス
ベルトによるチオ硫酸イオンの混入を想定し、発
色現像補充液には常に当り20mgのチオ硫酸アン
モニウムを添加して補充し、発色現像液の再生は
オーバーフロー液10.8に再生剤20を加え水で
20に仕上げて補充液とした。 現像タンクに樹脂カラムを3本附設し処理タン
クから現像液を通じ循環ポンプにより毎分2循
環させた。樹脂カラム3本の各々には次の如き塩
基性イオン交換樹脂を入れ、一実験につき1日89
mmサイズペーパーを1000mずつ処理し、10日間行
なつた。 実験 1 樹脂カラムには何も入れず、そのまゝ処理を行
なつた。 実験 2 強塩基性イオン交換樹脂(三菱ダイヤイオン
SA−10A)の塩化物イオン置換体1000mlを充填
し、フイルター中を強制的に通液させた。 実験 3 実験−2と同様な方法でイオン交換樹脂を臭化
物イオン置換体1000mlとした。 実験 4 実験−2と同様な方法でイオン交換樹脂を塩化
物イオン置換体500mlおよび臭化物イオン置換体
500mlとした。 実験 5 実験−2と同様な方法でイオン交換樹脂を塩化
物イオン置換体900mlおよび臭化物イオン置換体
100mlとした。 実験 6 実験−2と同様な方法でイオン交換樹脂を塩化
物イオン置換体833mlおよび臭化物イオン置換体
167mlとした。 各々の実験について、ペーパー処理開始時、
5000m処理後、10000m処理後の各時点における
発色現像タンク液中のチオ硫酸イオンおよび臭素
イオンの濃度を分析した。その分析結果を下記の
第4表および第5表に示す。また得られた写真濃
度について第6表に示した。
【表】
【表】
【表】
この結果から明らかなように、イオン交換樹脂
による処理を行なわず、濃厚低補充のみを行なつ
た実験−1では臭化物イオンの濃度は変動せずに
好ましいが、チオ硫酸イオンが蓄積してしまい現
像に大きく影響する。 また塩素イオン置換体樹脂のみを用いた実験−
2では、チオ硫酸イオンと同時に臭化物イオンも
除去されてしまう。臭化物イオン置換体樹脂のみ
を用いた実験−3ではチオ硫酸イオンは効率よく
除去されているが逆に臭化物イオンが樹脂から脱
離してその濃度が増加してしまう。また、本発明
外の比率で樹脂を用いた実験−4および5でもま
た臭化物イオンが変動してしまう。 本発明による比率で樹脂を用いた実験−6で
は、臭化物イオンの濃度が一定に保たれ、かつチ
オ硫酸イオンも効率的に除去されていることがわ
かる。また本発明の方法による比率により樹脂を
使用した場合には、安定した写真濃度を示すこと
もわかつた。
による処理を行なわず、濃厚低補充のみを行なつ
た実験−1では臭化物イオンの濃度は変動せずに
好ましいが、チオ硫酸イオンが蓄積してしまい現
像に大きく影響する。 また塩素イオン置換体樹脂のみを用いた実験−
2では、チオ硫酸イオンと同時に臭化物イオンも
除去されてしまう。臭化物イオン置換体樹脂のみ
を用いた実験−3ではチオ硫酸イオンは効率よく
除去されているが逆に臭化物イオンが樹脂から脱
離してその濃度が増加してしまう。また、本発明
外の比率で樹脂を用いた実験−4および5でもま
た臭化物イオンが変動してしまう。 本発明による比率で樹脂を用いた実験−6で
は、臭化物イオンの濃度が一定に保たれ、かつチ
オ硫酸イオンも効率的に除去されていることがわ
かる。また本発明の方法による比率により樹脂を
使用した場合には、安定した写真濃度を示すこと
もわかつた。
Claims (1)
- 1 塩基性イオン交換樹脂の臭化物イオン置換体
および該樹脂の臭化物イオン以外のアニオン置換
体を、現像液中の臭化物イオン濃度が一定に保た
れる樹脂容量比において現像液と接触せしめるこ
とを特徴とする現像液中の現像阻害成分の除去方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3215081A JPS57146249A (en) | 1981-03-05 | 1981-03-05 | Method for removing development hindering component in developing solution |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3215081A JPS57146249A (en) | 1981-03-05 | 1981-03-05 | Method for removing development hindering component in developing solution |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57146249A JPS57146249A (en) | 1982-09-09 |
JPS6323527B2 true JPS6323527B2 (ja) | 1988-05-17 |
Family
ID=12350874
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3215081A Granted JPS57146249A (en) | 1981-03-05 | 1981-03-05 | Method for removing development hindering component in developing solution |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS57146249A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3437631A1 (de) * | 1984-10-13 | 1986-04-24 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Aufbereitung von gebrauchten entwicklern |
JPS61251852A (ja) | 1985-04-30 | 1986-11-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 |
-
1981
- 1981-03-05 JP JP3215081A patent/JPS57146249A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57146249A (en) | 1982-09-09 |
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