JPS6323268B2 - - Google Patents

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JPS6323268B2
JPS6323268B2 JP55034324A JP3432480A JPS6323268B2 JP S6323268 B2 JPS6323268 B2 JP S6323268B2 JP 55034324 A JP55034324 A JP 55034324A JP 3432480 A JP3432480 A JP 3432480A JP S6323268 B2 JPS6323268 B2 JP S6323268B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
inclined plate
present
sputtering
cores
Prior art date
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Expired
Application number
JP55034324A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS56130469A (en
Inventor
Takeshiro Takechi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Shinku Kogyo KK
Original Assignee
Sanyo Shinku Kogyo KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Shinku Kogyo KK filed Critical Sanyo Shinku Kogyo KK
Priority to JP3432480A priority Critical patent/JPS56130469A/ja
Publication of JPS56130469A publication Critical patent/JPS56130469A/ja
Publication of JPS6323268B2 publication Critical patent/JPS6323268B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/223Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating specially adapted for coating particles

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は装飾用粉粒体の製造方法に関する。
本発明の目的は、貴金属を有効利用するため、
表層部が金、銀等の純貴金属から構成されており
ながら、貴金属の含有率が極めて低い装飾用粉粒
体の製造方法を提供することにある。
本発明の製造方法は、真空槽内に、バイブレー
タにより振動する傾斜板を設けると共に、その傾
斜板と対向して貴金属をスパツタするスパツタリ
ング装置を配設し、傾斜板上に粉末ガラス、セラ
ミツク、プラスチツク、金属等の粉末状核体を連
続的に落下させながらその核体の外周に貴金属を
被覆することを特徴としている。
本発明の粉粒体の大きさは、直径50μ以上の粉
粒体に広く適用することができる。本発明の貴金
属層の厚さは、50オングストローム乃至2000オン
グストロームの範囲が好ましい。従つて、本発明
により得られた装飾用粉粒体を模型的に示すと、
第1図に断面図で示すように、粉末状核体1の外
周を貴金属に薄膜2で被つた構造をしており、貴
金属層2の厚さは粉体全体の径に対し1/250乃至
1/10000程度の極めて薄いものになつている。
本発明は、第2図に示すように、粉末状核体1
の外周に貴金属に結合し易い物質例えばクローム
の中間層3を介して、貴金属層2を被覆してもよ
い。
本発明に用いるスパツタリング装置は、二極ス
パツタ方式、マグネトロンスパツタ方式、高周波
スパツタ方式、反応性スパツタ方式、その他公知
のスパツタ方式を広く使用することができる。
次に本発明の実施例を説明する。
真空槽の壁面に高周波スパツタリング装置のタ
ーゲツトを配設し、そのターゲツトに対向する真
空槽内にステンレス製傾斜板を設けその裏面にバ
イブレータを取付けて傾斜板に振動を与えるよう
に構成し、傾斜板の上部に核体となる#80メツシ
ユのガラス粉末(直径約190μ)を連続的に落下
させる。核体は1分乃至1.5分間ののち傾斜板下
端から落下するように調整しておく。槽内を真空
度1×10-5Torrに排気したのち、アルゴンガス
を導入して2×10-2Torrとし、周波数
13.56MHZ、スパツタ電力600Wにて金のスパツ
タリングを行つたところ、外観上金粉と全く同一
の粉体を連続的に得ることができた。
本発明によれば金粉等の貴金属粉体と同一外観
を呈する粉体を安価かつ簡単に製作することがで
き、貴金属を用いた装飾物品を安価に提供するこ
とができる。また従来、金塊から金箔をつくり金
箔を切断して金粉をつくつていたのに比べ、大層
簡単に金粉様の装飾用粉体を得ることができて極
めて経済的である。また本発明によれば、振動す
る傾斜板上に粉末ガラス等の核体を連続的に落下
させながらスパツタリング処理を行うので、均一
な品質のものを容易に大量生産することができ
る。さらに、未加工の粉粒体を入れた容器と加工
済の粉粒体を集めた容器とは当然に個別に設けら
れることになるから、開閉弁等を付加するだけ
で、真空槽内の雰囲気を保持したまま未加工粉粒
体を補給したり、加工済の粉粒体を取り出したり
することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図はいずれも本発明により得ら
れた装飾用粉末の構造を示す断面図の拡大図であ
る。 1……核体、2……貴金属層。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 真空槽内に、バイブレータにより振動する傾
    斜板を設けると共に、その傾斜板と対向して貴金
    属をスパツタするスパツタリング装置を配設し、
    上記傾斜板上に粉末ガラス、セラミツク、プラス
    チツク、金属等の粉末状核体を連続的に落下させ
    ながらその核体の外周に貴金属を被覆することを
    特徴とす装飾用粉粒体の製造方法。
JP3432480A 1980-03-17 1980-03-17 Manufacture of fine grain for decoration Granted JPS56130469A (en)

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JPS56130469A JPS56130469A (en) 1981-10-13
JPS6323268B2 true JPS6323268B2 (ja) 1988-05-16

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ID=12410966

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JPS56130469A (en) 1981-10-13

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