JPS63227566A - ビス(ヒドロキシフエニル)スルフイドの製造方法 - Google Patents
ビス(ヒドロキシフエニル)スルフイドの製造方法Info
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- JPS63227566A JPS63227566A JP62060139A JP6013987A JPS63227566A JP S63227566 A JPS63227566 A JP S63227566A JP 62060139 A JP62060139 A JP 62060139A JP 6013987 A JP6013987 A JP 6013987A JP S63227566 A JPS63227566 A JP S63227566A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、感熱記録紙用顕色剤として有用な1.7−
ジー(4−ヒドロキシフェニルチオ)−3,5−ジオキ
サへブタンの原料である4−メルカプトフェノールを高
収率で与える構造のビス(ヒドロキシフェニル)スルフ
ィドの製造方法に関する。
ジー(4−ヒドロキシフェニルチオ)−3,5−ジオキ
サへブタンの原料である4−メルカプトフェノールを高
収率で与える構造のビス(ヒドロキシフェニル)スルフ
ィドの製造方法に関する。
[従来の技術]
4−メルカプトフェノールは、感熱記録紙用顕色剤とし
て有用な1,7−シー(4−ヒドロキシフェニルチオ)
−3,5−ジオキサへブタンの製造原料であるが、これ
は例えばビス(ヒドロキシフェニル)スルフィドを還元
分解することによって製造される。そして、このビス(
ヒドロキシフェニル)スルフィドは、通常、無溶媒にお
いてフェノールと硫黄をアルカリ金属の水酸化物の存在
下で反応させる方法が行なわれている(アメリカ特許第
3647885号明細書)。
て有用な1,7−シー(4−ヒドロキシフェニルチオ)
−3,5−ジオキサへブタンの製造原料であるが、これ
は例えばビス(ヒドロキシフェニル)スルフィドを還元
分解することによって製造される。そして、このビス(
ヒドロキシフェニル)スルフィドは、通常、無溶媒にお
いてフェノールと硫黄をアルカリ金属の水酸化物の存在
下で反応させる方法が行なわれている(アメリカ特許第
3647885号明細書)。
しかしながら、この方法は溶媒を用いないで反応を行う
ものであるが、得られるビス(ヒドロキシフェニル)ス
ルフィドからは2−メルカプトフェノールの生成が比較
的多く、目的の4−メルカプトフェノールの生成量が少
ない欠点があった。
ものであるが、得られるビス(ヒドロキシフェニル)ス
ルフィドからは2−メルカプトフェノールの生成が比較
的多く、目的の4−メルカプトフェノールの生成量が少
ない欠点があった。
[発明が解決しようとする問題点1
従来の方法で得られるビス(ヒドロキシフェニル)スル
フィドを還元分解したときに2−メルカプトフェノール
の副生量が多く、有用な4−メルカプトフェノールの生
成量が少ない欠点があったが、本発明は、4−メルカプ
ト7エ/−ルの生成量の多いビス(ヒドロキシフェニル
)スルフィドを提供することを目的とするものである。
フィドを還元分解したときに2−メルカプトフェノール
の副生量が多く、有用な4−メルカプトフェノールの生
成量が少ない欠点があったが、本発明は、4−メルカプ
ト7エ/−ルの生成量の多いビス(ヒドロキシフェニル
)スルフィドを提供することを目的とするものである。
[問題点を解決するための手段1
本発明者は、4−メルカプトフェノールの収率を向上す
るため鋭意研究の結果、アルカリ金属の炭酸塩又は重炭
酸塩の存在下で7エノールと硫黄の反応を行えば、反応
のパラ−オルト位置の比率が変化することを見出して本
発明を完成した。
るため鋭意研究の結果、アルカリ金属の炭酸塩又は重炭
酸塩の存在下で7エノールと硫黄の反応を行えば、反応
のパラ−オルト位置の比率が変化することを見出して本
発明を完成した。
すなわち、本発明はフェノールと硫黄とを、アルカリ金
属の炭酸塩又は重炭酸塩の存在下において、反応させる
ことを特徴とするビス(ヒドロキシフェニル)スルフィ
ドの製造方法を提供するものである。
属の炭酸塩又は重炭酸塩の存在下において、反応させる
ことを特徴とするビス(ヒドロキシフェニル)スルフィ
ドの製造方法を提供するものである。
本発明は次式の方程式に従って起こる。
II
(n=1〜10)
次いで、ビス(ヒドロキシフェニル)スルフィドは亜鉛
と塩酸の存在下の還元分解により、次式の4−メルカプ
トフェノール及び2−メルカプトフェノールが同時に生
成する。前者の物質の生成比率が多いほど望ましく、こ
の生成比率はビス(ヒドロキシフェニル)スルフィドの
構造によって決まるものである。
と塩酸の存在下の還元分解により、次式の4−メルカプ
トフェノール及び2−メルカプトフェノールが同時に生
成する。前者の物質の生成比率が多いほど望ましく、こ
の生成比率はビス(ヒドロキシフェニル)スルフィドの
構造によって決まるものである。
H
本発明に用いる硫黄は同素体が多く、α硫黄又はβ硫黄
の固体状態、γ硫黄又はβ硫黄の固体状態、S2、Sl
、S6又はS8の気体硫黄などの同素体が使用でき、固
体硫黄の形態として単体硫黄、脱酸硫黄、沈降硫黄、コ
ロイド硫黄、不溶性硫黄、高分散硫黄などどのような形
態のものでも使用できる。 本発明に用いるアルカリ金
属の炭酸塩又は重炭酸塩としては、リチウム、ナトリウ
ム又はカリウムの炭酸塩又は重炭酸塩が使用で鰺、例え
ば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、重
炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸リチウムなど
がある。また、炭酸ナトリウムカリウム(KNaCO*
)のような複合塩も使用できる。
の固体状態、γ硫黄又はβ硫黄の固体状態、S2、Sl
、S6又はS8の気体硫黄などの同素体が使用でき、固
体硫黄の形態として単体硫黄、脱酸硫黄、沈降硫黄、コ
ロイド硫黄、不溶性硫黄、高分散硫黄などどのような形
態のものでも使用できる。 本発明に用いるアルカリ金
属の炭酸塩又は重炭酸塩としては、リチウム、ナトリウ
ム又はカリウムの炭酸塩又は重炭酸塩が使用で鰺、例え
ば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、重
炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸リチウムなど
がある。また、炭酸ナトリウムカリウム(KNaCO*
)のような複合塩も使用できる。
これらの化合物は無水物及び−水塩又は多水塩等の結晶
水を含有するもののいずれも使用できる。
水を含有するもののいずれも使用できる。
本発明の反応を溶媒の存在下で実施することができる。
この場合用いる溶媒は極性溶媒が望ましく、4−メルカ
プトフェノールの生産得率が高いビス(ヒドロキシフェ
ニル)スルフィドが得られる。
プトフェノールの生産得率が高いビス(ヒドロキシフェ
ニル)スルフィドが得られる。
本発明に用いることができる極性溶媒は双極子モーメン
ト又は誘電率の比較的大きいものがよく、特に窒素原子
又は酸素原子を極性基として持つ溶媒、例えば、メチル
アルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、
ブチルアルコール、エチレングリコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル
、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリ
コールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチル
エーテル、エチレングリコールモノアセテート、エチレ
ングリコールジアセテート、エチレングリコールモノエ
チルニーテルモ/アセテート、N−エチルアセトアミド
、ピリジン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ジオキサンなど
が使用でき、特に水溶性の溶媒が好適に使用で終る。
ト又は誘電率の比較的大きいものがよく、特に窒素原子
又は酸素原子を極性基として持つ溶媒、例えば、メチル
アルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、
ブチルアルコール、エチレングリコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル
、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリ
コールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチル
エーテル、エチレングリコールモノアセテート、エチレ
ングリコールジアセテート、エチレングリコールモノエ
チルニーテルモ/アセテート、N−エチルアセトアミド
、ピリジン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ジオキサンなど
が使用でき、特に水溶性の溶媒が好適に使用で終る。
本発明の反応は、温度70〜250℃、好ましくは10
0−200℃で、圧力0− S Okg/ cx2G好
ましくは0−25 kg/ cx2Gで、反応時間0.
5−20 hrs。
0−200℃で、圧力0− S Okg/ cx2G好
ましくは0−25 kg/ cx2Gで、反応時間0.
5−20 hrs。
好ましくは、1〜15hrsで行うことができる。
本発明における反応物の使用割合はフェノール1モルに
対し、硫黄0.2〜3.5モル、好ましくは、0.5〜
2モルが適当で2モルを越えると副生物が多量に生成し
、0.5モル未満ではフェノールの転化率が低い。
対し、硫黄0.2〜3.5モル、好ましくは、0.5〜
2モルが適当で2モルを越えると副生物が多量に生成し
、0.5モル未満ではフェノールの転化率が低い。
本発明の反応においては、触媒はフェノール1モルに対
してアルカリ金属として0.005〜0.5当量、好ま
しくは、0.01〜0.25当量を使用し、溶媒を使用
する場合は、10〜2000社、好ましくは、50〜1
000xN使用するのが望ましい。
してアルカリ金属として0.005〜0.5当量、好ま
しくは、0.01〜0.25当量を使用し、溶媒を使用
する場合は、10〜2000社、好ましくは、50〜1
000xN使用するのが望ましい。
本発明の反応はかきまぜ磯付鰺の反応器に、7エ7−ル
と触媒を入れ、温度90〜140℃で窒素気流下でかき
まぜ、均一な溶液とし、これに極性溶媒と硫黄を添加し
て反応させ、行うことができる。
と触媒を入れ、温度90〜140℃で窒素気流下でかき
まぜ、均一な溶液とし、これに極性溶媒と硫黄を添加し
て反応させ、行うことができる。
[実施例]
本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例1〜6及び比較例1〜2
[スルフィドの製造]
電磁かきまぜ装置、温度計、シムロート冷却管及びN2
導入管を備えた50社三ロフラスコに、表示量の7二ノ
ールと表示の触媒を採取し、N2気流下、オイルバスを
用い120°Cで10分間かきまぜた。触媒はフェノー
ルに溶解して均一溶液となった。
導入管を備えた50社三ロフラスコに、表示量の7二ノ
ールと表示の触媒を採取し、N2気流下、オイルバスを
用い120°Cで10分間かきまぜた。触媒はフェノー
ルに溶解して均一溶液となった。
次いで表示量の単体硫黄粉末と溶媒を使用する場合は表
示の溶媒を加え、N2気流下、表示の温度、圧力、時間
で反応を行った。その後、温度100℃以上の結果を次
表に示す。
示の溶媒を加え、N2気流下、表示の温度、圧力、時間
で反応を行った。その後、温度100℃以上の結果を次
表に示す。
まで冷却されたところで水2w1と濃塩酸111を加え
て中和し、反応混合物をろ過して未反応硫黄を除去した
。
て中和し、反応混合物をろ過して未反応硫黄を除去した
。
ろ液に水40R1を加え、液が酸性であることを確認し
た後、エーテル50ylによる抽出を3回行い、水50
11による水洗を3回行い、乾燥濃縮して、油状物質I
を得た。この油状物質Iについで〃スクロマトグラフイ
により、スルフィドの同定と7エノール基準の選択率を
求めた。
た後、エーテル50ylによる抽出を3回行い、水50
11による水洗を3回行い、乾燥濃縮して、油状物質I
を得た。この油状物質Iについで〃スクロマトグラフイ
により、スルフィドの同定と7エノール基準の選択率を
求めた。
[メルカプトフェノールの製造]
上記で得られた油状物質Iを10011f三角フラスコ
に採取し、トルエン10dを加え、さらに亜鉛末16ミ
リモルを加えて50℃でかきまぜながら徐々に濃塩酸4
.5xl!を5分間に亘って滴下し、引き続き1時間か
きまぜて反応を行った。亜鉛末が溶解したことを確認し
、反応混合物を分液ロートに移し、水30′Inによる
水洗を3回行い、乾燥濃縮して油状物質■を得た。この
油状物質■について〃スクaマドグラフィによりメルカ
プトフェノールの同定とスルフィド基準の選択率を求め
た。
に採取し、トルエン10dを加え、さらに亜鉛末16ミ
リモルを加えて50℃でかきまぜながら徐々に濃塩酸4
.5xl!を5分間に亘って滴下し、引き続き1時間か
きまぜて反応を行った。亜鉛末が溶解したことを確認し
、反応混合物を分液ロートに移し、水30′Inによる
水洗を3回行い、乾燥濃縮して油状物質■を得た。この
油状物質■について〃スクaマドグラフィによりメルカ
プトフェノールの同定とスルフィド基準の選択率を求め
た。
手続補正書
特許庁長官 小 川 邦 夫 殿1、事件の表示
昭和62年特許願第60139号
2、発明の名称
ビス(ヒドロキシフェニル)スルフィドの製造方法3、
補正をする者 事件との関係 特許出願人 東京都千代田区丸の内三丁目1番1号 出光石油化学株式会社 代表者 本 郷 睦 4、代理人 東京都港区新橋2丁目2番2号川志満・邦信ビル8階6
、補正により増加する発明の数 0 7、補正の対象 明細書の発明の詳細なりの欄8、補
正の内容 (1) 明細書第3ページの最下行〜第4ページ第1
行の方程式を以下のとおり訂正します。
補正をする者 事件との関係 特許出願人 東京都千代田区丸の内三丁目1番1号 出光石油化学株式会社 代表者 本 郷 睦 4、代理人 東京都港区新橋2丁目2番2号川志満・邦信ビル8階6
、補正により増加する発明の数 0 7、補正の対象 明細書の発明の詳細なりの欄8、補
正の内容 (1) 明細書第3ページの最下行〜第4ページ第1
行の方程式を以下のとおり訂正します。
「
H
(n=1〜B) 」
(2) 同第4ページ下から7〜6行目の「γ硫黄又は
μ硫黄の固体状態、」を「λ硫黄又はμ硫黄の液体状態
、」に訂正します。
μ硫黄の固体状態、」を「λ硫黄又はμ硫黄の液体状態
、」に訂正します。
(3) 同第8ページ8行目の[ガスクロマトグラフィ
により、」を「ガスクロマトグラフィ及び高速液体ガス
クロマトグラフィにより、」に訂正します。
により、」を「ガスクロマトグラフィ及び高速液体ガス
クロマトグラフィにより、」に訂正します。
(4) 第10ページの表中、「溶媒(mL)」を「溶
媒(mA) Jに訂正します。
媒(mA) Jに訂正します。
手続補正書
昭和63年3月10日
1、事件の表示
昭和62年特許願第60139号
2、発明の名称
ビス(ヒドロキシフェニル)スルフィドの製造方法3、
補正をする者 事件との関係 特許出願人 東京都千代田区丸の内三丁目1番1号 出光石油化学株式会社 代表者 本 郷 睦 4、代理人 5、補正命令の日付 自 発 6、補正により増加する発明の数 07、補正の対象
昭和63年3月4日付手続補正嘗の8、補正の内容 (1) 昭和63年3月4日付手続補正書の8゜補正
の内容(3)を以下のとおり訂正します。
補正をする者 事件との関係 特許出願人 東京都千代田区丸の内三丁目1番1号 出光石油化学株式会社 代表者 本 郷 睦 4、代理人 5、補正命令の日付 自 発 6、補正により増加する発明の数 07、補正の対象
昭和63年3月4日付手続補正嘗の8、補正の内容 (1) 昭和63年3月4日付手続補正書の8゜補正
の内容(3)を以下のとおり訂正します。
「ガスクロマトグラフィ及び高速液体クロマトグラフィ
により、」
により、」
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 アルカリ金属の炭酸塩又は重炭酸塩の存在下におい
て、フェノールと硫黄とを、反応させることを特徴とす
るビス(ヒドロキシフェニル)スルフィドの製造方法。 2 溶媒の存在下で反応させることを特徴とする特許請
求範囲第1項記載のビス(ヒドロキシフェニル)スルフ
ィドの製造方法。 3 溶媒が極性溶媒であることを特徴とする特許請求範
囲第2項記載のビス(ヒドロキシフェニル)スルフィド
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62060139A JPS63227566A (ja) | 1987-03-17 | 1987-03-17 | ビス(ヒドロキシフエニル)スルフイドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62060139A JPS63227566A (ja) | 1987-03-17 | 1987-03-17 | ビス(ヒドロキシフエニル)スルフイドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63227566A true JPS63227566A (ja) | 1988-09-21 |
JPH054382B2 JPH054382B2 (ja) | 1993-01-19 |
Family
ID=13133508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62060139A Granted JPS63227566A (ja) | 1987-03-17 | 1987-03-17 | ビス(ヒドロキシフエニル)スルフイドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63227566A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2351736A1 (de) * | 2008-03-13 | 2011-08-03 | Basf Se | Lösungen von Thioethern und ihre Verwendung zur Herstellung von Leder |
CN103896815A (zh) * | 2014-03-26 | 2014-07-02 | 安徽师范大学 | 一种邻位巯基苯酚衍生物及其制备方法 |
-
1987
- 1987-03-17 JP JP62060139A patent/JPS63227566A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2351736A1 (de) * | 2008-03-13 | 2011-08-03 | Basf Se | Lösungen von Thioethern und ihre Verwendung zur Herstellung von Leder |
CN103896815A (zh) * | 2014-03-26 | 2014-07-02 | 安徽师范大学 | 一种邻位巯基苯酚衍生物及其制备方法 |
CN103896815B (zh) * | 2014-03-26 | 2016-03-30 | 安徽师范大学 | 一种邻位巯基苯酚衍生物及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH054382B2 (ja) | 1993-01-19 |
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Legal Events
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