JPS5852966B2 - 有機フッ素化合物の製造法 - Google Patents

有機フッ素化合物の製造法

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JPS5852966B2
JPS5852966B2 JP54084382A JP8438279A JPS5852966B2 JP S5852966 B2 JPS5852966 B2 JP S5852966B2 JP 54084382 A JP54084382 A JP 54084382A JP 8438279 A JP8438279 A JP 8438279A JP S5852966 B2 JPS5852966 B2 JP S5852966B2
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JP
Japan
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reaction
copper
halogen
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tetrahalogenomethane
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稜丸 熊懐
健二郎 山本
義郎 小林
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は有機フッ素化合物の製造法に関し、更に詳しく
はトリフルオルメチル基が芳香族核を構成しない炭素に
結合した化合物の製造法に関するものである。
本発明者らは、先に一般式CF3X(Xは、Br又は■
)で示されるテトラハロゲノメタンと芳香族ハライドを
金属銅の存在下、極性溶媒中70〜200°Cで反応さ
せてトリフルオルメチル基が芳香族核に直接結合した化
合物を製造する方法を提案した。
(特公昭50−11891号公報参照)。この方法は芳
香族核にトリフルオルメチル基を直接結合させるために
は極めて有用な方法であるといえる。
しかしながら、アルキル基やアルケニル基を構成する炭
素のような芳香族核を構成しない炭素にトリフルオルメ
チル基を結合させる方法は知られておらず、また、上記
のような方法はアリール基とアルキル基等の反応性の相
違からそのまま応用できるとは考えられなかった。
本発明者らは芳香族核を構成しない炭素にトリフルオル
メチル基を結合させる方法について種々研究を行った結
果、一般式CF3X(Xは、Br又は■)で示されるテ
トラハロゲノメタン、金属銅およびフッ素以外の活性非
核置換ハロゲンを有するハロゲン置換体を、極性溶媒の
存在下に反応させると好収率で目的とする有機フッ素化
合物が得られることを知り、本発明を完成するに至った
一般式CF3Xで示されるテトラハロゲノのメタンとし
ては、トリフルオルメチルフロマイト、トリフルオルメ
チルアイオダイドが挙げられるが、トリフルオルメチル
アイオダイドが一般に反応性が良好であって好結果を与
える。
反応に使用する金属銅として11、銅塊又は銅片を機械
的に粉砕したもの、市販の銅粉又は真鍮粉のような銅を
主体とする合金粉末を使用してもよいが、これらをヨウ
素のアセント溶液などで処理して清浄にしたものを使用
するのがよい。
特に好ましい銅粉としては、硫酸銅なとの銅塩の水溶液
に銅よりイオン化傾向の大きい金属、例えば亜鉛などの
粉末を加えて析出させた銅粉があげられる。
トリフルオルメチル基を導入するハロゲン置換体は、塩
素、臭素、ヨウ素のような活性置換ハロゲンが芳香核を
構成しない炭素に結合したものであり、例えばアルキル
ハライド、アシルハライド、アルケニルハライド、アリ
ルハライド、ベンジルハライドなどがある。
ハロゲン置換体は一級、二級、三級ハライドが使用可能
であり対応するトリフルオルメチル置換体を与える。
反応は極性溶媒の存在下に行う。
極性溶媒としてはジメチルホルムアミド、ジエチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ピリジン
、ピコリン、ヘキサメチルホスホ−ルアミドなどが挙げ
られるが、ヘキサメチルホスホ−ルアミドが一般に最も
良好な結果を与える。
これは、ヘキサメチルホスホ−ルアミドが銅とテトラハ
ロゲノメタンとの反応で形成する銅錯体の安定性を増大
させるためと考えられる。
テトラハロゲノメタン、金属銅およびハロゲン置換体と
の反応は、これを極性溶媒中70〜200℃で加熱する
ことにより生起する。
本発明の反応は上記3つの反応物質を極性溶媒中で反応
させることにより開始するが、テトラハロゲノメタンと
金属銅とを極性溶媒中で反応させて銅錯体を形成させた
のち、ハロゲン置換体を添加してトリフルオルメチル化
反応を行う。
銅錯体を形成させるための反応は比較的高い反応温度を
要するが、次のハロゲン置換体との反応は比較的低い反
応温度でも進行するので、反応を2段に分けて行うこと
はハロゲン置換体が不安定であったり、縮合し易い場合
には副反応を著しく減じることができる。
また、テトラハロゲノメタンと金属銅を反応させて銅錯
体を形成させたのちめ反応液は、これを濾過等の手段に
より未反応の金属銅を分離除去する。
金属銅の残存する反応峨にノ\ロゲン置換体を添加して
次の反応を行うと、副反応が一般に増大する他、製品の
精製も困難となる。
反応を2段に分けて行う場合、金属銅とテトラハロゲノ
メタンとの反応は、例えはへキサメチルホスホ−ルアミ
ド溶媒中(こ銅粉を添加し、これに減圧、冷却下、トリ
フルオルメチルアイオダイドを封入し、70〜200℃
好ましくは90〜160℃で反応させると銅錯体が生成
する。
この反応は次式に従って起ると考えられる。
C烏I+2Cu−+CF3−Cu+Cu Iしたがって
、この反応ではテトラハロゲノメタンに対し金属銅が2
倍モル必要であるが、テトラハロゲノメタンを完全に反
応させるためには2倍モル以上の過剰量を使用すること
が望ましい。
テトラハロゲノメタンは完全に反応させることが望まし
く、また過剰の未反応金属銅は反応終了後これを除去す
る。
かくして得られた極性溶媒中に銅錯体を溶解する反応液
には、ハロゲン置換体を添加して次の反応を行う。
この際の反応温度は常温〜150°C好ましくは常温〜
100℃の範囲が適当であり、ハロゲン置換体の種類に
よっては常温でも反応が進行し、トリフルオルメチル置
換体が生成する。
この反応は次式%式%( は、アルキル基等を示し、Xは芳香族核に直接結合しな
いヨウ素臭素又は塩素を示す)のように進行すると推定
される。
したがって、この反応では銅錯体に対し等モルのハロゲ
ン置換体(活性ハロゲンが一つの場合)が必要であるが
、ハロゲン置換体は等モルないしはやや少なめにして完
全に反応させることが望ましい。
反応の進行状況は、薄層クロマトグラフィー又はガスク
ロマトグラフィーによって監視できる。
本発明方法の特徴は、芳香族核を構成しない炭素原子に
トリフルオルメチル基を導入できることであり、従来方
法のように炭素原子をフッ素化するのとは本質的に異な
る。
もちろん、一つの化合物に2個以上のトリフルオルメチ
ル基を導入することもできる。
更に、SF4を用いる従来法のように毒性、腐食性の強
い原料を使用しないこと、反応条件が従来法に比して低
温、中性付近の緩和な条件でよいことなどの数多くの効
果を奏する。
以下に本発明の実施例を示す。
実施例において、特にことわりのない限り反応は次のよ
うにして行った。
ステンレススチール製の反応器に、ヘキサメチルホスホ
ールトリアミド(HMPAと略称する)20−25ml
と銅粉(Cu)3〜5gを入れ、減圧、冷却下にOF3
■3゜5〜4Tllを封入して、115〜120’Cで
2.5〜3時間振盪して銅錯体を形成させる反応を行う
反応終了後、室温まで放冷し、ドライボックス中でN2
雰囲気下セライト濾過して未反応の銅粉を除去する。
濃緑色の銅錯体溶液にハロゲン置換体を添加し、ハロゲ
ン置換体が消失するまで撹拌を続けて反応を行う。
反応終了後、冷却したエーテル中に反応液を注ぎ、水を
加えて撹拌後、析出した固形物をセライト濾過して除き
、ろ液をエーテル−ペンタンで抽出、水洗してヘキサメ
チルホスホールl−IJアミドを除いたのち、硫酸マグ
ネシウムで脱水する。
次いで、これを50℃を越えないように加温して溶媒を
留去したのち、反応生成物をワーゲルローハで精製して
生成物を得る。
実施例 1〜10 種々のハロゲン置換体を使用して反応を行った。
反応条件を第1表に、反応結果を第2表に示す。
比較例 ヨウ化デシル1g1銅粉1gとジメチルホルムアミドを
ステンレススチール製の反応器に入れ、これにCF3I
3gを導入して、120℃で20時間反応させたとこ
ろ、微量のデカンやフルオロデカンがガスマスで確認さ
れたにとどまり、トリフルオルメチル基を有するフッ素
化合物は得られなかった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式CF3X(又は、Br又は■)で示されるテ
    トラハロゲノメタンと金属鋼を極性溶媒の存在下に反応
    させて銅錯体を形成させ、次いで未反応の金属鋼を除去
    したのち、フッ素以外の活性非核置換ハロゲンを有する
    ハロゲン置換体を添加して常温〜150℃で反応させる
    ことを特徴とするトリフルオルメチル基が芳香族核を構
    成しない炭素に結合した有機フッ素化合物の製造法。 2 極性溶媒としてヘキサメチルホスホ−ルアミドを使
    用する特許請求の範囲第1項記載の製造法。 3 テトラハロゲノメタンがCF3Iである特許請求の
    範囲第1項又は第2項記載の製造法。
JP54084382A 1979-07-05 1979-07-05 有機フッ素化合物の製造法 Expired JPS5852966B2 (ja)

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JPS5610121A JPS5610121A (en) 1981-02-02
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JPS5011891A (ja) * 1973-06-07 1975-02-06

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