JPS6322055A - 新規光学活性ヒドロキシエステル - Google Patents
新規光学活性ヒドロキシエステルInfo
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- JPS6322055A JPS6322055A JP61164417A JP16441786A JPS6322055A JP S6322055 A JPS6322055 A JP S6322055A JP 61164417 A JP61164417 A JP 61164417A JP 16441786 A JP16441786 A JP 16441786A JP S6322055 A JPS6322055 A JP S6322055A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/02—Esters of acyclic saturated monocarboxylic acids having the carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or to hydrogen
- C07C69/12—Acetic acid esters
- C07C69/16—Acetic acid esters of dihydroxylic compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
皇栗上旦■可分！
本発明は新規光学活性ヒドロキシエステルに関し、詳し
くは、Ｒｅｄ ｉｍｐｏｒｔｅｄ ｆｉｒｅ ａｎｔ
（Ｓｏｌｅｎｏｐ−ｓｉｓ １ｎｖｉｃｔａ）の女工認
識フェロモンの一成分であるインピクトライドを合成す
るための重要な中間体である（２Ｓ、 ３Ｓ、 ４Ｒ）
−（＋）−及び（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−（−）−３−
ヒドロキシ−２，４−ジメチルへブタン酸メチルに関す
る。
くは、Ｒｅｄ ｉｍｐｏｒｔｅｄ ｆｉｒｅ ａｎｔ
（Ｓｏｌｅｎｏｐ−ｓｉｓ １ｎｖｉｃｔａ）の女工認
識フェロモンの一成分であるインピクトライドを合成す
るための重要な中間体である（２Ｓ、 ３Ｓ、 ４Ｒ）
−（＋）−及び（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−（−）−３−
ヒドロキシ−２，４−ジメチルへブタン酸メチルに関す
る。
従来の技術
Ｒｅｄ ｉｍｐｏｒｔｅｄ ｆｉｒｅ ａｎｔは、特に
、アメリカ合衆国において、農作物に甚大な損害を与え
ている害虫であるが、近年、農薬の使用が次々に規制さ
れ、或いは禁止さえされるに至って、その新たな防除方
法が強く要望されている。
、アメリカ合衆国において、農作物に甚大な損害を与え
ている害虫であるが、近年、農薬の使用が次々に規制さ
れ、或いは禁止さえされるに至って、その新たな防除方
法が強く要望されている。
そこで、種々の生理活性物質を用いる防除方法が研究さ
れ、フェロモンを用いる方法が注目されている。なかで
も、女工認識フェロモンは、働きアリが女工を認識する
ためのフェロモンであるので、かかる女工認識フェロモ
ンを用いることによって、効果的な防除が可能である。
れ、フェロモンを用いる方法が注目されている。なかで
も、女工認識フェロモンは、働きアリが女工を認識する
ためのフェロモンであるので、かかる女工認識フェロモ
ンを用いることによって、効果的な防除が可能である。
女工認識フェロモンは、主として、次の３成分からなる
。
。
（ａ） （ｂｌ （Ｃ）な
かでも、インピクトライドと呼ばれる化合物（ｂ）は、
四つの不斉炭素を含むために、その立体選択的な合成は
極めて困難であって、従来、僅かにＺｉｅｇｌｅｒら（
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ、 ２７＋
１２２９（１９８６）による報告があるにすぎない。し
かし、この方法は、多数の工程を必要とするので、工業
的な製造方法としては採用し難く、更に、得られるイン
ピクトライドの光学純度が低い。
かでも、インピクトライドと呼ばれる化合物（ｂ）は、
四つの不斉炭素を含むために、その立体選択的な合成は
極めて困難であって、従来、僅かにＺｉｅｇｌｅｒら（
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ、 ２７＋
１２２９（１９８６）による報告があるにすぎない。し
かし、この方法は、多数の工程を必要とするので、工業
的な製造方法としては採用し難く、更に、得られるイン
ピクトライドの光学純度が低い。
発Ｈが解′ しようとする５題寺
そこで、本発明者らは、光学活性インピクトライドの簡
単で且つ工業的な製造方法を確立すべく鋭意研究した結
果、その立体選択的合成のための出発物質としての本発
明による新規な光学活性ヒドロキシエステルを得ること
に成功すると共に、これを出発物質とすることによって
、短工程によって、光学純度の高い光学活性インピクト
ライドを容易に製造し得ることを見出して、本発明に至
ったものである。
単で且つ工業的な製造方法を確立すべく鋭意研究した結
果、その立体選択的合成のための出発物質としての本発
明による新規な光学活性ヒドロキシエステルを得ること
に成功すると共に、これを出発物質とすることによって
、短工程によって、光学純度の高い光学活性インピクト
ライドを容易に製造し得ることを見出して、本発明に至
ったものである。
従って、本発明は、新規な光学活性ヒドロキシエステル
、特に、光学純度の高い光学活性インピクトライドを容
易に製造し得るための出発物質として有用である光学活
性３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルへブタン酸メチル
を提供することを目的とする。
、特に、光学純度の高い光学活性インピクトライドを容
易に製造し得るための出発物質として有用である光学活
性３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルへブタン酸メチル
を提供することを目的とする。
５題点を”°するための手段
本発明による新規な光学活性ヒドロキシエステＨ
（但し、２，３及び４位の立体配置は、（２Ｓ、３Ｓ、
４１？）又は（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）である。） で表わされる。
４１？）又は（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）である。） で表わされる。
即ち、本発明によって、構造式（１ａ）で表わされる（
２Ｓ、 ３Ｓ、 ４Ｒ） −（＋） −３−ヒドロキシ
−２，４−ジメチルへブタン酸メチル及び構造式（１ｂ
）で表わされる（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ） −（−）−３−
ヒドロキシ−２，４−ジメチルへブタン酸メチルが新規
光学活性ヒドロキシエステルとして提供される。
２Ｓ、 ３Ｓ、 ４Ｒ） −（＋） −３−ヒドロキシ
−２，４−ジメチルへブタン酸メチル及び構造式（１ｂ
）で表わされる（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ） −（−）−３−
ヒドロキシ−２，４−ジメチルへブタン酸メチルが新規
光学活性ヒドロキシエステルとして提供される。
０）１ ０Ｈ（ｌａ）
（ｌｂ）本発明による
かかる光学活性ヒドロキシエステルは、既に知られてい
る光学活性エポキシド（２）から、次のスキームに従っ
て得ることができる（Ｋ。
（ｌｂ）本発明による
かかる光学活性ヒドロキシエステルは、既に知られてい
る光学活性エポキシド（２）から、次のスキームに従っ
て得ることができる（Ｋ。
Ｍｏｒ ｉら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、 ３６．２２
０９ （１９８０））。
０９ （１９８０））。
↑ ↑
即ち、先ず、エポキシド（２）をシアンイオンにて開環
し、酸処理してヒドロキシ酸とし、これをメチルエステ
ル化して、ヒドロキシエステル（３）を得る。次いで、
このヒドロキシエステルに塩基の存在下にヨウ化メチル
を作用させてα−メチル化することによって、本発明に
よる光学活性ヒドロキシエステル（１）を得る。
し、酸処理してヒドロキシ酸とし、これをメチルエステ
ル化して、ヒドロキシエステル（３）を得る。次いで、
このヒドロキシエステルに塩基の存在下にヨウ化メチル
を作用させてα−メチル化することによって、本発明に
よる光学活性ヒドロキシエステル（１）を得る。
以下、本発明の光学活性アルコールの製造について詳細
に説明する。
に説明する。
光学活性エポキシド（２）は、例えば、上記文献に記載
された方法に従って、光学活性アミノ酸（４）から得る
ことができる。
された方法に従って、光学活性アミノ酸（４）から得る
ことができる。
Ｎｌ２ ＯＨ
（＋ ） −（４） （５）（
−’）−（２１ 同様に、（−）−（４）から（＋）−（２）を得ること
ができる。
−’）−（２１ 同様に、（−）−（４）から（＋）−（２）を得ること
ができる。
上記エポキシド（２）を開環するには、溶剤中にてエポ
キシド（２）に対してその１〜１０当量、好ましくは１
．２〜５当量のシアン化アルカリ、例えば、シアン化ナ
トリウムやシアン化カリウム等を反応させる。ここに、
上記溶剤としては、上記エポキシド（２）及び用いるシ
アン化アルカリを溶解させ、且つ、シアンイオンによる
エポキシドの開環反応を阻害しない限りは、特に限定さ
れるものではないが、好ましくはメタノール、エタノー
ル等の低級脂肪族アルコールや、これらの水溶液が用い
られる０反応部度は、常温乃至は用いる溶剤の沸点まで
の範囲であり、好ましくは、５０℃乃至用いる溶剤の沸
点以下の範囲の温度である。反応終了後、反応液を濃縮
し、酸処理すれば、ヒドロキシカルボン酸を得る。この
ヒドロキシカルボン酸を常法に従ってメチルエステル化
することによって、前記ヒドロキシエステル（３）を得
る。
キシド（２）に対してその１〜１０当量、好ましくは１
．２〜５当量のシアン化アルカリ、例えば、シアン化ナ
トリウムやシアン化カリウム等を反応させる。ここに、
上記溶剤としては、上記エポキシド（２）及び用いるシ
アン化アルカリを溶解させ、且つ、シアンイオンによる
エポキシドの開環反応を阻害しない限りは、特に限定さ
れるものではないが、好ましくはメタノール、エタノー
ル等の低級脂肪族アルコールや、これらの水溶液が用い
られる０反応部度は、常温乃至は用いる溶剤の沸点まで
の範囲であり、好ましくは、５０℃乃至用いる溶剤の沸
点以下の範囲の温度である。反応終了後、反応液を濃縮
し、酸処理すれば、ヒドロキシカルボン酸を得る。この
ヒドロキシカルボン酸を常法に従ってメチルエステル化
することによって、前記ヒドロキシエステル（３）を得
る。
次に、このヒドロキシエステル（３）の２位炭素に立体
選択的にメチル基を導入するには、Ｆｒ５ｔｅｒの方法
（Ｇ、Ｆｒ６ｔｅｒ、 Ｈｅ１ｖ、 ６２．６８２９
（１９７９）によることができる。例えば、先ず、ヒド
ロキシエステル（３）に溶剤中にて好ましくは０℃以下
の低温にて２当量以上、好ましくは２〜４当量のリチウ
ムジイソプロピルアミドを反応させ、次いで、ヨウ化メ
チルを反応させる。この反応において、溶剤としては、
反応に有害な影響を及ぼさない限りは、特に限定される
ものではないが、通常、乾燥テトラヒドロフランが好適
である。ヨウ化メチルの使用１は、ヒドロキシエステル
に対して当量以上、好ましくは１〜３当量であり、好ま
しくは０℃以下の温度にて反応させる。このメチル化反
応を常法によって停止させた後、例えば、クロマトグラ
フィーや蒸留によって、反応生成物であるヒドロキシエ
ステル（１）を分離する。
選択的にメチル基を導入するには、Ｆｒ５ｔｅｒの方法
（Ｇ、Ｆｒ６ｔｅｒ、 Ｈｅ１ｖ、 ６２．６８２９
（１９７９）によることができる。例えば、先ず、ヒド
ロキシエステル（３）に溶剤中にて好ましくは０℃以下
の低温にて２当量以上、好ましくは２〜４当量のリチウ
ムジイソプロピルアミドを反応させ、次いで、ヨウ化メ
チルを反応させる。この反応において、溶剤としては、
反応に有害な影響を及ぼさない限りは、特に限定される
ものではないが、通常、乾燥テトラヒドロフランが好適
である。ヨウ化メチルの使用１は、ヒドロキシエステル
に対して当量以上、好ましくは１〜３当量であり、好ま
しくは０℃以下の温度にて反応させる。このメチル化反
応を常法によって停止させた後、例えば、クロマトグラ
フィーや蒸留によって、反応生成物であるヒドロキシエ
ステル（１）を分離する。
本発明によるこの光学活性ヒドロキシエステルは、次の
スキームに従って、インピクトライドに導くことができ
る。
スキームに従って、インピクトライドに導くことができ
る。
即ち、光学活性ヒドロキシエステル（１）に酸触媒の存
在下にジヒドロビランを反応させて、水酸基を保護した
化合’＃ （６１を得、次いで、そのエステル基を水素
化リチウムアルミニウムにて還元して、化合物（７）を
得る。この化合物（７）をトシル化した後、ヨウ素化し
、これをＥｖａｎｓらの方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔｅｒｓ、２４．４２３３ （１９８０））に従
って、プロリノールのプロピオン酸アミドを用いて、不
斉アルキル化し、酸処理することによって、脱保護基、
脱プロリノール及びラクトン化が起って、インピクトラ
イド（ｂｌを得ることができる。
在下にジヒドロビランを反応させて、水酸基を保護した
化合’＃ （６１を得、次いで、そのエステル基を水素
化リチウムアルミニウムにて還元して、化合物（７）を
得る。この化合物（７）をトシル化した後、ヨウ素化し
、これをＥｖａｎｓらの方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔｅｒｓ、２４．４２３３ （１９８０））に従
って、プロリノールのプロピオン酸アミドを用いて、不
斉アルキル化し、酸処理することによって、脱保護基、
脱プロリノール及びラクトン化が起って、インピクトラ
イド（ｂｌを得ることができる。
衾里■塾来
本発明による光学活性ヒドロキシエステルを出発物質と
して用いることによって、短工程にて光学純度の高い光
学活性インピクトライドを容易に得ることができる。
して用いることによって、短工程にて光学純度の高い光
学活性インピクトライドを容易に得ることができる。
実施例
以下に本発明の実施例を挙げる。
（＋）−３−ヒドロキシ−４−メチルへブタン酸メチル
（３）の合成 （−）−エポキシド（２１７２０ｍｇ （５，７１ｍｍ
ｏｌ）及びシアン化ナトリウム８４０ｍｇ （１７，１
ｍｍｏｌ）を４０％エタノール水溶液１０ｍ１に溶解し
て、６時間還流させた後、エタノールを減圧留去した。
（３）の合成 （−）−エポキシド（２１７２０ｍｇ （５，７１ｍｍ
ｏｌ）及びシアン化ナトリウム８４０ｍｇ （１７，１
ｍｍｏｌ）を４０％エタノール水溶液１０ｍ１に溶解し
て、６時間還流させた後、エタノールを減圧留去した。
エーテルにて水層を洗浄し、この水層に２Ｎ塩酸を加え
て、そのｐＨを３．５とした。これを塩化メチレンにて
抽出し、硫酸ナトリウム上で乾燥した後、濾過、濃縮し
て、粗製３−ヒドロキシ−４−メチルへブタン酸０．９
０ ｇを得た。
て、そのｐＨを３．５とした。これを塩化メチレンにて
抽出し、硫酸ナトリウム上で乾燥した後、濾過、濃縮し
て、粗製３−ヒドロキシ−４−メチルへブタン酸０．９
０ ｇを得た。
これをジアゾメタンにて処理した後、蒸留して、（＋）
−３−ヒドロキシ−４−メチルへブタン酸メチル（３）
５６０ｍｇ （収率５６．３％）を得た。
−３−ヒドロキシ−４−メチルへブタン酸メチル（３）
５６０ｍｇ （収率５６．３％）を得た。
（＋）−エポキシド（２）を用いた以外は、上記と同様
にして、（−）−３−ヒドロキシ−４−メチルへブタン
酸メチル（３）を収率３６％にて得た。
にして、（−）−３−ヒドロキシ−４−メチルへブタン
酸メチル（３）を収率３６％にて得た。
乾燥テトラヒドロフラン４０ｍ１中にてジイソプロピル
アミン１．３１ ｇ （１２，９ｍｍｏｌ）にｎ−ブチ
ルリチウム５．２２ｍｌ （１，６５Ｎヘキサン溶液、
８゜６１ｍｍｏｌ）を−１５℃の温度にて２０分間反応
させて、リチウムジイソプロピルアミド溶液を調製した
。
アミン１．３１ ｇ （１２，９ｍｍｏｌ）にｎ−ブチ
ルリチウム５．２２ｍｌ （１，６５Ｎヘキサン溶液、
８゜６１ｍｍｏｌ）を−１５℃の温度にて２０分間反応
させて、リチウムジイソプロピルアミド溶液を調製した
。
（＋）−３−ヒドロキシ−４−メチルへブタン酸メチル
（３）５００ｍｇ （２，８７ｍｍｏｌ）を乾燥テトラ
ヒドロフラン５ｍｌに溶解してなる溶液を上記リチウム
ジイソプロピルアミド溶液に一６５℃において窒素雰囲
気下に１分間で滴下し、−１５℃にて３５分間反応させ
た。この後、ヘキサメチルリン酸アミド２．２５ｍｌ
（１２，９ｍｍｏｌ）を加え、再び一６５℃とした。
（３）５００ｍｇ （２，８７ｍｍｏｌ）を乾燥テトラ
ヒドロフラン５ｍｌに溶解してなる溶液を上記リチウム
ジイソプロピルアミド溶液に一６５℃において窒素雰囲
気下に１分間で滴下し、−１５℃にて３５分間反応させ
た。この後、ヘキサメチルリン酸アミド２．２５ｍｌ
（１２，９ｍｍｏｌ）を加え、再び一６５℃とした。
ヨウ化メチル１０２７ｍｇ （７，２３ｍｍｏ＋）を乾
燥テトラヒドロフラン５ｍｌに溶解してなる溶液を一６
５℃において２分間で滴下し、その後、−６５°Ｃで４
時間反応させ、更に、−４０℃にて１日間反応させ、更
に、−２０℃にて３日間放置した。
燥テトラヒドロフラン５ｍｌに溶解してなる溶液を一６
５℃において２分間で滴下し、その後、−６５°Ｃで４
時間反応させ、更に、−４０℃にて１日間反応させ、更
に、−２０℃にて３日間放置した。
この後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて、反応を
停止した。これをエーテルにて抽出し、このエーテル層
を食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウム上で乾燥し。
停止した。これをエーテルにて抽出し、このエーテル層
を食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウム上で乾燥し。
濾過、濃縮後、蒸留して、（＋）−３−ヒドロキシ−２
，４−ジメチルへブタン酸メチル（ｌａ） ３５２ｍｇ
（収率６５．１％）を得た。
，４−ジメチルへブタン酸メチル（ｌａ） ３５２ｍｇ
（収率６５．１％）を得た。
（２Ｓ、 ３Ｓ、 ４Ｒ） −（＋） −３−ヒドロキ
シ−２，４−ジメチル−３−へブタン酸メチル（１ａ）
の赤外線吸収スペクトル、プロトン核磁気共鳴スペクト
ル及び１３ｃ核磁気共鳴スペクトルをそれぞれ第１図、
第２図及び第３図に示す。
シ−２，４−ジメチル−３−へブタン酸メチル（１ａ）
の赤外線吸収スペクトル、プロトン核磁気共鳴スペクト
ル及び１３ｃ核磁気共鳴スペクトルをそれぞれ第１図、
第２図及び第３図に示す。
両立 ７５〜７８℃／ １．５ ｍｍｆ１ｇ元素分扼Ｃ
Ｃ１ｏＨｚ。０３） ＣＨ 実験値 ６３．５２ １０．８８計算値
６３．７９ １０．７１ハ外線吸収スペクトル
（ｎｅａｔ） ３５２０（ｍ）、 ２９６０（ｓ）、 ２９３０（ｓ）
、 ２８８０（ｍＬ １７２５（ｓ）。
Ｃ１ｏＨｚ。０３） ＣＨ 実験値 ６３．５２ １０．８８計算値
６３．７９ １０．７１ハ外線吸収スペクトル
（ｎｅａｔ） ３５２０（ｍ）、 ２９６０（ｓ）、 ２９３０（ｓ）
、 ２８８０（ｍＬ １７２５（ｓ）。
１４６０（ｓ）、 １４３５（ｍ）、 １３８０（ｍ）
、 １２６０（ｍ）、 １２００（ｓ）。
、 １２６０（ｍ）、 １２００（ｓ）。
１１７０（ｓ）、 １１４０（ｍ）、 １１ｌ１０５（
、１０１０３０（、９８０（ｍ）。
、１０１０３０（、９８０（ｍ）。
９５５（ｍ）、 ９１５（貨）＋ ８５５（臀）、 ７
４０（ｗ）。
４０（ｗ）。
′Ｈ−核磁気共鳴スペ、クトル（４００ＭＨｚ、 ＣＤ
Ｃ１ｚ）０．８７２（３Ｈ，ｄ、 Ｊ＝６．８Ｈｚ）
、 ０．９０４（３８，ｔ、 Ｊ＝７Ｈ２）。
Ｃ１ｚ）０．８７２（３Ｈ，ｄ、 Ｊ＝６．８Ｈｚ）
、 ０．９０４（３８，ｔ、 Ｊ＝７Ｈ２）。
１．１６１（３８，ｄ、 Ｊ＝７．３２Ｈｚ）、
１．１８−１．４３（５Ｈ，ｎ＋）＋２．３９６（ＩＨ
，ｂｒｄ、 Ｊ＝６．４）１ｚ）、 ２．６４７（
ＩＨ，ｄＱ＋ Ｊ＝７Ｈｚ。
１．１８−１．４３（５Ｈ，ｎ＋）＋２．３９６（ＩＨ
，ｂｒｄ、 Ｊ＝６．４）１ｚ）、 ２．６４７（
ＩＨ，ｄＱ＋ Ｊ＝７Ｈｚ。
Ｊ＝７Ｈｚ）、 ３．５５−３．６３（ＬＨ，ｍ）、
３．７１４（３Ｂ、 ｓ）。
３．７１４（３Ｂ、 ｓ）。
ｌ３Ｃ−ノ磁気ｆ−鳴スベクトル（１００ＭＳ１２．
ＣＤＣ１ｚ）１２．７７４． １４．２４３． １４．
４６８． ２０．２９６． ３４．７６２゜３６．２１
３． ４３．０９１． ５１．７？２． ７６．０６７
、 １７６．９８０゜〔α） ｎ” ＋１３．５°
（ｃＪ、５５５． ＣＨＣｈ）（−）−３−ヒドロキ
シ−４−メチルへブタン酸メチル（３）を用いた以外は
、上記と同様にして、（−）−３−ヒドロキシ−２，４
−ジメチルへブタン酸メチル（１ｂ）を収率５７％にて
得た。
ＣＤＣ１ｚ）１２．７７４． １４．２４３． １４．
４６８． ２０．２９６． ３４．７６２゜３６．２１
３． ４３．０９１． ５１．７？２． ７６．０６７
、 １７６．９８０゜〔α） ｎ” ＋１３．５°
（ｃＪ、５５５． ＣＨＣｈ）（−）−３−ヒドロキ
シ−４−メチルへブタン酸メチル（３）を用いた以外は
、上記と同様にして、（−）−３−ヒドロキシ−２，４
−ジメチルへブタン酸メチル（１ｂ）を収率５７％にて
得た。
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−（−）−２，４−ジメチル−３
−へブタン酸メチル（１ｂ）の赤外線吸収スペクトル及
びプロトン核磁気共鳴スペクトルをそれぞれ第４図及び
第５図に示す。
−へブタン酸メチル（１ｂ）の赤外線吸収スペクトル及
びプロトン核磁気共鳴スペクトルをそれぞれ第４図及び
第５図に示す。
実開 ７５℃／ １．５ ｍｎ＋Ｈｇ
（α〕ｓ”−１５，１°（ｃｍｏ、４７Ｑ、 ＣＨＣｌ
３）デ１し辷近（Ｃ，。Ｈ２゜０３） ＣＨ 実験値 ６３．５１ １０．６８計算値
６３．７９ １０．７１７、外線吸収スペクト
ル＜ｎｅａｔ） （＋） −（ｌａ）と同じ。
３）デ１し辷近（Ｃ，。Ｈ２゜０３） ＣＨ 実験値 ６３．５１ １０．６８計算値
６３．７９ １０．７１７、外線吸収スペクト
ル＜ｎｅａｔ） （＋） −（ｌａ）と同じ。
ＩＨ−ｉＡ′ｆｌ−リスベクトル（４００ＭＨｚ、 Ｃ
ＤＣｈ）（＋） −（ｌａ）と同じ。
ＤＣｈ）（＋） −（ｌａ）と同じ。
参考例
以下に（−）−インピクトライド（ｂ）の合成例を挙げ
る。
る。
（＋）−３−ヒドロキシ−２，４−ジメチルへブタン酸
メチル２００ｍｇ （１，０６ｍｍｏｌ）をテトラヒド
ロフラン４ｍｌに溶解し、これにジヒドロピラン１３４
ｍｇ （１，５９１１１１０１）及びピリジニウム−
ｐ−ト）ＬｔエンスルホネートＩｎ＋ｇを加え、常温に
て一晩反応させた。ＴＬＣから原料が未だ残存している
ことが認められたので、更に、ピリジニウム−ｐ−トル
エンスルホネー）５ｍｇ及び塩化メチレン３ｎ＋１を加
え、室温にて一晩反応させた。これをエーテル抽出して
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで、食塩水で洗
浄した後、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濾過、濃縮し
て、粗製（＋）−２，４−ジメチル−３−テトラヒドロ
ピラニルオキシ−１−へブタン酸メチル（６）３５０ｍ
ｇを得た。
メチル２００ｍｇ （１，０６ｍｍｏｌ）をテトラヒド
ロフラン４ｍｌに溶解し、これにジヒドロピラン１３４
ｍｇ （１，５９１１１１０１）及びピリジニウム−
ｐ−ト）ＬｔエンスルホネートＩｎ＋ｇを加え、常温に
て一晩反応させた。ＴＬＣから原料が未だ残存している
ことが認められたので、更に、ピリジニウム−ｐ−トル
エンスルホネー）５ｍｇ及び塩化メチレン３ｎ＋１を加
え、室温にて一晩反応させた。これをエーテル抽出して
、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで、食塩水で洗
浄した後、硫酸ナトリウム上で乾燥した。濾過、濃縮し
て、粗製（＋）−２，４−ジメチル−３−テトラヒドロ
ピラニルオキシ−１−へブタン酸メチル（６）３５０ｍ
ｇを得た。
この粗製反応生成物（６）３５０ｍｇをエーテル３５ｍ
１に溶解し、水冷下に水素化リチウムアルミニウム８０
ｍｇ （２，１２ｍｍｏｌ）を加えた。常温にて３時間
反応させた後、水０．１ｍｌ、１０％水酸化ナトリウム
水溶液、次いで、水０．３＋＋＋１を加えた。析出物を
濾別し、？ＭＩ＆し、クロマトグラフィー（ワコーゲル
Ｃ−２００（１０ｇ）、ヘキサン−エーテル）にて精製
して、（＋）−２，４−ジメチル−３−テトラヒドロピ
ラニルオキシ−１−ヘプタツール（７１２６０ｍｇ（収
率９６．９％）を得た。
１に溶解し、水冷下に水素化リチウムアルミニウム８０
ｍｇ （２，１２ｍｍｏｌ）を加えた。常温にて３時間
反応させた後、水０．１ｍｌ、１０％水酸化ナトリウム
水溶液、次いで、水０．３＋＋＋１を加えた。析出物を
濾別し、？ＭＩ＆し、クロマトグラフィー（ワコーゲル
Ｃ−２００（１０ｇ）、ヘキサン−エーテル）にて精製
して、（＋）−２，４−ジメチル−３−テトラヒドロピ
ラニルオキシ−１−ヘプタツール（７１２６０ｍｇ（収
率９６．９％）を得た。
前記化合物（７） ２３０ ｍｇ （０，９４３ｍｍｏ
ｌ）をピリジン２ｍｌに溶解し、水冷下に塩化ｐ−）ル
エンスルホニル２７０■（１，４１ｎ＋ｍｏｌ）を加え
た。水冷下に３時間反応させた後、３℃にて一晩放置し
た。
ｌ）をピリジン２ｍｌに溶解し、水冷下に塩化ｐ−）ル
エンスルホニル２７０■（１，４１ｎ＋ｍｏｌ）を加え
た。水冷下に３時間反応させた後、３℃にて一晩放置し
た。
これを水中に投入し、エーテルにて抽出し、このエーテ
ル層をＩＮ塩酸、飽和硫酸銅水溶液、水、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液及び食塩水の順序にて洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。これを濾過、濃縮し、粗製トシ
レー）（８）３３０曙を得た。
ル層をＩＮ塩酸、飽和硫酸銅水溶液、水、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液及び食塩水の順序にて洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。これを濾過、濃縮し、粗製トシ
レー）（８）３３０曙を得た。
この粗製トシレート（８１３３０■を乾燥ジメチルホル
ムアミド３ｍｌに溶解し、炭酸水素ナトリウム１７０■
（２ｍｍｏｌ）とロウ化ナトリウム２１２■（１，４１
ｍｍｏりを加え、室温にて３日間、更に、５０〜６０℃
の温度にて１日間反応させた。この後、反応混合物を水
中に投入し、ベンゼン抽出し、食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。
ムアミド３ｍｌに溶解し、炭酸水素ナトリウム１７０■
（２ｍｍｏｌ）とロウ化ナトリウム２１２■（１，４１
ｍｍｏりを加え、室温にて３日間、更に、５０〜６０℃
の温度にて１日間反応させた。この後、反応混合物を水
中に投入し、ベンゼン抽出し、食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。
これを濾過、濃縮し、クロマトグラフィー（ワコーゲル
Ｃ−２００（１０ｇ） 、ヘキサン−エーテル）にて精
製して、２．４−ジメチル−１−ヨード−３−テトラヒ
ドロピラニルオキシへブタン（９）１７０■（（７）か
らの収率５０．９％）を得た。
Ｃ−２００（１０ｇ） 、ヘキサン−エーテル）にて精
製して、２．４−ジメチル−１−ヨード−３−テトラヒ
ドロピラニルオキシへブタン（９）１７０■（（７）か
らの収率５０．９％）を得た。
ジイソプロピルアミン１９９＋ｎｇ （１，９７ｍｍｏ
ｌ）を乾燥テトラヒドロフラン２．５ｍｌに溶解し、窒
素雰囲気下にｎ−ブチルリチウム（１，６５Ｎヘキサン
溶液）０．７９５ｍ１を１”ｃの温度にて滴下し、更に
、１℃で４５分間反応させた。これに（Ｓ）−（−）−
プロリノールプロミオンアミド６８．７■（０，４３８
ｍｍｏｌ）及び乾燥テトラヒドロフラン０．５ｍｌを１
°Ｃで滴下し、室温にて１時間反応させた。これに乾燥
へキサメチルリン酸アミド０．２ ｍｌ （１，１５ｍ
ｍｏｌ）を滴下し、−１００℃に冷却した。次に、（９
１１１２■（０，２９２＋＋＋ｍｏｌ）を乾燥テトラヒ
ドロフラン０．５ｍｌに溶解し、−１００℃で２分間で
滴下し、＝１００℃で１１時間反応させた後、更に一８
０°Ｃにて４日間放置した。これに水を加え、エーテル
にて抽出し、ＩＮ塩酸及び食塩水にて洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥した。濾過、濃縮した後、クロマトグ
ラフィー（ワコーゲルＣ−Ｃ−２００（３、ヘキサン−
エーテル−メタノール）にて精製して、ＱＯ） ９７．
０■（収率８６．６％）を得た。
ｌ）を乾燥テトラヒドロフラン２．５ｍｌに溶解し、窒
素雰囲気下にｎ−ブチルリチウム（１，６５Ｎヘキサン
溶液）０．７９５ｍ１を１”ｃの温度にて滴下し、更に
、１℃で４５分間反応させた。これに（Ｓ）−（−）−
プロリノールプロミオンアミド６８．７■（０，４３８
ｍｍｏｌ）及び乾燥テトラヒドロフラン０．５ｍｌを１
°Ｃで滴下し、室温にて１時間反応させた。これに乾燥
へキサメチルリン酸アミド０．２ ｍｌ （１，１５ｍ
ｍｏｌ）を滴下し、−１００℃に冷却した。次に、（９
１１１２■（０，２９２＋＋＋ｍｏｌ）を乾燥テトラヒ
ドロフラン０．５ｍｌに溶解し、−１００℃で２分間で
滴下し、＝１００℃で１１時間反応させた後、更に一８
０°Ｃにて４日間放置した。これに水を加え、エーテル
にて抽出し、ＩＮ塩酸及び食塩水にて洗浄し、硫酸マグ
ネシウム上で乾燥した。濾過、濃縮した後、クロマトグ
ラフィー（ワコーゲルＣ−Ｃ−２００（３、ヘキサン−
エーテル−メタノール）にて精製して、ＱＯ） ９７．
０■（収率８６．６％）を得た。
ｋ丑〕」υ二り久ｊイ」四Ｂ針釦朦
上記化合物ＱＯ）９０＋＋ｖ （０，２３４ｍｍｏｌ）
及びＩＮ塩酸を混合し、２時間還流させた。これにクロ
ロホルムを加え、室温にて１時間攪拌した後、クロロホ
ルム層を分取し、水層を更にクロロホルムにて抽出した
。すべてのクロロホルム層を集め、これを硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、濾過、濃縮した。クロマトグラフィー
（ワコーゲルＣ−Ｃ−２００（２、ヘキサン−エーテル
）にて精製して、（−）−インビトクライド（ｂ） ２
７．７■（収率５９．８％）を得た。
及びＩＮ塩酸を混合し、２時間還流させた。これにクロ
ロホルムを加え、室温にて１時間攪拌した後、クロロホ
ルム層を分取し、水層を更にクロロホルムにて抽出した
。すべてのクロロホルム層を集め、これを硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、濾過、濃縮した。クロマトグラフィー
（ワコーゲルＣ−Ｃ−２００（２、ヘキサン−エーテル
）にて精製して、（−）−インビトクライド（ｂ） ２
７．７■（収率５９．８％）を得た。
元１づ泊足（Ｃ＋Ｊｚ□０□）
ＣＨ
実験値 ７２．４７ １１．３５計算値
７２．６８ １１．１８７、外線吸収スペクト
ル（ｎｅａ ｔ）２９６０（ｓ）、 ２９３０（ｓ）、
２８７０（ｍ）、 １７４０（ｓ）、 １４６０（ｍ
）。
７２．６８ １１．１８７、外線吸収スペクト
ル（ｎｅａ ｔ）２９６０（ｓ）、 ２９３０（ｓ）、
２８７０（ｍ）、 １７４０（ｓ）、 １４６０（ｍ
）。
１３８０（ｍ）、 １３３０（ｗ）、 １２３５（
ｍ）、 １１９５（ｓ）、 １１５０（ｍ）。
ｍ）、 １１９５（ｓ）、 １１５０（ｍ）。
１１２０（ｍ）、 １０１０９０（、１０１０２０（
、９９０（ｍ）、 ７２０（ｗ）。
、９９０（ｍ）、 ７２０（ｗ）。
」ニ韮貫３」Ａロビワ−ロ監〕ｙ圏恍工別牡硅０．９０
３（３Ｈ，ｔ、 Ｊ＝７．５Ｈｚ）、 ０．９１４（３
Ｈ，ｄ、 Ｊ＝６．８Ｈｚ）。
３（３Ｈ，ｔ、 Ｊ＝７．５Ｈｚ）、 ０．９１４（３
Ｈ，ｄ、 Ｊ＝６．８Ｈｚ）。
１．２１９（３Ｈ，ｄ、 Ｊ＝６．８Ｈｚ）、 １
．２５−１．５１（４Ｈ，ｍ）。
．２５−１．５１（４Ｈ，ｍ）。
１．６５−１．７４（３Ｈ，ｍ）、 １．８６−２．
０５（１８，ｍ）、 ２．５８−２．７０（ＩＨ，ｍ
） 、 ３．９００（ＬＨ，ｄ、ｄ−ｑ、 Ｊ＝２Ｈ
ｚ、 Ｊ＝１０Ｈｚ）。
０５（１８，ｍ）、 ２．５８−２．７０（ＩＨ，ｍ
） 、 ３．９００（ＬＨ，ｄ、ｄ−ｑ、 Ｊ＝２Ｈ
ｚ、 Ｊ＝１０Ｈｚ）。
’ＩＩ−核磁気核磁気共鳴上ベクトル０ＭＩＩＺ、 Ｃ
ｂＤ６）０．９０１（３１１，ｔ、 Ｊ＝７．５）１ｚ
）、 ０．９１３（３Ｈ，ｄ、 Ｊ＝６．８Ｈｚ）。
ｂＤ６）０．９０１（３１１，ｔ、 Ｊ＝７．５）１ｚ
）、 ０．９１３（３Ｈ，ｄ、 Ｊ＝６．８Ｈｚ）。
０．９７０（３Ｈ，ｄ、 Ｊ＝６．８Ｈｚ）、 １．２
１９（３Ｈ，ｄ、 Ｊ＝６．８Ｈｚ）。
１９（３Ｈ，ｄ、 Ｊ＝６．８Ｈｚ）。
１．２４−１．５０（４Ｈ，ｍ）、 １．６７５（２８
，ｔ、 Ｊ＝８Ｈｚ）、 １．６４−１．７４（ＬＨ，
ｍ）、 １．８２−２．０４ （ＩＨ，ｍ）、 ２．５
８−２．７０（ＬＨ，ｍ）、 ３．９０１（ＬＨ，ｄ、
ｄ−４ｑ、 Ｊ＝２Ｈｚ、 Ｊ’＝１０Ｈｚ）。
，ｔ、 Ｊ＝８Ｈｚ）、 １．６４−１．７４（ＬＨ，
ｍ）、 １．８２−２．０４ （ＩＨ，ｍ）、 ２．５
８−２．７０（ＬＨ，ｍ）、 ３．９０１（ＬＨ，ｄ、
ｄ−４ｑ、 Ｊ＝２Ｈｚ、 Ｊ’＝１０Ｈｚ）。
１３ｃ ｌｉ［気共鳴スペクトル（１００ＭＨｚ、
ＣＤＣｌ１）１２．３４９．１４．１６４．１６．６２
２．１７．６９７．２０．４６５゜２８．４３６．３２
．５５８．３３．６９３．３５．４８４．３６．１４０
゜８５．７３７．１７６．６８２゜ ガスク０７トグラフイー（Ｃａｒｂｏｗａｘ ２０Ｍ＋
０．２ｍｍ ｘ２５ｍ、 １２０℃→１４０°ｃ、３
°Ｃ／ｍ１ｎ−＋ Ｈｅ Ｏ，７ｍｌ／ｍｉｎ、）Ｒｔ
９．６６ｍ１ｎ、 （９８，２χ）、ジアステレオマ
ー９．１ｍ１ｎ、（１，５χ）、 １０．１ｍ１ｎ、
（０，３′１）。
ＣＤＣｌ１）１２．３４９．１４．１６４．１６．６２
２．１７．６９７．２０．４６５゜２８．４３６．３２
．５５８．３３．６９３．３５．４８４．３６．１４０
゜８５．７３７．１７６．６８２゜ ガスク０７トグラフイー（Ｃａｒｂｏｗａｘ ２０Ｍ＋
０．２ｍｍ ｘ２５ｍ、 １２０℃→１４０°ｃ、３
°Ｃ／ｍ１ｎ−＋ Ｈｅ Ｏ，７ｍｌ／ｍｉｎ、）Ｒｔ
９．６６ｍ１ｎ、 （９８，２χ）、ジアステレオマ
ー９．１ｍ１ｎ、（１，５χ）、 １０．１ｍ１ｎ、
（０，３′１）。
〔α） Ｄ”−１０５°（ｃＪ、２９． ＣＨＣｈ）
（液体クロマトグラフィー分取前はαｏ”−８８，４
°（ｃ＝０．９２５゜ＣＨＣｌ：ｌ） （＋）−インビトクライド（ｂｌの合成（−Ｌ （ｌｂ
）を用いることによって、同様にして、（−）−インビ
トクライド（′ｂ）を得た。
（液体クロマトグラフィー分取前はαｏ”−８８，４
°（ｃ＝０．９２５゜ＣＨＣｌ：ｌ） （＋）−インビトクライド（ｂｌの合成（−Ｌ （ｌｂ
）を用いることによって、同様にして、（−）−インビ
トクライド（′ｂ）を得た。
Ｃｒｔ〕ｏ” ＋１０１°（Ｃ＝０．６１５． ＣＨＣ
ｌ：ｌ）尺索又捉（ＣＩ２Ｈ２□０□） ＣＨ 実験値 ？２．５１ １１．１５計算値
７２．６８ １１．１８
ｌ：ｌ）尺索又捉（ＣＩ２Ｈ２□０□） ＣＨ 実験値 ？２．５１ １１．１５計算値
７２．６８ １１．１８
第１図、第２図及び第３図は、それぞれ（２Ｓ。
３Ｓ、 ４Ｒ） −（＋） −２，４−ジメチル−３−
へブタン酸メチル（１ａ）の赤外線吸収スペクトル、プ
ロトン核磁気共鳴スペクトル及びＩ３０核磁気共鳴スペ
クトルを示し、第４図及び第５図は、それぞれ（２Ｒ，
３Ｒ。 ４Ｓ）−（−）−２，４−ジメチル−３−へブタン酸メ
チル（ｌｂ）の赤外線吸収スペクトル及びプロトン核磁
気共鳴スペクトルを示す。 手続補正書（自発） 昭和６１年１２月 ４日 昭和６１年特許願第１６４４１７号 ２、発明の名称 新規光学活性ヒドロキシエステル ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号名 称 日
東電気工業株式会社 ４、代理人 住 所 大阪市西区新町１丁目８番３号新町七福ビル ５、補正により増加する発明の数 ６、補正の対象 明細書発明の詳細な説明の欄補正の内
容 （１１明細書第２１頁９〜１４行を次のように補正する
。 ｒＪ気共鳴スペクトル（４００ＭＨ２，Ｃ６Ｄ６）０．
４５６（３Ｈ，ｄ、 Ｊ・６．８Ｈｚ）、 ０．８１４
（３）１． ｄ、 Ｊ＝６．５Ｈｚ）、 ０．８７０（
３Ｈ，ｔ、 Ｊ−７，２Ｈｚ）、 ０．９８９（１）１
゜ｄｄｄ、 Ｊ＝７Ｈ２，８Ｈ２，１３，５Ｈ２）、
１．０６８（３Ｈ，ｄ、 Ｊ＝７Ｈｚ）、 １．０９６
−１．３００（３Ｈ，ｍ）、 １．３１８−１．４４３
（３Ｈ。 ｍ）、 １．５０８（ＬＨ，ｄｄｄｑ、 Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ、 Ｊ＝７．５Ｈｚ、 Ｊ＝１０Ｈｚ、 Ｊ＝７Ｈｚ
）、 ２．０４０（ＬＨ，ｄｄｑ、 Ｊ＝８Ｈｚ、 Ｊ
＝９Ｈｚ。 Ｊ＝７Ｈｚ）、 ３．４４２（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝０．
８Ｈｚ、 Ｊ＝１０Ｈｚ）、 Ｊ以上
へブタン酸メチル（１ａ）の赤外線吸収スペクトル、プ
ロトン核磁気共鳴スペクトル及びＩ３０核磁気共鳴スペ
クトルを示し、第４図及び第５図は、それぞれ（２Ｒ，
３Ｒ。 ４Ｓ）−（−）−２，４−ジメチル−３−へブタン酸メ
チル（ｌｂ）の赤外線吸収スペクトル及びプロトン核磁
気共鳴スペクトルを示す。 手続補正書（自発） 昭和６１年１２月 ４日 昭和６１年特許願第１６４４１７号 ２、発明の名称 新規光学活性ヒドロキシエステル ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号名 称 日
東電気工業株式会社 ４、代理人 住 所 大阪市西区新町１丁目８番３号新町七福ビル ５、補正により増加する発明の数 ６、補正の対象 明細書発明の詳細な説明の欄補正の内
容 （１１明細書第２１頁９〜１４行を次のように補正する
。 ｒＪ気共鳴スペクトル（４００ＭＨ２，Ｃ６Ｄ６）０．
４５６（３Ｈ，ｄ、 Ｊ・６．８Ｈｚ）、 ０．８１４
（３）１． ｄ、 Ｊ＝６．５Ｈｚ）、 ０．８７０（
３Ｈ，ｔ、 Ｊ−７，２Ｈｚ）、 ０．９８９（１）１
゜ｄｄｄ、 Ｊ＝７Ｈ２，８Ｈ２，１３，５Ｈ２）、
１．０６８（３Ｈ，ｄ、 Ｊ＝７Ｈｚ）、 １．０９６
−１．３００（３Ｈ，ｍ）、 １．３１８−１．４４３
（３Ｈ。 ｍ）、 １．５０８（ＬＨ，ｄｄｄｑ、 Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ、 Ｊ＝７．５Ｈｚ、 Ｊ＝１０Ｈｚ、 Ｊ＝７Ｈｚ
）、 ２．０４０（ＬＨ，ｄｄｑ、 Ｊ＝８Ｈｚ、 Ｊ
＝９Ｈｚ。 Ｊ＝７Ｈｚ）、 ３．４４２（ＩＨ，ｄｄ、 Ｊ＝０．
８Ｈｚ、 Ｊ＝１０Ｈｚ）、 Ｊ以上
Claims (1)
- （１）構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、２、３及び４位の立体配置は、（２Ｓ，３Ｓ，
４Ｒ）又は（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）である。）で表わされ
る光学活性ヒドロキシエステル。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61164417A JPH0645571B2 (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 新規光学活性ヒドロキシエステル |
| US07/222,673 US4864056A (en) | 1986-07-11 | 1988-07-21 | Optically active hydroxy esters |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61164417A JPH0645571B2 (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 新規光学活性ヒドロキシエステル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6322055A true JPS6322055A (ja) | 1988-01-29 |
| JPH0645571B2 JPH0645571B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=15792751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61164417A Expired - Fee Related JPH0645571B2 (ja) | 1986-07-11 | 1986-07-11 | 新規光学活性ヒドロキシエステル |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4864056A (ja) |
| JP (1) | JPH0645571B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009509008A (ja) * | 2005-09-21 | 2009-03-05 | ジボダン エス エー | 有機化合物 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3227030B2 (ja) * | 1993-06-10 | 2001-11-12 | 日東電工株式会社 | 生理活性δ−ラクトンの合成方法 |
-
1986
- 1986-07-11 JP JP61164417A patent/JPH0645571B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-07-21 US US07/222,673 patent/US4864056A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009509008A (ja) * | 2005-09-21 | 2009-03-05 | ジボダン エス エー | 有機化合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4864056A (en) | 1989-09-05 |
| JPH0645571B2 (ja) | 1994-06-15 |
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