JPH04154775A

JPH04154775A - トランス３，４―二置換γ―ラクトン化合物類の製造方法

Info

Publication number: JPH04154775A
Application number: JP2338645A
Authority: JP
Inventors: Takashi Ebata; 恵畑　隆; Hajime Matsushita; 松下　肇; Hiroshi Kawakami; 浩川上; Yukifumi Koseki; 幸史古関
Original assignee: Japan Tobacco Inc
Current assignee: Japan Tobacco Inc
Priority date: 1990-05-08
Filing date: 1990-11-30
Publication date: 1992-05-27
Also published as: US5216177A; EP0460413A1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、香気成分や昆虫フェロモン等に多く含まれる
トランス３．４−二置換γ−ラクトン化合物類の製造方
法に関する。

〔従来の技術〕

天然界には、３、及び４位にアルキル基またはアルケニ
ル基等の置換基を有するトランス３．４−二置換γ−ラ
クトン化合物が多く存在する。トランス３，４−二置換
γ−ラクトン化合物は、ウィスキー等に含まれる重要な
香気成分である。また、これらの化合物は、昆虫界にお
いてフェロモンとして広く利用されている。トランス３
．４−二置換γ−ラクトン化合物は、一般に光学活性な
形で存在し、多くの場合に、その両異性体の間に生物活
性等の差が認められる。従って、トランス３．４−二置
換γ−ラクトン化合物を光学的に純粋な形で合成する製
造方法を開発することは極めて意義深いことである。

このような有用な化合物の一つとして、下記−般式で示
されるトランス３．４−二置換γ−ラクトン化合物（１
）がある。

ε （式中、ＲおよびＲ１は一般的なアルキル基もしくはア
ルケニル基を示す。）このラクトン化合物（１）の製造方法についてはこれま
で種々の方法が試みられている。

例えば、リボノラクトンを出発原料とする方法（Ｔｅｔ
ｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｖｏｌ、４３．４４９７−４５０６
（１９８７））や不斉合成反応を利用する方法（Ａｎｇ
ｅｖ、　Ｃｈｅｗ、　Ｉｎｔ、Ｅｄ。

Ｅｎｇｌ、、　Ｖｏｌ、　２８．６９−７１（１９８９
））等である。

［発明が解決しようとする課題］しかしながら前者は出発原料のりボッラクトンが高価で
あり、また工程が複雑で汎用性の点で問題がある。また
、後者は特殊な試薬を使用する必要があること及び生成
物の光学純度も不十分である等の問題がある。

上記の事情に鑑み、本発明の課題は、純度の高い光学活
性体を容易に得ることが可能なトランス３．４−二置換
γ−ラクトン化合物（１）の製造方法を提供することで
ある。

［課題を解決するための手段］上記課題を解決するために、本発明者は、セルロースの
熱分解物として知られるレボグルコセノンを出発物質と
し、ラクトン環の形成をバイヤービリガー酸化反応を利
用して行うことにより、簡単な工程により光学純度の高
いトランス３，４−二置換γ−ラクトン化合物（１）を
得ることができることを見いだした。

即ち、本発明は、（ａ）下記の一般式で示されるレボグルコセノン（ｖｌ
）のエノン部分にアルキル基もしくはアルケニル基Ｒ１
を付加することにより、下記の一般式で示される化合物
（Ｖ）を得る工程と、（式中、Ｒ１は一般的なアルキル
基もしくはアルケニル基を示す。）（ｂ）得られた化合物（Ｖ）を過酸で酸化して、下記の
一般式で示される化合物（ＩＶ）を得゛る工程と、Ｉ（式中、Ｒ１は上記と同様のものを示す。）（Ｃ）得ら
れた化合物（ＩＶ）の水酸基を脱離基ＯＲ２に転化する
ことにより、下記の一般式で示される化合物（ＩＩＩ）
を得る工程と、（式中、Ｒ１は上記と同様のものを示す
。また、ＯＲ２は一般的な脱離基を示す。）（ｄ）得られた化合物（ｍ）をアルキル化もしくはアル
ケニル化することにより、上記化合物（１）を得る工程
と、を具備することを特徴とするトランス３，４−二置
換γ−ラクトン化合物類の製造方法である。

ここで、本発明のトランス３，４−二置換γ−ラクトン
化合物類の製造方法は、上記工程（ｃ）で得られた化合
物（ｍ）を塩基処理することにより、−旦ラクトン環を
開裂して、下記の一般式で示される化合物（１１）を得
た後、この化合物（ＩＩ）を、上記工程（ｄ）のアルキ
ル化もしくはアルケニル化に洪することにより、上記化
合物（１）を得ることもできる。

（式中、Ｒ１は上記と同様のものを示す。また、Ｒ３は
水素または一般的なアルキル基を示す。）本発明の製造
方法では、出発物質として用いたレボグルコセノン（Ｖ
ｌ）の光学純度がそのまま保持されるので、光学純度の
高いトランス３．４−二置換γ−ラクトン化合物（１）
を得ることができる。

以下、本発明の製造方法をさらに詳細に説明すると、本
発明で出発原料として、セルロースの熱分解物として公
知のレボグルコセノン（■１）を用いる。また、レボグ
ルコセノン（ｖｌ）は、ガラクトースより、Ｃｈｅｍｉ
ｓｔｒｙ　Ｌｅｔｔｅｒｓ、　３０７−３１０（１９９
０）に示されている方法により光学純度の高いものが容
易に得られる。

工程（ａ）のエノン部分へのアルキル基もしくはアルケ
ニル基の導入反応は、ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅等の銅
塩の存在下において、アルキルリチウムまたはアルキル
マグネシウム等のアルキル化剤やアルケニルリチウムま
たはアルケニルマグネシウム等のアルケニル化剤により
行うことができる。この場合、レボグルコセノン（Ｖｌ
）　１モルに対してアルキル化剤等を１．０モル〜３．
０モル、好ましくは１．０モル用いるのが望ましい。こ
のアルキル基等の導入反応は、例えば、適当な溶媒中、
不活性ガス雰囲気下、通常−７０℃〜室温にて、３０分
〜２０時間撹拌しながら行われる。ここで用いる適当な
溶媒は、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル系溶媒、もしくはトルエン、キシレン等
の有機溶媒であるが特に限定されるものではない。

工程（ａ）において導入されるアルキル基もしくはアル
ケニル基は、対応するアルキル化剤等の種類を選択する
ことにより、容易に種々のものを導入できるが、通常炭
素数が１０以下のアルキル基もしくはアルケニル基であ
る。

工程（ｂ）のラクトン環の形成反応は、適当な過酸によ
るバイヤービリガー酸化により行なうことができる。こ
の場合、化合物（ｖ）１モルに対し、過酸を１モル〜５
モル、好ましくは１モル用いるのが望ましい。このラク
トン環形成反応に用い得る過酸としては、例えば、過酢
酸、過蟻酸、メタクロロ過安息香酸、さらにフタル酸の
過酸化物等であり、適当な溶媒中、０℃〜５０℃にて１
時間〜８０時間撹拌しながら行われる。ここで使用する
適当な溶媒としては、例えば、酢酸や蟻酸等の酸類や、
塩化メチレン、クロロホルム等のノ１０ゲン系溶媒であ
るが、過酸と反応せず、かつ反応後の処理を困難にする
副生成物を生じないものであれば良く、特に限定される
ものではない。

工程（ｃ）の脱離基の導入反応は、通常のエステル化反
応によって、Ｒ２基を水酸基の酸素原子に結合させるこ
とにより行うことができる。Ｒ２基は、後述する工程（
ｄ）において脱離されるので、−船釣な脱離基を用いる
ことができるが、好ましくはパラトルエンスルフォニル
基、メタンスルフォニル基、トリフルオロメタンフオニ
ル基等である。この脱離基の導入反応は、例えば、Ｒ２
のハロゲン化物もしくは酸無水物のＲ２基を有する化合
物を、適当な溶媒中、−１Ｏ℃〜３０℃にて３時間〜３
０時間撹拌しながら反応させることにより行われる。こ
の場合、化合物（■）１モルに対し上記Ｒ２基を有する
化合物を１モル〜４モル、好ましくは１．３モル用いる
のが望ましい。また、適当な溶媒としては、例えば、ピ
リジン、トリエチルアミン等であるが特に限定されるも
のではない。

工ｆｌｕ（ｄ）のアルキル化反応及びアルケニル化反応
は、ヨウ化銅、臭化銅、塩化銅等の銅塩の存在下におい
て、アルキルリチウムまたはアルキルマグネシウム等の
アルキル化剤やアルケニルリチウムまたはアルケニルマ
グネシウム等のアルケニル化剤により行うことができる
。このアルキル化またはアルケニル化反応は、例えば、
適当な溶媒中、不活性ガス雰囲気下−７０℃〜室温にて
、１時間〜２０時間撹拌しながら行われる。ここで使用
する適当な溶媒としては、例えば、エーテルやテトラヒ
ドロフラン等のエーテル系溶媒やトルエン、キシレン等
の有機溶媒であるが特に限定されるものではない。

工程（ｄ）に先立って、工程（ｃ）で得られた化合物（
ＩＩＩ）を、塩基性条件下で処理することにより、化合
物（ｍ）のラクトン環を一旦開裂させてエポキシド（Ｉ
Ｉ）を得ることができる。このエポキシド化反応は、適
当な溶媒中で塩基性化合物として、例えば水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム等の金属水酸化
物や炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸塩、さらに
は酢酸カリウム、酢酸ナトリウム等の酢酸塩等を用いて
、通常０℃〜３０℃にて２時間〜３０時間撹拌しながら
反応させることで行うことができる。この場合、化合物
（■）１モルに対し、上記塩基性化合物を１モル〜３モ
ル、好ましくは１．１モル用いるのが望ましい。ここで
使用する適当な溶媒としては、水やメタノール、エタノ
ール等のアルコール類、及びテトラヒドロフラン等との
混合溶媒であるが特に限定されるものではない。

化合物（１１）のＲ３基は、例えば、アルコールを溶媒
として反応させた場合、その対応するアルキル基が導入
されるが、工程（ｄ）において脱離されるので特に限定
しなくとも良い。

このようにして得れられた化合物（ＩＩ）を、化合物（
ｍ）に代えて工程（ｄ）のアルキル化またはアルケニル
化反応に供することによって目的とする化合物（１）を
得ることができる。

［実施例］以下の実施例により、本発明を更に詳細に説明する。

実施例１トランスウィスキーラクトンの製造その１［Ａ］　　１
．６〜アンヒドロ−３，４−ジデオキシ−４−Ｃ−メチ
ル−β−Ｄ−エリスローヘキソピラノース−２−ウロー
スの製造ヨウ化銅６６．６ｇ　（３５０＊ｍｏｌ）及びメチルリ
チウム５００ｍ１　（１，４Ｎ、５００ｍ１）より常法
に従って調製したジメチル銅リチウム溶液中に一６０℃
にてレボグルコセノン４４．１ｇ　（３５０ｓｓｏｌ）
の無水エーテル溶液５０−１を滴下する。滴下後、３０
分−６０℃にて撹拌後、反応温度を一２０℃まで上昇さ
せた。次いで、これを飽和塩化アンモニウム水溶液中に
あけ、室温にて１時間撹拌後、不溶物を濾過してから有
機層を分離し、水層を塩化メチレンにて抽出した。抽出
液を先に分離した有機層と合わせ、飽和食塩水にて洗浄
の後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。

濾過後濃縮してさらに減圧蒸留して１．６−アンヒドロ
−３，４−ジデオキシ−４−Ｃ−メチル−β−Ｄ−エリ
スローヘキソピラノース−２−ウロース４１．９ｇ　（
８４，３％）を得た。生成物の物理的データは次の通り
であった。

沸点：　１２２−１２５℃／２８ｍｗｔ（ｇｎ　Ｄｌ、
４６７３［ｒｘ　］　　　　−２９３°　（ｃ−０−３６，Ｅｔ
２０）’ＩＩ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）　：δ１．２２（
３Ｈ，ｄ、　Ｊ−７，０Ｈｚ）、２．０−２．１５　（
ＩＨ，■）、２．２５−２．４２　　（ＩＩｌ、　ｍ）
、２．８３（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝７．８　ａｎｄ　１６
．３　Ｈｚ）、３．９８（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５．２　
　ａｎｄ　　７．５Ｈｚ）　　、　４．０３（ＩＯ，ｄ
ｄ、　　Ｊ−１，２ａｎｄ　　７．５Ｈｚ）　　、　４
．４０−４．４６（ＩＨ，ｍ）、　５．０６（ＩＨ，ｓ
）［Ｂ］　　　（３Ｓ、４Ｓ）−５−ヒドロキシ−３−
メチルペンタン−４−オリドの製造工程［Ａ］で得られた１、６−アンヒドロ−３゜４−ジ
デオキシ−４−Ｃ−メチル−β−Ｄ−エリスローヘキソ
ピラノース−２−ウロース５ｇ（３５，２ｍ１ｏｆ）を
酢酸３７１１に溶解し、これに撹拌しながら４０％過酢
酸６．７ｍｌを滴下する。このとき、反応温度は２０−
３０℃に保った。次いで、反応液を室温にて一晩撹拌後
、冷却しなからジメチルスルフィド２．４　ｇ　（Ｈ，
７ｍ５ｏｌ）を滴下した。３０分室温にて撹拌しながら
、濃縮後残渣をメタノール３０−１に溶解し、これに濃
塩酸１０滴を加え、５０℃に加温しながら６時間撹拌し
た。次に、反応液を濃縮後残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフ（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル−１：１〜１：３）に
て精製して、（３Ｓ、４３）−５−ヒドロキシ−３−メ
チルペンタン−４−オリド３．９４ｇ　（８６，０％）
を得た。得られた生成物の物理的データは、次の通りで
あった。

沸点：　１０４−１０５℃１０．０５５ｍ１ｇ２３゜［α］　　　　＋７９　　（Ｃ−１，０、ＣｌＣｌ５）
ＩＨＮＭＲ（ＣＤＣ＋３”）　：δ１．１ｇ（３Ｈ，ｄ
、　Ｊ−６，７Ｈｚ）、２．２３（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ−
８，’！　ａｎｄ　１７．３　Ｈｚ）　、２．４５−２
．６２（ＩＨ，ｍ）　、２．７６　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ
−８，８ａｎｄ　１７．３　Ｈｚ）、２．８１（ＬＨ，
ｂｒ、ｓ）、３．６１−３．７４（ＩＩｌ、　ｓ）　、
３．８５−３．９６（ＬＨ，■）　　、４．０９−４．
１９（ＩＨ，ｓ）［Ｃｌ　　　（３Ｓ、４Ｓ）−３−メ
チル−５−トシロキシペンタン−４−オリドの製造工程［Ｂ］で得られた（３Ｓ、４Ｓ）−５−ヒドロキシ
−３−メチルペンタン−４−オリドア、９ｇ　（６０，
８■■ｏｌ）を無水ピリジン６０■１に溶解し、これに
水冷下、トシルクロリド１５．１　ｇ　（７９，０ｍ５
ｏｌ）を加えた。室温にて一晩撹拌後反応液を冷希塩酸
溶液中にあけ、塩化メチレンにて抽出した。抽出液を水
洗及び飽和食塩水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥した。これを濾過後濃縮し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフ（ｎ−ヘキサン：酢酸エチ
ル−５：１〜１：２）にて精製して、（３Ｓ、４Ｓ）−
３−メチル−５−トシロキシペンクン−４−オリド（ト
シレート）１４．８ｇ　（８５，５％）を得た。得られ
た生成物の物理的データは、次の通りであった。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ＋３）　：δ１．１Ｂ（３Ｈ，ｄ、
　Ｊ−６，８Ｈｚ）、２．１９（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ−８
，１ａｎｄ　１７．４　Ｈｚ）　、２．３５−２．５８
（４Ｈ，ｍ）　、２．７２　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ−８，
ｌｉ　ａｎｄ　１７．４　Ｈｚ）、４．１０−４．２５
（３Ｈ，ｓ）、７．３９（２Ｈ，ｄ、Ｊ−８，５Ｈｚ）
、７．７８（２Ｈ，ｄ、Ｊ−８，５Ｈｚ）得られたトシレートは、これ以上精製することなく次の
反応に用いた。

［Ｄ］　　　（３Ｓ、４Ｒ）−３−メチル−４−オクタ
ノリド（トランスウィスキーラクトン）の製造ヨウ化銅
１．９８　ｇ　（１０，４ｍｍｏｌ）を無水エーテル２
０１に懸濁する。これにアルゴン雰囲気下−５０℃に冷
却しながら、ｎ−プロピルリチウム溶液２０．８ｍｌ　
　（１，ＯＮ、　２０．１１■■０１）を滴下した。こ
れをアルゴン雰囲気下−６０℃にて、工程［Ｃｌで得た
トシレート１．９７　ｇ　（６，９３ｓｍｏｌ）の無水
エーテル１０１１およびトルエン１０ｍ１の混合溶液に
滴下した。この反応液の温度を、−６０℃から一２０℃
まで３時間かけて上昇させた。その後、反応液を飽和塩
化アンモニウム水溶液にあけ、３０分撹拌した後、不溶
物を濾過した。濾液をエーテルにて抽出した後、抽出液
を水洗し、さらに飽和食塩水にて洗浄した。

これを無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後、濾過して
濾液を濃縮した。残渣をメタノール２０■１に溶解し、
これに１０％水酸化ナトリウム水溶液２０１を加え、室
温にて３時間撹拌した。メタノールを減圧留去後残渣を
ジエチルエーテルにて２度抽出した。さらに、水層を希
塩酸にて酸性とした後、ジエチルエーテルにて５度抽出
した。合わせた抽出液を無水硫酸マグネシウムにて乾燥
後濃縮して、粗生成物を得た。この粗生成物を、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフ（ｎ−ヘキサン：エーテル−
１０：１〜２：１）にて精製後、減圧蒸留して。

（３Ｓ、４Ｒ）　−３−メチル−４−オクタノリド（ト
ランスウィスキーラクトン）　７８３ｍｇ　　（７０４
％）を得た。得られた生成物の物理的データは、次の通
りであった。

沸点：　　１２３−１２５℃／ｌｆｌｓｓＨｇｎｏ　　
　　１．４４０２［ａ］　　　　＋７９．５”　　（ｃ−１，０、１４ｅ
ＯＨ）’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ＋３）　：δ０．９２（３）
１．　ｔ、　Ｊ−７，２Ｈｚ）、１．１４（３Ｈ，ｄ、
　　Ｊ−６，４Ｈｚ）　　、　１．３［１−１，７５（
６）１．　　Ｉ）　　、２．１２　−２．３１（２）１
．　１’）　　、　２．８０　−２．７５（ＩＨ，膳）
　　、　３．９７−４．０５（１１，＊）実施例２トランスウィスキーラクトンの製造その２［Ｃ−］　　
（３Ｓ、４Ｓ）−４，５−エポキシ−３−メチルペンタ
ン酸メチルの製造実施例１の工程［Ｃ］で得られたトシレート１４．８ｇ
　（５２，１ｓｗｏｌ）をメタノール６０１に溶解し、
水冷下撹拌しながら炭酸カリウム７．９１ｇ　（５７，
３ａｓｏｌ）を加える。これを室温にて１晩撹拌後、反
応液にｎ−ヘキサン１００１及びジエチルエーテル５０
１を加えてから不溶物を濾過した。濾液を常圧にて濃縮
後残渣を減圧蒸留して（３Ｓ、４Ｓ）−４，５−エポキ
シ−３−メチルペンタン酸メチル（エポキシド）　５４
３　ｇ　（７７，７％）を得た。得られた生成物の物理
的データは、次の通りであった。

沸点　：９３−９５　　℃／２６−腸Ｈｇｎ　ｏ　　　
　１　、４２７８［α］　　２３−１．７３°　（ｃ　−１，２２，ジオ
キサン）’ＩＩ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）　：δ１．０５
（３０，ｄ、　Ｊ−６，９Ｈｚ）、１．５９−１．９５
（ＩＨ，ｍ）、２．２９（０１，ｄｄ、　Ｊ−８，３ａ
ｎｄ１５．２　Ｈｚ）、２．５０−２．６０（２Ｈ，ｍ
）　、２．７５−２．８４（２Ｈ。

■）　　、３．７０（３Ｈ，ｓ）［Ｄ”］　　　（ＢＳ、４Ｒ）−３−メチル−４−オク
タノリド（トランスウィスキーラクトン）の製造ヨウ化銅１．９８ｇ　（１０，４１ｏｌ）を無水エーテ
ル２０１１に懸濁する。これにアルゴン雰囲気下−５０
℃に冷却しながら、ｎ−プロピルリチウム溶液２０．８
−１　（１，ＯＮ、　２０．８ｇ５ｏｌ）を滴下した。

これをアルゴン雰囲気下−６０℃にて、工程［Ｃ′］で
得られたエポキシド１．０ｇ　（６，９４ｓｓｏｌ）の
無水エーテル２５１溶液に滴下した。この反応液の温度
を、−６０℃から一２０℃まで３時間かけて上昇させた
。その後、反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液中にあ
け、３０分撹拌した後、不溶物を濾過した。濾液をエー
テルにて抽出した後、抽出液を水洗し、さらに飽和食塩
水にて洗浄した。これを無水硫酸マグネシウムにて乾燥
後濾過して濾液を濃縮した。残渣をメタノール２０−１
に溶解し、これに１０％水酸化ナトリウム水溶液２０１
を加え、室温にて３時間撹拌した。メタノールを減圧留
去した後、残渣をジエチルエーテルにて２度抽出した。

さらに、水層を希塩酸にて酸性とした後、ジエチルエー
テルにて５度抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウム
ばて乾燥後濃縮して粗生成物を得た。この粗生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフ（ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル−１０＝１〜５：１）にて精製後、減圧蒸留して、
目的とするトランスウィスキーラクトン８２３■ｇ（７
６，２％）を得た。得られた生成物の物理的データは、
実施例１で得られたトランスウィスキーラクトンの物理
的データと一致した。

実施例３トランスコニャックラクトンの製造ｎ−プロピルリチウムの代わりにｎ−ブチルリチウムを
用いたことを除き、実施例１の工程［Ｄ］と同様の手法
により、実施例１の工程［Ｃ］で得たトシレート　１．
９７ｇ　（８，９３腸■０１）から、（３Ｓ。

４Ｒ）−３−メチル−４−ノナノリド（トランスコニャ
ックラクトン）　　７Ｈｇｉｇ　（６ｆｌＪ％）を得た
。

得られた生成物の物理的データは、次の通りであった。

沸点：　１０１−１０３℃／　６ｇ＋ｓＨｇｎｏ　　　
　１．４４３１１　ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ２　）　　　：　　δ　　ｏ、
９０（３Ｈ，ｔ、Ｊ−８，８Ｈｚ）。

１．１４（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６，３Ｈｚ）、１．２６−１
．７５（８Ｈ，■）、２．１２　−２．３０（２Ｈ，ｗ
）、２．６０−２．７５（ＬＨ，ｍ）、４．０１（ＬＨ
，ｄｔ、Ｊ−４，０ａｎｄ　　７．７Ｈｚ）実施例４　エルダノリドの製造実施例２［Ｃ１で得られたエポキシド５００１ｇ（３，
４７■■ｏｌ）を無水テトラヒドロフランｌＯ■！に溶
解し、これに臭化銅４９．８ｍｇ　（ＯＪ５＋ｇｓｏｌ
）を加える。アルゴン雰囲気下−２０℃に冷却しながら
、２−メチルプロペニルプロミド及び金属マグネシウム（８４２ｍｇ．　３４．７ａｓｏ
ｌ）より別途調製したグリニヤール試薬をゆっくりと滴
下する。ガスクロマトグラフによってエポキシドの消失
を確認したら、該グリニヤール試薬の滴下を止め、反応
液を飽和塩化アンモニウム水溶液中にあけ、ジエチルエ
ーテルにて抽出した。抽出液を水及び飽和食塩水にて洗
浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾過後濃縮
し残渣をメタノールｌ０−１に溶解し、これに１０％水
酸化ナトリウム水溶液１０ｍ１をくわえ、室温にて３時
間撹拌した。メタノールを減圧留去後残渣をジエチルエ
ーテルにて２度抽出する。さらに、水層を希塩酸にて酸
性とした後、ジエチルエーテルにて５度抽出した。抽出
液を無水硫酸マグネシウムにて乾燥後濃縮して粗生成物
を得た。これをカラムクロマトグラフ（ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル−１０：１〜５：１：にて精製後減圧留去し
て、（３Ｓ、４Ｒ）−３゜７−ジメチル−６〜オクテン
−４−オリド（エルダノリド）４３０園ｇ（７３，８％
）を得た。得られたエルダノリドの物理的データは、以
下の通りであった９沸点：　１１５−１１７℃／　２１
　ｇｕ＋Ｈｇｎｏ　　　　１．４Ｅｉ０６［ａｌ　　　＋　　５２．４　”　　（ｃ　−０，Ｈ，
Ｈｅ’ｌｌ）’　ＨＮＭＩ？　（ＣＤＣｌ２）　：δ１
．１４（３１Ｌｄ、Ｊ＝６．５１１ｚ）。

１．６４（３Ｈ，ｓ）、　１．７３（３Ｈ，ｓ）、　２
．１０−２．５（１（４）Ｊ、　ｇ）。

２．６８（ＩＨ，ｄｄ、７．５　　ａｎｄ　　１６．１
１（ｚ）、　　４．０６（１１１，ｄｄ、ノー６．５　
ａｎｄ　１２．２ｆ（ｚ）、　５．１０−５．２２（１
）１．ｓ）［発明の効果］以上詳述したように、本発明のトランス３．４−二置換
γ−ラクトン化合物類の製造方法によれば、光学純度の
高いトランス３，４−二置換γ−ラクトン化合物類を、
レボグルコセノンを原料として極めて容易にかつ高収率
で製造することができる。

出願人代理人　弁理士　鈴江武彦

Claims

【特許請求の範囲】

（１）下記の一般式で示されるトランス３，４−二置換
γ−ラクトン化合物（ I ）の製造方法であって、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（式中、ＲおよびＲ＾１は一般的なアルキル基もしくは
アルケニル基を示す。）下記の一般式で示されるレボグルコセノン（VI）のエノ
ン部分に、アルキル基Ｒ＾１を付加することにより、下
記の一般式で示される化合物（Ｖ）を得る工程と、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）（式中、Ｒ＾１は上記と同様のものを示す。）得られた
化合物（Ｖ）を過酸で酸化することにより下記化合物（
IV）を得る工程と、 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）（式中、Ｒ＾１は上記と同様のものを示す。）得られた
化合物（IV）の水酸基を脱離基ＯＲ＾２に転化すること
により、下記の一般式で示される化合物（III）を得る
工程と、 ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中、Ｒ＾１は上記と同様のものを示す。またＯＲ＾
２は一般的な脱離基を示す。）得られた化合物（III）をアルキル化もしくはアルケニ
ル化することにより前記化合物（ I ）を得る工程とを
具備することを特徴とするトランス３，４−二置換γ−
ラクトン化合物類の製造方法。
（２）下記の一般式で示されるトランス３，４−二置換
γ−ラクトン化合物（ I ）の製造方法であって、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（式中、ＲおよびＲ＾１は一般的なアルキル基もしくは
アルケニル基を示す。）下記の一般式で示されるレボグルコセノン（VI）のエノ
ン部分に、アルキル基Ｒ＾１を付加することにより、下
記の一般式で示される化合物（Ｖ）を得る工程と、 ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）（式中、Ｒ＾１は上記と同様のものを示す。）得られた
化合物（Ｖ）を過酸で酸化することにより下記化合物（
IV）を得る工程と、 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）（式中、Ｒ＾１は上記と同様のものを示す。）得られた
化合物（IV）の水酸基を脱離基ＯＲ＾２に転化すること
により、下記の一般式で示される化合物（III）を得る
工程と、 ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中、Ｒ＾１は上記と同様のものを示す。また、ＯＲ
＾２は一般的な脱離基を示す。）得られた化合物（III
）を塩基処理することにより、下記の一般式で示される
化合物（II）を得る工程と ▲数式、化学式、表等があります▼（II）（式中、Ｒ＾１は上記と同様のものを示す。また、Ｒ＾
３は水素もしくは一般的なアルキル基を示す。）得られ
た化合物（II）をアルキル化もしくはアルケニル化する
ことにより前記化合物（ I ）を得る工程とを具備する
ことを特徴とするトランス３，４−二置換γ−ラクトン
化合物類の製造方法。