JPS63220202A - カラ−フイルタ−の製造方法 - Google Patents
カラ−フイルタ−の製造方法Info
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- JPS63220202A JPS63220202A JP62054760A JP5476087A JPS63220202A JP S63220202 A JPS63220202 A JP S63220202A JP 62054760 A JP62054760 A JP 62054760A JP 5476087 A JP5476087 A JP 5476087A JP S63220202 A JPS63220202 A JP S63220202A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野〕
本発明は、電着法を用いたカラーフィルターの製造方法
に関する。
に関する。
本発明は、予め黒色塗料を選択的に透明絶縁物基板（例
えば、ガラス基板）上に形成し、前記塗料上に透明導電
膜を形成し、前記塗料をフォトマスクとして裏面から露
光することにより前記黒色塗料のパターンの反転パター
ンとして前記透明導電膜を選択的に形成し、前記透明導
電膜上に所望の色を電着法により形成することにより、
遮光膜付の電着法によるカラーフィルターを簡便に得よ
うとする製造方法である。
えば、ガラス基板）上に形成し、前記塗料上に透明導電
膜を形成し、前記塗料をフォトマスクとして裏面から露
光することにより前記黒色塗料のパターンの反転パター
ンとして前記透明導電膜を選択的に形成し、前記透明導
電膜上に所望の色を電着法により形成することにより、
遮光膜付の電着法によるカラーフィルターを簡便に得よ
うとする製造方法である。
従来、第２図＋ａ＋、 （ｂｌに示すように、透明絶縁
物基板ｌ上に選択的に透明導電膜４を形成し、その透明
導電膜４上に所望の色を電着法により選択的に電着膜５
を形成することにより、カラーフィルターを製造してい
た。
物基板ｌ上に選択的に透明導電膜４を形成し、その透明
導電膜４上に所望の色を電着法により選択的に電着膜５
を形成することにより、カラーフィルターを製造してい
た。
しかし、従来の電着法によるカラーフィルター（以下、
電着フィルターと略す、）においては、第２図からも明
らかなように、所望の形状のカラーフィルターを得る為
には、必然的に透明導電膜を分離する必要があった。従
って、分離された間隙には電着膜は形成されず、光がほ
とんど透過せざるを得ない部分が必然的に存在してしま
うことになる。
電着フィルターと略す、）においては、第２図からも明
らかなように、所望の形状のカラーフィルターを得る為
には、必然的に透明導電膜を分離する必要があった。従
って、分離された間隙には電着膜は形成されず、光がほ
とんど透過せざるを得ない部分が必然的に存在してしま
うことになる。
このことは、カラーフィルターにおいては、色再現性と
して必然的に漏れ光によるホワイトバイアスが生じてい
ることになり、大きな色度を得にくい欠点があった。
して必然的に漏れ光によるホワイトバイアスが生じてい
ることになり、大きな色度を得にくい欠点があった。
この欠点を除去する為に、例えば第３図に示すように、
電着膜５の上に例えば２酸化シリコンのスパッタ膜のよ
うな透明絶縁膜６を形成し、更にその上に金属膜のよう
な不透明膜７を形成し、フォトリソグラフィ一工程によ
り選択的に透明導電１ｕ４の間隙に残存させるような方
法があった。
電着膜５の上に例えば２酸化シリコンのスパッタ膜のよ
うな透明絶縁膜６を形成し、更にその上に金属膜のよう
な不透明膜７を形成し、フォトリソグラフィ一工程によ
り選択的に透明導電１ｕ４の間隙に残存させるような方
法があった。
しかしながら、上記方法は、フォトリソグラフィ一工程
が少なくとも１回増すことになり歩留りの低下を招き易
く、かつ電着膜の耐薬品性が甚だ弱く不透明膜７を形成
する際に、電着膜５が損傷を受は易いという欠点があり
実現性が極めて乏しかった。
が少なくとも１回増すことになり歩留りの低下を招き易
く、かつ電着膜の耐薬品性が甚だ弱く不透明膜７を形成
する際に、電着膜５が損傷を受は易いという欠点があり
実現性が極めて乏しかった。
そこで、本発明は従来のこのような欠点を解決する為、
遮光性をフォトマスクとしても使用する製造方法を用い
ることにより、所望の部分以外の全ての領域が遮光され
ているカラーフィルターを得ることを目的としている。
遮光性をフォトマスクとしても使用する製造方法を用い
ることにより、所望の部分以外の全ての領域が遮光され
ているカラーフィルターを得ることを目的としている。
上記問題点を解決するために、本発明は予めカラーフィ
ルター以外の部分、即ち遮光すべき部分を黒色塗料によ
り形成しその後、透明導電膜を形成し、前記黒色塗料を
フォトマスクとして使い裏面より露光することにより前
記透明導電膜を選択的に分離し、その後、電着法により
前記透明導電膜上に電着膜によるカラーフィルターを形
成することにより、遮光膜とカラーフィルタ一部が自己
整合構成であるカラーフィルターを得ることを可能とし
た。
ルター以外の部分、即ち遮光すべき部分を黒色塗料によ
り形成しその後、透明導電膜を形成し、前記黒色塗料を
フォトマスクとして使い裏面より露光することにより前
記透明導電膜を選択的に分離し、その後、電着法により
前記透明導電膜上に電着膜によるカラーフィルターを形
成することにより、遮光膜とカラーフィルタ一部が自己
整合構成であるカラーフィルターを得ることを可能とし
た。
上記のように製造したカラーフィルターでは、従来の電
着フィルターのようなフィルターパターン間隙からの漏
れ光によるホワイトバイアスの効果は皆無となる為、カ
ラーフィルターの色再現性が飛躍的に向上するとともに
、従来のような複数回に及ぶフォトリソグラフィ一工程
を必要とはしない為、製造工程上からの歩留り低下はほ
とんど無いという利点がある。
着フィルターのようなフィルターパターン間隙からの漏
れ光によるホワイトバイアスの効果は皆無となる為、カ
ラーフィルターの色再現性が飛躍的に向上するとともに
、従来のような複数回に及ぶフォトリソグラフィ一工程
を必要とはしない為、製造工程上からの歩留り低下はほ
とんど無いという利点がある。
以下に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第
１図（δ）において、透明絶縁物基板１として、本実施
例では、通常のガラス基板を用い、その上に黒色塗料２
を選択的に形成する。本実施例では、黒色塗料として、
感光性ポリイミド樹脂に黒色顔料を分散したものを用い
、フォトリソグラフィ一工程により分離形成を行った。
１図（δ）において、透明絶縁物基板１として、本実施
例では、通常のガラス基板を用い、その上に黒色塗料２
を選択的に形成する。本実施例では、黒色塗料として、
感光性ポリイミド樹脂に黒色顔料を分散したものを用い
、フォトリソグラフィ一工程により分離形成を行った。
黒色塗料としては、後工程である透明導電膜除去時の耐
薬品性を有しており、かつ化学的に安定であるものであ
れば他の材質のものであっても何ら問題は無い。
薬品性を有しており、かつ化学的に安定であるものであ
れば他の材質のものであっても何ら問題は無い。
また、フォトリソグラフィ一工程を用いずとも、例えば
印刷法により選択的に形成しても同様の作用を得ること
ができる。
印刷法により選択的に形成しても同様の作用を得ること
ができる。
尚、黒色塗料の厚さは、塗料内に分散した黒色顔料の密
度により決定されるが本実施例では約２μｍの厚さに形
成した。黒色を呈する塗料であって裏面露光に際して光
を充分に減衰させることが出来るのであれば、顔料と限
定せずとも、染料や絶縁物の微粉末であっても構わない
。
度により決定されるが本実施例では約２μｍの厚さに形
成した。黒色を呈する塗料であって裏面露光に際して光
を充分に減衰させることが出来るのであれば、顔料と限
定せずとも、染料や絶縁物の微粉末であっても構わない
。
次に、透明導電膜３を形成する。本実施例ではＩＴＯ（
インジウム−スズ酸化物）を蒸着法により、１５００人
程度（約５０Ω１０）の厚みで付着させた０次に、ネガ
型フォトレジスト４を塗布し、悟仮裏面より露光し現像
を行う。本実施例では、フォトレジストとして東京応化
型ＯＭＲ−８５を使用した。現像後の断面図を（ｂｌに
示す。
インジウム−スズ酸化物）を蒸着法により、１５００人
程度（約５０Ω１０）の厚みで付着させた０次に、ネガ
型フォトレジスト４を塗布し、悟仮裏面より露光し現像
を行う。本実施例では、フォトレジストとして東京応化
型ＯＭＲ−８５を使用した。現像後の断面図を（ｂｌに
示す。
次に、選択的に残されたフォトレジストをマスりとして
、透明４電膜３の不要部（はぼ遮光部と同一形状）を除
去する。ＩＴＯ用エフェッチヤントて本実施例では塩素
系溶剤を用いた。次にレジストを剥離し、ｆｃ）に示す
断面図の形状に透明導電ｎり３を露出させる。
、透明４電膜３の不要部（はぼ遮光部と同一形状）を除
去する。ＩＴＯ用エフェッチヤントて本実施例では塩素
系溶剤を用いた。次にレジストを剥離し、ｆｃ）に示す
断面図の形状に透明導電ｎり３を露出させる。
次に、電着法により所望の透明導電膜残存部に給電する
ことにより、所望の色、厚さの電着層（電着フィルター
）をｆｄ＋に示すごとく透明導電膜４上に形成し、所望
のカラーフィルターを得ることができる。
ことにより、所望の色、厚さの電着層（電着フィルター
）をｆｄ＋に示すごとく透明導電膜４上に形成し、所望
のカラーフィルターを得ることができる。
このようにして作製したカラーフィルターは、色再現性
としては、色度図上、ＮＴＳａＩＪに比べ８５％以上の
面積（色再現性）があり、良好な特性を得ていた。一方
、２００℃、２時間加熱においても何ら退色変色はみら
れなかった。更に、サンシャインカーボンアークウェザ
−メーターで４００時間の耐光試験を行ったが何ら退色
変色はみられず充分な耐光性を得ている。又、パネルで
の信顛性評価として４０℃、９０％ＲＨ電圧印加１００
０Ｖｆ間経過後も消費電流に大きな変化はみられず良好
な借問性を有することを確認している。
としては、色度図上、ＮＴＳａＩＪに比べ８５％以上の
面積（色再現性）があり、良好な特性を得ていた。一方
、２００℃、２時間加熱においても何ら退色変色はみら
れなかった。更に、サンシャインカーボンアークウェザ
−メーターで４００時間の耐光試験を行ったが何ら退色
変色はみられず充分な耐光性を得ている。又、パネルで
の信顛性評価として４０℃、９０％ＲＨ電圧印加１００
０Ｖｆ間経過後も消費電流に大きな変化はみられず良好
な借問性を有することを確認している。
本発明番よ、以上説明したように、遮光膜を有する電着
カラーフィルターとして、品質、信頼性の高いものを安
定に、かつ再現性良く得る上で利用価値の極めて大きい
ものである。
カラーフィルターとして、品質、信頼性の高いものを安
定に、かつ再現性良く得る上で利用価値の極めて大きい
ものである。
第１図ｆａ）〜ｆｄｌは、本発明にかかる遮光膜付電着
フィルターの製造方法の工程順に沿った断面図、第２懺
Ｎｔ来の電着フィルターの製造方法の工程順の沿った断
面図、第３図は従来の遮光膜付電着フィルターの一構造
例の断面図である。 ！・・・透明絶縁物基板 ２・・・黒色塗料 ３・・・透明導電膜 ４・・・ネガ型フォトレジスト ５・・・電着膜 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 第２図 第３図
フィルターの製造方法の工程順に沿った断面図、第２懺
Ｎｔ来の電着フィルターの製造方法の工程順の沿った断
面図、第３図は従来の遮光膜付電着フィルターの一構造
例の断面図である。 ！・・・透明絶縁物基板 ２・・・黒色塗料 ３・・・透明導電膜 ４・・・ネガ型フォトレジスト ５・・・電着膜 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 第２図 第３図
Claims (2)
- （１）透明絶縁物基板上に、遮光性を有する膜を選択的
に形成する第１工程、前記遮光性を有する膜上に透明導
電膜を形成する第２工程、前記透明導電膜上にネガ型フ
ォトレジストをコートする第３工程、前記透明絶縁物基
板裏面より前記遮光性を有する膜をフォトマスクとして
前記ネガ型フォトレジストを露光することにより選択的
にフォトレジストを残す第４工程、前記フォトレジスト
をマスクとして選択的に前記透明導電膜を除去する第５
工程、前記フォトレジストを除去する第６工程、前記選
択的に形成した透明導電膜上に所望の着色層を電着法に
より選択的に形成する第７工程とから成るカラーフィル
ターの製造方法。 - （２）前記遮光性を有する膜が、黒色塗料であることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載のカラーフィルタ
ーの製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5476087A JPH0786564B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5476087A JPH0786564B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63220202A true JPS63220202A (ja) | 1988-09-13 |
| JPH0786564B2 JPH0786564B2 (ja) | 1995-09-20 |
Family
ID=12979725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5476087A Expired - Fee Related JPH0786564B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0786564B2 (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5093334A (ja) * | 1973-12-19 | 1975-07-25 | ||
| JPS5817405A (ja) * | 1981-07-23 | 1983-02-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 多色光学フイルタおよびその製造方法 |
| JPS599635A (ja) * | 1982-07-07 | 1984-01-19 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置 |
| JPS61116333A (ja) * | 1984-11-12 | 1986-06-03 | Sanyo Electric Co Ltd | 多色液晶表示器用基板の製造方法 |
| JPS63124003A (ja) * | 1986-11-14 | 1988-05-27 | Seiko Instr & Electronics Ltd | カラ−フイルタ−の製造方法 |
-
1987
- 1987-03-10 JP JP5476087A patent/JPH0786564B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5093334A (ja) * | 1973-12-19 | 1975-07-25 | ||
| JPS5817405A (ja) * | 1981-07-23 | 1983-02-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 多色光学フイルタおよびその製造方法 |
| JPS599635A (ja) * | 1982-07-07 | 1984-01-19 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置 |
| JPS61116333A (ja) * | 1984-11-12 | 1986-06-03 | Sanyo Electric Co Ltd | 多色液晶表示器用基板の製造方法 |
| JPS63124003A (ja) * | 1986-11-14 | 1988-05-27 | Seiko Instr & Electronics Ltd | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0786564B2 (ja) | 1995-09-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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