JPS63124003A - カラ−フイルタ−の製造方法 - Google Patents
カラ−フイルタ−の製造方法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
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- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電着法を用いたカラーフィルターの製造方法
に関する。
に関する。
本発明は、遮光膜付電着カラーフィルターにおいて、遮
光膜として不透明導電膜を用い、それを陽極酸化すると
ともに、かつフォトマスクとして使用することにより、
ただ１回のフォトマスク工程で遮光膜付電着カラーフィ
ルターを製造可能としたものである。
光膜として不透明導電膜を用い、それを陽極酸化すると
ともに、かつフォトマスクとして使用することにより、
ただ１回のフォトマスク工程で遮光膜付電着カラーフィ
ルターを製造可能としたものである。
従来、第２図（ａ）、 （ｂｌに示すように、透明絶縁
物基板ｌ上に選択的に透明導電膜４を形成し、その透明
導電膜上に所望の色を電着法により選択的に電着ｌｌｌ
ｌ５を形成することにより、カラーフィルターを製造し
ていた。
物基板ｌ上に選択的に透明導電膜４を形成し、その透明
導電膜上に所望の色を電着法により選択的に電着ｌｌｌ
ｌ５を形成することにより、カラーフィルターを製造し
ていた。
しかし、従来の電着法によるカラーフィルター（以下、
電着フィルターと略す、）においては、第２図からも明
らかのように、所望の形状のカラーフィルターを得るた
めには、必然的に透明導電膜を分離する必要があワた。
電着フィルターと略す、）においては、第２図からも明
らかのように、所望の形状のカラーフィルターを得るた
めには、必然的に透明導電膜を分離する必要があワた。
従って、分離された間隙には電着膜は形成されず、光が
ほとんど透過してしまう部分が必然的に存在してしまう
ことになる。
ほとんど透過してしまう部分が必然的に存在してしまう
ことになる。
このことは、カラーフィルターにおいては、色再現性と
して必然的に漏れ光によるホワイトバイアスが生じてい
ることになり、大きな色度を得にくい欠点があった。
して必然的に漏れ光によるホワイトバイアスが生じてい
ることになり、大きな色度を得にくい欠点があった。
この欠点を除去するために、例えば第３図に示すように
、電着膜５の上に例えば２酸化シリコンのスパッタ膜の
ような透明絶縁膜６を形成し、更にその上に金属膜のよ
うな不透明膜７を形成し、フォトリソグラフィー工程に
より選択的に透明導電膜４の間隙に残存させるような方
法があった。
、電着膜５の上に例えば２酸化シリコンのスパッタ膜の
ような透明絶縁膜６を形成し、更にその上に金属膜のよ
うな不透明膜７を形成し、フォトリソグラフィー工程に
より選択的に透明導電膜４の間隙に残存させるような方
法があった。
しかしながら、上記方法は、フォトリソグラフィー工程
が少なくとも１回増すことになり歩留りの低下を招き易
く、かつ電着膜の耐薬品性が甚だ弱く不透明１！Ｊ７を
形成する際に、電着膜５が損傷を受は易いという欠点が
あり実現性が極めて乏しかった。
が少なくとも１回増すことになり歩留りの低下を招き易
く、かつ電着膜の耐薬品性が甚だ弱く不透明１！Ｊ７を
形成する際に、電着膜５が損傷を受は易いという欠点が
あり実現性が極めて乏しかった。
そこで、本発明は、従来のこのような欠点を解決するた
め、ただ１回のフォトリソグラフィー工程のみを用いて
所望の部分以外の全ての領域が遮光されているカラーフ
ィルターを得ることを目的としている。
め、ただ１回のフォトリソグラフィー工程のみを用いて
所望の部分以外の全ての領域が遮光されているカラーフ
ィルターを得ることを目的としている。
上記問題点を解決するために、本発明は、予めカラーフ
ィルター以外の部分、即ち遮光すべき部分を例えば金属
のような不透明導電膜により形成し、その導電膜に陽極
酸化を施すことにより酸化絶縁膜を被覆し、その後、透
明導電膜を形成し、前記不透明導電膜をフォトマスクと
して使い裏面より露光することにより前記透明導電膜を
選択的に分離し、その後、電着法により前記透明導電膜
上に電着膜によるカラーフィルターを形成することによ
り、ただ１回のフォトリソグラフィー工程のみで不要部
は全て遮光膜が存在するカラーフィルターを得ることに
した。
ィルター以外の部分、即ち遮光すべき部分を例えば金属
のような不透明導電膜により形成し、その導電膜に陽極
酸化を施すことにより酸化絶縁膜を被覆し、その後、透
明導電膜を形成し、前記不透明導電膜をフォトマスクと
して使い裏面より露光することにより前記透明導電膜を
選択的に分離し、その後、電着法により前記透明導電膜
上に電着膜によるカラーフィルターを形成することによ
り、ただ１回のフォトリソグラフィー工程のみで不要部
は全て遮光膜が存在するカラーフィルターを得ることに
した。
上記のように製造したカラーフィルターでは、従来の電
着フィルターのようなフィルターパターン間隙からの漏
れ光によるホワイトバイアスは皆無となるため、カラー
フィルターの色再現性の飛躍的に向上するとともに、フ
ォトリソグラフィー工程は従来同様ただ１回のみである
ため、製造工程上からの歩留り低下はほとんどなく、か
つ遮光膜として′ｇｊ掻酸化膜が被覆された導電膜を使
用しているために化学的に安定であり信頼性も高いとい
う利点がある。
着フィルターのようなフィルターパターン間隙からの漏
れ光によるホワイトバイアスは皆無となるため、カラー
フィルターの色再現性の飛躍的に向上するとともに、フ
ォトリソグラフィー工程は従来同様ただ１回のみである
ため、製造工程上からの歩留り低下はほとんどなく、か
つ遮光膜として′ｇｊ掻酸化膜が被覆された導電膜を使
用しているために化学的に安定であり信頼性も高いとい
う利点がある。
以下に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第
１図１８１において、透明絶縁基板ｌとして本実施例で
は、通常のガラス基板を用い、その上に不透明膜を膜２
を形成する０本実施例では、素材としてＡｌを用い１μ
ｍの厚さにスパッタリングにより形成した０次にフォト
レジストを塗布した後、所望の遮光膜パターン（カラー
フィルターパターンの反転）状に選択的にレジストを残
存させ、不要のＡ１部を除去した後、レジストを剥離す
る０本実施例においては、ＡＩを用いたが、例えば他の
金属、Ｃｒ、Ｔａ等の金属であっても何ら不都合は生じ
ない。
１図１８１において、透明絶縁基板ｌとして本実施例で
は、通常のガラス基板を用い、その上に不透明膜を膜２
を形成する０本実施例では、素材としてＡｌを用い１μ
ｍの厚さにスパッタリングにより形成した０次にフォト
レジストを塗布した後、所望の遮光膜パターン（カラー
フィルターパターンの反転）状に選択的にレジストを残
存させ、不要のＡ１部を除去した後、レジストを剥離す
る０本実施例においては、ＡＩを用いたが、例えば他の
金属、Ｃｒ、Ｔａ等の金属であっても何ら不都合は生じ
ない。
次に、本実施例ではＨｚ Ｓ Ｏ４１０％溶液中に上記
基板を浸漬し、該基板を陽極として１．５ Ａ／−の電
流密度で陽極酸化を行う、陽極にはＡｌ板を用いた。約
５分間で（ｂｌに示すように、Ａｌ上に陽極酸化絶縁膜
３が形成され白色の皮膜となる０次に該基板をＨ□ＳＯ
４溶液から取り出し、脱塩水で充分に洗浄後、更に脱塩
水で３０分間煮沸し孔を封孔する。
基板を浸漬し、該基板を陽極として１．５ Ａ／−の電
流密度で陽極酸化を行う、陽極にはＡｌ板を用いた。約
５分間で（ｂｌに示すように、Ａｌ上に陽極酸化絶縁膜
３が形成され白色の皮膜となる０次に該基板をＨ□ＳＯ
４溶液から取り出し、脱塩水で充分に洗浄後、更に脱塩
水で３０分間煮沸し孔を封孔する。
次に、透明導電膜４を形成する０本実施例では！ＴＯ（
インジウム−スズ−酸化物）を蒸着法により、１５００
人程度ζ５０Ω／口）の厚みで付着させた０次に、ネガ
型フォトレジスト５を塗布し、基板裏面より露光・現像
を行う０本実施例では、フォトレジストとして東京応化
部ＯＭＲ−８５を使用した。現像後の断面図を（Ｃ）に
示す。
インジウム−スズ−酸化物）を蒸着法により、１５００
人程度ζ５０Ω／口）の厚みで付着させた０次に、ネガ
型フォトレジスト５を塗布し、基板裏面より露光・現像
を行う０本実施例では、フォトレジストとして東京応化
部ＯＭＲ−８５を使用した。現像後の断面図を（Ｃ）に
示す。
次に、選択的に残されたフォトレジストをマスりとして
、透明導を膜４の不要部（はぼ遮光部と同一形状）を除
去する。ＩＴＯ用エフェッチヤントて本実施例では塩素
系溶材を用いた０次に、レジストを剥離し、（ｄｌに示
す断面図の形状に透明導電ＤＩＩ４を露出させた。
、透明導を膜４の不要部（はぼ遮光部と同一形状）を除
去する。ＩＴＯ用エフェッチヤントて本実施例では塩素
系溶材を用いた０次に、レジストを剥離し、（ｄｌに示
す断面図の形状に透明導電ＤＩＩ４を露出させた。
次に、電着法により、所望の透明導電膜残存部に給電す
ることにより所望の色・厚さの電着層（電着フィルター
）を（ａ）に示すごとく透明導電膜４上に形成し、所望
のカラーフィルターを得ることができる。
ることにより所望の色・厚さの電着層（電着フィルター
）を（ａ）に示すごとく透明導電膜４上に形成し、所望
のカラーフィルターを得ることができる。
本実施例において、陽極酸化処理を不透明導電膜２に施
す理由は、上記説明からも明らかなように、透明導電ｌ
ｌＩ４上に電着法により電着膜を形成する際に不透明導
電膜を介して所望の箇所以外に電流が流れないようにす
ることと、陽極酸化膜を形成することにより、不透明導
電膜の化学的安定性を飛躍的に向上させるためである。
す理由は、上記説明からも明らかなように、透明導電ｌ
ｌＩ４上に電着法により電着膜を形成する際に不透明導
電膜を介して所望の箇所以外に電流が流れないようにす
ることと、陽極酸化膜を形成することにより、不透明導
電膜の化学的安定性を飛躍的に向上させるためである。
このようにして作製したカラーフィルターは、色再現性
としては、色度図上、ＮＴＳＣ標準に比べ８５％以上の
面積（色再現性）があり、良好な特性を得ている。一方
、２００℃、２時間過熱においても何ら退色変色はみら
れなかった。更に、サンシャインカーボンアークウェザ
−メーターで４００時間の耐光試験を行ったが何ら退色
変色はみられず充分な耐光性を得ている。又、パネルで
のイε転性評価として４０℃、９０％ＲＨ電圧印力旧ｏ
ｏｏ時間経過後も消費電流に大きな変化はみられず良好
な信幀性を有することをｉｌ！ｌている。
としては、色度図上、ＮＴＳＣ標準に比べ８５％以上の
面積（色再現性）があり、良好な特性を得ている。一方
、２００℃、２時間過熱においても何ら退色変色はみら
れなかった。更に、サンシャインカーボンアークウェザ
−メーターで４００時間の耐光試験を行ったが何ら退色
変色はみられず充分な耐光性を得ている。又、パネルで
のイε転性評価として４０℃、９０％ＲＨ電圧印力旧ｏ
ｏｏ時間経過後も消費電流に大きな変化はみられず良好
な信幀性を有することをｉｌ！ｌている。
本発明は、以上説明したように、遮光膜を有する電着カ
ラーフィルターとして品質・信幀性の高いものを安定に
かつ再現性良く得る上で、利用価値の極めて大きいもの
である。
ラーフィルターとして品質・信幀性の高いものを安定に
かつ再現性良く得る上で、利用価値の極めて大きいもの
である。
第１図１ａｌ〜ｔｅｌは、本発明にかかる遮光膜付電着
程順に沿った断面図、第３図は、従来の遮光膜付電着フ
ィルターの構造例の断面図である。 １・・・透明絶縁物基板 ２・・・不透明導電膜 ３・・・陽極酸化絶縁膜 ４・・・透明導電膜 ５・・・ネガ型フォトレジスト ６・・・透明絶縁膜 ７・・・不透明膜 以上 （ａ） （ｂ） （Ｃ） （ｄ）
程順に沿った断面図、第３図は、従来の遮光膜付電着フ
ィルターの構造例の断面図である。 １・・・透明絶縁物基板 ２・・・不透明導電膜 ３・・・陽極酸化絶縁膜 ４・・・透明導電膜 ５・・・ネガ型フォトレジスト ６・・・透明絶縁膜 ７・・・不透明膜 以上 （ａ） （ｂ） （Ｃ） （ｄ）
Claims (1)
- （１）透明絶縁物基板上に、不透明導電膜を選択的に形
成する第１工程、前記導電膜を陽極酸化し、該導電膜上
に酸化絶縁膜を形成する第２工程、前記酸化絶縁膜が被
覆された導電膜上に透明導電膜を形成する第３工程、前
記透明導電膜上にネガ型フォトレジストをコートする第
４工程、前記絶縁物基板裏面より前記導電膜をマスクと
して前記ネガ型フォトレジストを露光し選択的にフォト
レジストを残す第５工程、前記フォトレジストにより選
択的に前記透明導電膜を除去する第６工程、前記フォト
レジストを除去する第７工程、前記選択的に形成した透
明導電膜上に所望の色を電着法により選択的に電着膜を
形成する第８工程とから成るカラーフィルターの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27141886A JPH083562B2 (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27141886A JPH083562B2 (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63124003A true JPS63124003A (ja) | 1988-05-27 |
| JPH083562B2 JPH083562B2 (ja) | 1996-01-17 |
Family
ID=17499761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27141886A Expired - Fee Related JPH083562B2 (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH083562B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63220202A (ja) * | 1987-03-10 | 1988-09-13 | Seiko Instr & Electronics Ltd | カラ−フイルタ−の製造方法 |
| WO1992004654A1 (en) * | 1990-08-31 | 1992-03-19 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Color filter, method of producing the same, color liquid crystal panel and method of driving the same |
| JPH04275505A (ja) * | 1991-03-04 | 1992-10-01 | Idemitsu Kosan Co Ltd | カラーフィルタ及びその製造方法並びに該カラーフィルタを用いたカラー液晶ディスプレイ |
| JPH06230211A (ja) * | 1991-03-29 | 1994-08-19 | Idemitsu Kosan Co Ltd | カラーフィルタ及びその製造方法並びに該カラーフィルタを用いたカラー液晶ディスプレイ及びその駆動方法 |
| US7347924B1 (en) * | 2002-12-24 | 2008-03-25 | Ij Research, Inc. | Anodizing of optically transmissive substrate |
-
1986
- 1986-11-14 JP JP27141886A patent/JPH083562B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63220202A (ja) * | 1987-03-10 | 1988-09-13 | Seiko Instr & Electronics Ltd | カラ−フイルタ−の製造方法 |
| JPH0786564B2 (ja) * | 1987-03-10 | 1995-09-20 | セイコー電子工業株式会社 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
| WO1992004654A1 (en) * | 1990-08-31 | 1992-03-19 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Color filter, method of producing the same, color liquid crystal panel and method of driving the same |
| JPH04275505A (ja) * | 1991-03-04 | 1992-10-01 | Idemitsu Kosan Co Ltd | カラーフィルタ及びその製造方法並びに該カラーフィルタを用いたカラー液晶ディスプレイ |
| JPH06230211A (ja) * | 1991-03-29 | 1994-08-19 | Idemitsu Kosan Co Ltd | カラーフィルタ及びその製造方法並びに該カラーフィルタを用いたカラー液晶ディスプレイ及びその駆動方法 |
| US7347924B1 (en) * | 2002-12-24 | 2008-03-25 | Ij Research, Inc. | Anodizing of optically transmissive substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH083562B2 (ja) | 1996-01-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
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