JPH083562B2 - カラ−フイルタ−の製造方法 - Google Patents
カラ−フイルタ−の製造方法Info
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- JPH083562B2 JPH083562B2 JP27141886A JP27141886A JPH083562B2 JP H083562 B2 JPH083562 B2 JP H083562B2 JP 27141886 A JP27141886 A JP 27141886A JP 27141886 A JP27141886 A JP 27141886A JP H083562 B2 JPH083562 B2 JP H083562B2
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- JP
- Japan
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- conductive film
- film
- electrodeposition
- color filter
- transparent conductive
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電着法を用いたカラーフィルターの製造方
法に関する。
法に関する。
本発明は、遮光膜付着電着カラーフィルターにおい
て、遮光膜として不透明導電膜を用い、それを陽極酸化
するとともに、かつフオトマスクとして使用することに
より、ただ１回のフォトマスク工程で遮光膜付電着カラ
ーフィルターを製造可能としたものである。
て、遮光膜として不透明導電膜を用い、それを陽極酸化
するとともに、かつフオトマスクとして使用することに
より、ただ１回のフォトマスク工程で遮光膜付電着カラ
ーフィルターを製造可能としたものである。
従来、第２図（ａ），（ｂ）に示すように、透明絶縁
物基板１上に選択的に透明導電膜４を形成し、その透明
導電膜上に所望の色を電着法により選択的に電着膜５を
形成することにより、カラーフィルターを製造してい
た。
物基板１上に選択的に透明導電膜４を形成し、その透明
導電膜上に所望の色を電着法により選択的に電着膜５を
形成することにより、カラーフィルターを製造してい
た。
しかし、従来の電着法によるカラーフィルター（以
下、電着フィルターと略す。）においては、第２図から
も明らかのように、所望の形状のカラーフィルタを得る
ためには、必然的に透明導電膜を分離する必要があっ
た。従って、分離された間隙には電着膜を形成されず、
光がほとんど透過してしまう部分が必然点に存在してし
まうことになる。
下、電着フィルターと略す。）においては、第２図から
も明らかのように、所望の形状のカラーフィルタを得る
ためには、必然的に透明導電膜を分離する必要があっ
た。従って、分離された間隙には電着膜を形成されず、
光がほとんど透過してしまう部分が必然点に存在してし
まうことになる。
このことは、カラーフィルターにおいては、色再現性
として必然的に漏れ光によるホワイトバイアスが生じて
いることになり、大きな色度を得にくい欠点があった。
として必然的に漏れ光によるホワイトバイアスが生じて
いることになり、大きな色度を得にくい欠点があった。
この欠点を除去するために、例えば第３図に示すよう
に、電着膜５の上に例えば２酸化シリコンのスパッタ膜
のような透明絶縁膜６を形成し、更にその上に金属膜の
ような不透明膜７を形成し、フォトリソグラフィー工程
により選択的に透明導電膜４の間隙に残存させるような
方法があった。
に、電着膜５の上に例えば２酸化シリコンのスパッタ膜
のような透明絶縁膜６を形成し、更にその上に金属膜の
ような不透明膜７を形成し、フォトリソグラフィー工程
により選択的に透明導電膜４の間隙に残存させるような
方法があった。
しかしながら、上記方法は、フォトリソグラフィー工
程が少なくとも１回増すことになり歩留りの低下を招き
易く、かつ電着膜の耐薬品性が甚だ弱く不透明膜７を形
成する際に、電着膜５が損傷を受け易いという欠点があ
り実現性が極めて乏しかった。
程が少なくとも１回増すことになり歩留りの低下を招き
易く、かつ電着膜の耐薬品性が甚だ弱く不透明膜７を形
成する際に、電着膜５が損傷を受け易いという欠点があ
り実現性が極めて乏しかった。
そこで、本発明は、従来のこのような欠点を解決する
ため、ただ１回のフォトリソグラフィー工程のみを用い
て所望の部分以外の全ての領域が遮光されているカラー
フィルターを得ることを目的としている。
ため、ただ１回のフォトリソグラフィー工程のみを用い
て所望の部分以外の全ての領域が遮光されているカラー
フィルターを得ることを目的としている。
上記問題点を解決するために、本発明は、予めカラー
フィルター以外の部分、即ち遮光すべき部分を例えば金
属のような不透明導電膜により形成し、その導電膜に陽
極酸化を施すことにより酸化絶縁膜を被覆し、その後、
透明導電膜を形成し、前記不透明導電膜をフォトマスク
として使い裏面より露光することにより前記透明導電膜
を選択的に分離し、その後、電着法により前記透明導電
膜上に電着膜によるカラーフィルターを形成することに
より、ただ１回のフォトリソグラフィー工程のみで不要
部は全て遮光膜が存在するカラーフィルターを得ること
にした。
フィルター以外の部分、即ち遮光すべき部分を例えば金
属のような不透明導電膜により形成し、その導電膜に陽
極酸化を施すことにより酸化絶縁膜を被覆し、その後、
透明導電膜を形成し、前記不透明導電膜をフォトマスク
として使い裏面より露光することにより前記透明導電膜
を選択的に分離し、その後、電着法により前記透明導電
膜上に電着膜によるカラーフィルターを形成することに
より、ただ１回のフォトリソグラフィー工程のみで不要
部は全て遮光膜が存在するカラーフィルターを得ること
にした。
上記のように製造したカラーフィルターでは、従来の
電着フィルターのようなフィルターパターン間隙からの
漏れ光によるホワイトバイアスを皆無となるため、カラ
ーフィルターの色再現性の飛躍的に向上するとともに、
フォトリソグフィー工程は従来同様ただ１回のみである
ため、製造工程上からの歩留り低下はほとんどなく、か
つ遮光膜として陽極酸化膜が被覆された導電膜を使用し
ているために化学的に安定であり信頼性も高いという利
点がある。
電着フィルターのようなフィルターパターン間隙からの
漏れ光によるホワイトバイアスを皆無となるため、カラ
ーフィルターの色再現性の飛躍的に向上するとともに、
フォトリソグフィー工程は従来同様ただ１回のみである
ため、製造工程上からの歩留り低下はほとんどなく、か
つ遮光膜として陽極酸化膜が被覆された導電膜を使用し
ているために化学的に安定であり信頼性も高いという利
点がある。
以下に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図（ａ）において、透明絶縁基板１として本実施例
では、通常のガラス基板を用い、その上に不透明導電膜
２を形成する。本実施例では、素材としてAlを用い１μ
ｍの厚さにスパッタリングにより形成した。次にフォト
レジストを塗布した後、所望の遮光膜パターン（カラー
フィルターパターンの反転）状に選択的にレジストを残
存させ、不要のAl部を除去した後、レジストを剥離す
る。本実施例においては、Alを用いたが、例えば他の金
属、Cr,Ta等の金属であっても何ら不都合は生じない。
第１図（ａ）において、透明絶縁基板１として本実施例
では、通常のガラス基板を用い、その上に不透明導電膜
２を形成する。本実施例では、素材としてAlを用い１μ
ｍの厚さにスパッタリングにより形成した。次にフォト
レジストを塗布した後、所望の遮光膜パターン（カラー
フィルターパターンの反転）状に選択的にレジストを残
存させ、不要のAl部を除去した後、レジストを剥離す
る。本実施例においては、Alを用いたが、例えば他の金
属、Cr,Ta等の金属であっても何ら不都合は生じない。
次に、本実施例ではH2SO410％溶液中に上記基板を浸
漬し、該基板を陽極として1.5A/cm2の電流密度で陽極酸
化を行う。陽極にはAl板を用いた。約５分間で（ｂ）に
示すように、Al上に陽極酸化絶縁膜３が形成された白色
の皮膜となる。次に該基板をH2SO4溶液から取り出し、
脱塩水で充分に洗浄後、更に脱塩水で30分間煮し孔を封
孔する。
漬し、該基板を陽極として1.5A/cm2の電流密度で陽極酸
化を行う。陽極にはAl板を用いた。約５分間で（ｂ）に
示すように、Al上に陽極酸化絶縁膜３が形成された白色
の皮膜となる。次に該基板をH2SO4溶液から取り出し、
脱塩水で充分に洗浄後、更に脱塩水で30分間煮し孔を封
孔する。
次に、透明導電膜４を形成する。本実施例ではITO
（インジウム−スズ−酸化物）を蒸着法により、1500Å
程度（50Ω／□）の厚みで付着させた。次に、ネガ型フ
ォトレジスト５を塗布し、基板裏面より露光・現像を行
う。本実施例では、フォトレジストとして東京応化製OM
R−85を使用した。現像後の断面図を（ｃ）に示す。
（インジウム−スズ−酸化物）を蒸着法により、1500Å
程度（50Ω／□）の厚みで付着させた。次に、ネガ型フ
ォトレジスト５を塗布し、基板裏面より露光・現像を行
う。本実施例では、フォトレジストとして東京応化製OM
R−85を使用した。現像後の断面図を（ｃ）に示す。
次に、選択的に残されたフォトレジストをマスクとし
て、透明導電膜４の不要部（ほぼ遮光部と同一形状）を
除去する。ITO用エッチャントとして本実施例では塩素
系溶材を用いた。次に、レジストを剥離し、（ｄ）に示
す断面図の形状に透明導電膜４を露出させた。
て、透明導電膜４の不要部（ほぼ遮光部と同一形状）を
除去する。ITO用エッチャントとして本実施例では塩素
系溶材を用いた。次に、レジストを剥離し、（ｄ）に示
す断面図の形状に透明導電膜４を露出させた。
次に、電着法により、所望の透明導電膜残存部に給電
することにより所望の色・厚さの電着層（電着フィルタ
ー）を（ｅ）に示すごとく透明導電膜４上に形成し、所
望のカラーフィルターを得ることができる。
することにより所望の色・厚さの電着層（電着フィルタ
ー）を（ｅ）に示すごとく透明導電膜４上に形成し、所
望のカラーフィルターを得ることができる。
本実施例において、陽極酸化処理を不透明導電膜２に
施す理由は、上記説明からも明らかなように、透明導電
膜４上に電着法により電着膜を形成する際に不透明導電
膜を介して所望の箇所以外に電流が流れないようにする
ことと、陽極酸化膜を形成することにより、不透明導電
膜の化学的安定性を飛躍的に向上させるためである。
施す理由は、上記説明からも明らかなように、透明導電
膜４上に電着法により電着膜を形成する際に不透明導電
膜を介して所望の箇所以外に電流が流れないようにする
ことと、陽極酸化膜を形成することにより、不透明導電
膜の化学的安定性を飛躍的に向上させるためである。
このようにして作製したカラーフィルターは、色再現
性としては、色度図上、NTSC標準に比べ85％以上の面積
（色再現性）があり、良好な特性を得ている。一方、20
0℃、２時間過熱においても何ら退色変色はみられなか
った。更に、サンシャインカーボンアークウェザーメー
ターで400時間の耐光試験を行ったが何ら退色変色はみ
られず充分な耐光性を得ている。又、パネルでの信頼性
評価として40℃,90％RH電圧印加1000時間経過後も消費
電流に大きな変化はみられず良好な信頼性を有すること
を確認している。
性としては、色度図上、NTSC標準に比べ85％以上の面積
（色再現性）があり、良好な特性を得ている。一方、20
0℃、２時間過熱においても何ら退色変色はみられなか
った。更に、サンシャインカーボンアークウェザーメー
ターで400時間の耐光試験を行ったが何ら退色変色はみ
られず充分な耐光性を得ている。又、パネルでの信頼性
評価として40℃,90％RH電圧印加1000時間経過後も消費
電流に大きな変化はみられず良好な信頼性を有すること
を確認している。
本発明は、以上説明したように、遮光膜を有する電着
カラーフィルターとして品質・信頼性の高いものを安定
にかつ再現性良く得る上で、利用価値の極めて大きいも
のである。
カラーフィルターとして品質・信頼性の高いものを安定
にかつ再現性良く得る上で、利用価値の極めて大きいも
のである。
第１図（ａ）〜（ｅ）は、本発明にかかる遮光膜付電着
フィルターの製造方法の工程順に沿った断面図、第２図
（ａ）（ｂ）は、従来の電着フィルターの製造方法の工
程順に沿った断面図、第３図は、従来の遮光膜付電着フ
ィルターの構造例の断面図である。 １……透明絶縁物基板 ２……不透明導電膜 ３……陽極酸化絶縁膜 ４……透明導電膜 ５……ネガ型フォトレジスト ６……透明絶縁膜 ７……不透明膜
フィルターの製造方法の工程順に沿った断面図、第２図
（ａ）（ｂ）は、従来の電着フィルターの製造方法の工
程順に沿った断面図、第３図は、従来の遮光膜付電着フ
ィルターの構造例の断面図である。 １……透明絶縁物基板 ２……不透明導電膜 ３……陽極酸化絶縁膜 ４……透明導電膜 ５……ネガ型フォトレジスト ６……透明絶縁膜 ７……不透明膜
Claims (1)
- 【請求項１】透明絶縁物基板上に、不透明導電膜を選択
的に形成する第１工程、前記導電膜を陽極酸化し、該誘
電膜上に酸化絶縁膜を形成する第２工程、前記酸化絶縁
膜が被覆された導電膜上に透明導電膜を形成する第３工
程、前記透明導電膜上にネガ型フォトレジストをコート
する第４工程、前記絶縁物基板裏面より前記導電膜をマ
スクとして前記ネガ型フォトレジストを露光し選択的に
フォトレジストを残す第５工程、前記フォトレジストに
より選択的に前記透明導電膜を除去する第６工程、前記
フォトレジストを除去する第７工程、前記選択的に形成
した透明導電膜上に所望の色を電着法により選択的に電
着膜を形成する第８工程とから成るカラーフィルターの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27141886A JPH083562B2 (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27141886A JPH083562B2 (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63124003A JPS63124003A (ja) | 1988-05-27 |
| JPH083562B2 true JPH083562B2 (ja) | 1996-01-17 |
Family
ID=17499761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27141886A Expired - Fee Related JPH083562B2 (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH083562B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0786564B2 (ja) * | 1987-03-10 | 1995-09-20 | セイコー電子工業株式会社 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
| CA2072112C (en) * | 1990-08-31 | 1999-09-21 | Seiichirou Yokoyama | Color filters, their production process, color liquid crystal panels and method of driving the panels |
| JPH06230211A (ja) * | 1991-03-29 | 1994-08-19 | Idemitsu Kosan Co Ltd | カラーフィルタ及びその製造方法並びに該カラーフィルタを用いたカラー液晶ディスプレイ及びその駆動方法 |
| JPH04275505A (ja) * | 1991-03-04 | 1992-10-01 | Idemitsu Kosan Co Ltd | カラーフィルタ及びその製造方法並びに該カラーフィルタを用いたカラー液晶ディスプレイ |
| US7347924B1 (en) * | 2002-12-24 | 2008-03-25 | Ij Research, Inc. | Anodizing of optically transmissive substrate |
-
1986
- 1986-11-14 JP JP27141886A patent/JPH083562B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63124003A (ja) | 1988-05-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
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