JPH0786564B2 - カラ−フイルタ−の製造方法 - Google Patents
カラ−フイルタ−の製造方法Info
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- JPH0786564B2 JPH0786564B2 JP5476087A JP5476087A JPH0786564B2 JP H0786564 B2 JPH0786564 B2 JP H0786564B2 JP 5476087 A JP5476087 A JP 5476087A JP 5476087 A JP5476087 A JP 5476087A JP H0786564 B2 JPH0786564 B2 JP H0786564B2
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- JP
- Japan
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- transparent conductive
- film
- conductive film
- color filter
- light
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電着法を用いたカラーフィルターの製造方法
に関する。
に関する。
本発明は、予め黒色塗料を選択的に透明絶縁物基板（例
えば、ガラス基板）上に形成し、前記塗料上に透明導電
膜を形成し、前記塗料をフォトマスクとして裏面から露
光することにより前記黒色塗料のパターンの反転パター
ンとして前記透明導電膜を選択的に形成し、前記透明導
電膜上に所望の色を電着法により形成することにより、
遮光膜付の電着法によるカラーフィルターを簡便に得よ
うとする製造方法である。
えば、ガラス基板）上に形成し、前記塗料上に透明導電
膜を形成し、前記塗料をフォトマスクとして裏面から露
光することにより前記黒色塗料のパターンの反転パター
ンとして前記透明導電膜を選択的に形成し、前記透明導
電膜上に所望の色を電着法により形成することにより、
遮光膜付の電着法によるカラーフィルターを簡便に得よ
うとする製造方法である。
従来、第２図（ａ），（ｂ）に示すように、透明絶縁物
基板１上に選択的に透明導電膜４を形成し、その透明導
電膜４上に所望の色を電着法により選択的に電着膜５を
形成することにより、カラーフィルターを製造してい
た。
基板１上に選択的に透明導電膜４を形成し、その透明導
電膜４上に所望の色を電着法により選択的に電着膜５を
形成することにより、カラーフィルターを製造してい
た。
しかし、従来の電着法によるカラーフィルター（以下、
電着フィルターと略す。）においては、第２図からも明
らかなように、所望の形状のカラーフィルターを得る為
には、必然的に透明導電膜を分離する必要があった。従
って、分離された間隙には電着膜は形成されず、光がほ
とんど透過せざるを得ない部分が必然的に存在してしま
うことになる。
電着フィルターと略す。）においては、第２図からも明
らかなように、所望の形状のカラーフィルターを得る為
には、必然的に透明導電膜を分離する必要があった。従
って、分離された間隙には電着膜は形成されず、光がほ
とんど透過せざるを得ない部分が必然的に存在してしま
うことになる。
このことは、カラーフィルターにおいては、色再現性と
して必然的に漏れ光によるホワイトバイアスが生じてい
ることになり、大きな色度を得にくい欠点があった。
して必然的に漏れ光によるホワイトバイアスが生じてい
ることになり、大きな色度を得にくい欠点があった。
この欠点を除去する為に、例えば第３図に示すように、
電着膜５の上に例えば２酸化シリコンのスパッタ膜のよ
うな透明絶縁膜６を形成し、更にその上に金属膜のよう
な不透明膜７を形成し、フォトリソグラフィー工程によ
り選択的に透明導電膜４の間隙に残存させるような方法
があった。
電着膜５の上に例えば２酸化シリコンのスパッタ膜のよ
うな透明絶縁膜６を形成し、更にその上に金属膜のよう
な不透明膜７を形成し、フォトリソグラフィー工程によ
り選択的に透明導電膜４の間隙に残存させるような方法
があった。
しかしながら、上記方法は、フォトリソグラフィー工程
が少なくとも１回増すことになり歩留りの低下を招き易
く、かつ電着膜の耐薬品性が甚だ弱く不透明膜７を形成
する際に、電着膜５が損傷を受け易いという欠点があり
実現性が極めて乏しかった。
が少なくとも１回増すことになり歩留りの低下を招き易
く、かつ電着膜の耐薬品性が甚だ弱く不透明膜７を形成
する際に、電着膜５が損傷を受け易いという欠点があり
実現性が極めて乏しかった。
そこで、本発明は従来のこのような欠点を解決する為、
遮光膜をフォトマスクとしても使用する製造方法を用い
ることにより、所望の部分以外の全ての領域が遮光され
ているカラーフィルターを得ることを目的としている。
遮光膜をフォトマスクとしても使用する製造方法を用い
ることにより、所望の部分以外の全ての領域が遮光され
ているカラーフィルターを得ることを目的としている。
上記問題点を解決するために、本発明は予めカラーフィ
ルター以外の部分、即ち遮光すべき部分を黒色塗料によ
り形成しその後、透明導電膜を形成し、前記黒色塗料を
フォトマスクとして使い裏面より露光することにより前
記透明導電膜を選択的に分離し、その後、電着法により
前記透明導電膜上に電着膜によるカラーフィルターを形
成することにより、遮光膜とカラーフィルター部が自己
整合構成であるカラーフィルターを得ることを可能とし
た。
ルター以外の部分、即ち遮光すべき部分を黒色塗料によ
り形成しその後、透明導電膜を形成し、前記黒色塗料を
フォトマスクとして使い裏面より露光することにより前
記透明導電膜を選択的に分離し、その後、電着法により
前記透明導電膜上に電着膜によるカラーフィルターを形
成することにより、遮光膜とカラーフィルター部が自己
整合構成であるカラーフィルターを得ることを可能とし
た。
上記のように製造したカラーフィルターでは、従来の電
着フィルターのようなフィルターパターン間隙からの漏
れ光によるホワイトバイアスの効果は皆無となる為、カ
ラーフィルターの色再現性が飛躍的に向上するととも
に、従来のような複数回に及ぶフォトリソグラフィー工
程を必要とはしない為、製造工程上からの歩留り低下は
ほとんど無いという利点がある。
着フィルターのようなフィルターパターン間隙からの漏
れ光によるホワイトバイアスの効果は皆無となる為、カ
ラーフィルターの色再現性が飛躍的に向上するととも
に、従来のような複数回に及ぶフォトリソグラフィー工
程を必要とはしない為、製造工程上からの歩留り低下は
ほとんど無いという利点がある。
以下に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第
１図（ａ）において、透明絶縁物基板１として、本実施
例では、通常のガラス基板を用い、その上に黒色塗料２
を選択的に形成する。本実施例では、黒色塗料として、
感光性ポリイミド樹脂に黒色顔料を分散したものを用
い、フォトリソグラフィー工程により分離形成を行っ
た。黒色塗料としては、後工程である透明導電膜除去時
の耐薬品性を有しており、かつ化学的に安定であるもの
であれば他の材質のものであっても何ら問題は無い。ま
た、フォトリソグラフィー工程を用いずとも、例えば印
刷法により選択的に形成しても同様の作用を得ることが
できる。
１図（ａ）において、透明絶縁物基板１として、本実施
例では、通常のガラス基板を用い、その上に黒色塗料２
を選択的に形成する。本実施例では、黒色塗料として、
感光性ポリイミド樹脂に黒色顔料を分散したものを用
い、フォトリソグラフィー工程により分離形成を行っ
た。黒色塗料としては、後工程である透明導電膜除去時
の耐薬品性を有しており、かつ化学的に安定であるもの
であれば他の材質のものであっても何ら問題は無い。ま
た、フォトリソグラフィー工程を用いずとも、例えば印
刷法により選択的に形成しても同様の作用を得ることが
できる。
尚、黒色塗料の厚さは、塗料内に分散した黒色顔料の密
度により決定されるが本実施例では約２μｍの厚さに形
成した。黒色を呈する塗料であって裏面露光に際して光
を充分に減衰させることが出来るのであれば、顔料と限
定せずとも、染料や絶縁物の微粉末であっても構わな
い。
度により決定されるが本実施例では約２μｍの厚さに形
成した。黒色を呈する塗料であって裏面露光に際して光
を充分に減衰させることが出来るのであれば、顔料と限
定せずとも、染料や絶縁物の微粉末であっても構わな
い。
次に、透明導電膜３を形成する。本実施例ではITO（イ
ンジウム−スズ酸化物）を蒸着法により、1500Å程度
（約50Ω／□）の厚みで付着させた。次に、ネガ型フォ
トレジスト４を塗布し、基板裏面より露光し現像を行
う。本実施例では、フォトレジストとして東京応化製OM
R−85を使用した。現像後の断面図を（ｂ）に示す。
ンジウム−スズ酸化物）を蒸着法により、1500Å程度
（約50Ω／□）の厚みで付着させた。次に、ネガ型フォ
トレジスト４を塗布し、基板裏面より露光し現像を行
う。本実施例では、フォトレジストとして東京応化製OM
R−85を使用した。現像後の断面図を（ｂ）に示す。
次に、選択的に残されたフォトレジストをマスクとし
て、透過導電膜３の不要部（ほぼ遮光部と同一形状）を
除去する。ITO用エッチャントとして本実施例では塩素
系溶剤を用いた。次にレジストを剥離し、（ｃ）に示す
断面図の形状に透明導電膜３を露出させる。
て、透過導電膜３の不要部（ほぼ遮光部と同一形状）を
除去する。ITO用エッチャントとして本実施例では塩素
系溶剤を用いた。次にレジストを剥離し、（ｃ）に示す
断面図の形状に透明導電膜３を露出させる。
次に、電着法により所望の透明導電膜残存部に給電する
ことにより、所望の色、厚さの電着層（電着フィルタ
ー）を（ｄ）に示すごとく透明導電膜４上に形成し、所
望のカラーフィルターを得ることができる。
ことにより、所望の色、厚さの電着層（電着フィルタ
ー）を（ｄ）に示すごとく透明導電膜４上に形成し、所
望のカラーフィルターを得ることができる。
このようにして作製したカラーフィルターは、色再現性
としては、色度図上、NTSC標準に比べ85％以上の面積
（色再現性）があり、良好な特性を得ていた。一方、20
0℃,2時間加熱においても何ら退色変色はみられなかっ
た。更に、サンシャインカーボンアークウェザーメータ
ーで400時間の耐光試験を行ったが何ら退色変色はみら
れず充分な耐光性を得ている。又、パネルでの信頼性評
価として40℃,90％RH電圧印加1000時間経過後も消費電
流に大きな変化はみられず良好な信頼性を有することを
確認している。
としては、色度図上、NTSC標準に比べ85％以上の面積
（色再現性）があり、良好な特性を得ていた。一方、20
0℃,2時間加熱においても何ら退色変色はみられなかっ
た。更に、サンシャインカーボンアークウェザーメータ
ーで400時間の耐光試験を行ったが何ら退色変色はみら
れず充分な耐光性を得ている。又、パネルでの信頼性評
価として40℃,90％RH電圧印加1000時間経過後も消費電
流に大きな変化はみられず良好な信頼性を有することを
確認している。
黒色塗料からなる遮光膜を、本来の遮光膜の役割を果た
させるとともに、フォトレジストのマスクとして兼用さ
せることにより、フォトリソグラフィ工程を減らすこと
により、高品質、高信頼性のカラーフィルタを安定的
に、かつ、再現性良く製造できるものである。
させるとともに、フォトレジストのマスクとして兼用さ
せることにより、フォトリソグラフィ工程を減らすこと
により、高品質、高信頼性のカラーフィルタを安定的
に、かつ、再現性良く製造できるものである。
第１図（ａ）〜（ｄ）は、本発明にかかる遮光膜付電着
フィルターの製造方法の工程順に沿った断面図、第２図
（ａ）（ｂ）は従来の電着フィルターの製造方法の工程
順の沿った断面図、第３図は従来の遮光膜付電着フィル
ターの一構造例の断面図である。 １……透明絶縁物基板 ２……黒色塗料 ３……透明導電膜 ４……ネガ型フォトレジスト ５……電着膜
フィルターの製造方法の工程順に沿った断面図、第２図
（ａ）（ｂ）は従来の電着フィルターの製造方法の工程
順の沿った断面図、第３図は従来の遮光膜付電着フィル
ターの一構造例の断面図である。 １……透明絶縁物基板 ２……黒色塗料 ３……透明導電膜 ４……ネガ型フォトレジスト ５……電着膜
Claims (1)
- 【請求項１】透明絶縁基板上に、黒色塗料からなる遮光
膜を選択的に形成する第１工程と、前記遮光膜上に透明
導電膜を形成する第２工程と、前記透明導電膜上にネガ
型フォトレジストをコートする第３工程と、前記透明絶
縁物基板裏面より前記遮光膜をフォトマスクとして前記
ネガ型フォトレジストを残す第４工程と、前記フォトレ
ジストをマスクとして選択的に前記透明導電膜を除去す
る第５工程と、前記フォトレジストを除去する第６工程
と、前記選択的に形成した透明導電膜上に所望の着色層
を高分子と色素を電着する事により選択的に形成する第
７工程とから成るカラーフィルターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5476087A JPH0786564B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5476087A JPH0786564B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63220202A JPS63220202A (ja) | 1988-09-13 |
| JPH0786564B2 true JPH0786564B2 (ja) | 1995-09-20 |
Family
ID=12979725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5476087A Expired - Fee Related JPH0786564B2 (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0786564B2 (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5093334A (ja) * | 1973-12-19 | 1975-07-25 | ||
| JPS5817405A (ja) * | 1981-07-23 | 1983-02-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 多色光学フイルタおよびその製造方法 |
| JPS599635A (ja) * | 1982-07-07 | 1984-01-19 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置 |
| JPS61116333A (ja) * | 1984-11-12 | 1986-06-03 | Sanyo Electric Co Ltd | 多色液晶表示器用基板の製造方法 |
| JPS63124003A (ja) * | 1986-11-14 | 1988-05-27 | Seiko Instr & Electronics Ltd | カラ−フイルタ−の製造方法 |
-
1987
- 1987-03-10 JP JP5476087A patent/JPH0786564B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5093334A (ja) * | 1973-12-19 | 1975-07-25 | ||
| JPS5817405A (ja) * | 1981-07-23 | 1983-02-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 多色光学フイルタおよびその製造方法 |
| JPS599635A (ja) * | 1982-07-07 | 1984-01-19 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置 |
| JPS61116333A (ja) * | 1984-11-12 | 1986-06-03 | Sanyo Electric Co Ltd | 多色液晶表示器用基板の製造方法 |
| JPS63124003A (ja) * | 1986-11-14 | 1988-05-27 | Seiko Instr & Electronics Ltd | カラ−フイルタ−の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63220202A (ja) | 1988-09-13 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
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