JPS63217518A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(O)=O TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- 229940068492 thiosalicylate Drugs 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAJQCIFYLSXSEZ-UHFFFAOYSA-L tridecyl phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOP([O-])([O-])=O GAJQCIFYLSXSEZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OHRVKCZTBPSUIK-UHFFFAOYSA-N tridodecyl phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOP(=O)(OCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCC OHRVKCZTBPSUIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005691 triesters Chemical class 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITRNXVSDJBHYNJ-UHFFFAOYSA-N tungsten disulfide Chemical compound S=[W]=S ITRNXVSDJBHYNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は金属薄膜型磁気記録媒体、特に走行耐久性が改
良された金属薄膜型磁気記録媒体に関する。
良された金属薄膜型磁気記録媒体に関する。
「従来の技術」
近年、記録媒体の高密度化に伴い、従来の塗布型磁気記
録媒体に替わって、いわゆる金属薄膜型磁気記録媒体が
注目されるようになってきた。
録媒体に替わって、いわゆる金属薄膜型磁気記録媒体が
注目されるようになってきた。
しかし、金!j44膜型磁気記録媒体は、従来の塗布型
磁気記録媒体のように潤滑剤や研磨剤を磁性層中に混入
させることが困難なので、一般に走行耐久性が極めて悪
く、例えばCo−0r合金膜を設けた垂直磁気記録ディ
スクの場合100回程度の走行パスで表面の合金層とヘ
ッドとの間で凝着等が生じ走行不能になることがおうお
りにしである。
磁気記録媒体のように潤滑剤や研磨剤を磁性層中に混入
させることが困難なので、一般に走行耐久性が極めて悪
く、例えばCo−0r合金膜を設けた垂直磁気記録ディ
スクの場合100回程度の走行パスで表面の合金層とヘ
ッドとの間で凝着等が生じ走行不能になることがおうお
りにしである。
そこで、このような問題を解決する丸めに、液体@滑剤
を磁性層表面に塗布したり、固体保傾層を磁性ノー表面
に設けることが提案されている。この中では、固体潤滑
剤であるカーボンを主成分とする保護層を磁性層表面に
設けることが特に走行耐久性向上に効果のあることが知
られている(特公昭!≠−JJJ2/号公報)。
を磁性層表面に塗布したり、固体保傾層を磁性ノー表面
に設けることが提案されている。この中では、固体潤滑
剤であるカーボンを主成分とする保護層を磁性層表面に
設けることが特に走行耐久性向上に効果のあることが知
られている(特公昭!≠−JJJ2/号公報)。
「発明が解決しようとする問題点」
しかしながら、このようなカーボンを主成分とする保護
1tl−磁性金属薄膜表面に設けてもなお、走行耐久性
は充分でない。このことは主にヘッドに生じた付着物が
保護層とヘッドとの摩擦係数を増大させることに起因す
る。
1tl−磁性金属薄膜表面に設けてもなお、走行耐久性
は充分でない。このことは主にヘッドに生じた付着物が
保護層とヘッドとの摩擦係数を増大させることに起因す
る。
本発明の目的はヘッドに付着物が生ぜず、なおかつ潤滑
性に優れ、従って走行耐久性が著しく改良された金属薄
膜型磁気記録媒体を提供することにある。
性に優れ、従って走行耐久性が著しく改良された金属薄
膜型磁気記録媒体を提供することにある。
「問題点t−S決するための手段」
前記問題点は、非磁性幕板上の磁性金属薄膜表面にAg
、Am’、Cu、In、Mg、8n、Co、Fe%Ni
1およびSiから選ばれる少なくとも一種を含有するグ
ラファイト状カーボンを主成分とする保護j−ヲ設け、
さらにその表面にメルカプト基を有する有機化合物を主
成分とする潤滑層を設けることによって解決される。
、Am’、Cu、In、Mg、8n、Co、Fe%Ni
1およびSiから選ばれる少なくとも一種を含有するグ
ラファイト状カーボンを主成分とする保護j−ヲ設け、
さらにその表面にメルカプト基を有する有機化合物を主
成分とする潤滑層を設けることによって解決される。
グラファイト状カーボンを主成分とする保護層のみでは
潤滑性には優れるものの、ヘッドに付着物を生じやすく
、一旦付着物を生じると摩擦係数が増大し、走行が停止
してしまう。そこで、グラファイト状カーボン保護層に
Ag%A5.Cu。
潤滑性には優れるものの、ヘッドに付着物を生じやすく
、一旦付着物を生じると摩擦係数が増大し、走行が停止
してしまう。そこで、グラファイト状カーボン保護層に
Ag%A5.Cu。
In%Mg58n、Co、Fe%Ni、およびSiから
選ばれる少なくとも一種を含有し、さらにその表面にメ
ルカプト基を有する有機化合物、燐酸エステル、および
含フツ素有機化合物から選ばれる少くとも一種を主成分
とする潤滑層を設けることにより、潤滑性全損なうこと
なく、ヘッドに生じた付着物金剛り取り、結果的に極め
てヘッドに付着物を生じに<<7、従って走行耐久性は
著しく改良される。
選ばれる少なくとも一種を含有し、さらにその表面にメ
ルカプト基を有する有機化合物、燐酸エステル、および
含フツ素有機化合物から選ばれる少くとも一種を主成分
とする潤滑層を設けることにより、潤滑性全損なうこと
なく、ヘッドに生じた付着物金剛り取り、結果的に極め
てヘッドに付着物を生じに<<7、従って走行耐久性は
著しく改良される。
すなわち、本発明は、非磁性基板上に金属(IIlld
型磁性層全磁性層該薄膜上にA g SA 1% Cu
。
型磁性層全磁性層該薄膜上にA g SA 1% Cu
。
■。、Mg、 5nXCo、Fe%Ni、および8iか
ら選ばれる少なくとも一種を含有するグラファイト状カ
ーボンを主成分とする保護層金膜け、さらにその表面に
メルカプト基を有する化合物、燐酸エステル、および含
フツ素有機化合物から選ばれる少くとも−tiv主成分
とする潤滑層金膜けてなる磁気記録媒体、に関する。
ら選ばれる少なくとも一種を含有するグラファイト状カ
ーボンを主成分とする保護層金膜け、さらにその表面に
メルカプト基を有する化合物、燐酸エステル、および含
フツ素有機化合物から選ばれる少くとも−tiv主成分
とする潤滑層金膜けてなる磁気記録媒体、に関する。
本発明に用いられるメルカプト基を有する化合物は、テ
トラデシルメルカプタン、ヘキサデシルメル力デタ/、
オクタデシルメルカグタン等のアルキルメルカプタン、
メルカツ゛トベ/シイミダゾール誘導体、チオバルビッ
ール醗酵導体等のメルカプト基置換へテロ環化合物、よ
り好ましくは下記のような、分子内にメルカプト基とエ
ステル結合t−有する有機化合物が挙げられる。
トラデシルメルカプタン、ヘキサデシルメル力デタ/、
オクタデシルメルカグタン等のアルキルメルカプタン、
メルカツ゛トベ/シイミダゾール誘導体、チオバルビッ
ール醗酵導体等のメルカプト基置換へテロ環化合物、よ
り好ましくは下記のような、分子内にメルカプト基とエ
ステル結合t−有する有機化合物が挙げられる。
分子内にメルカプト基とエステル結曾を有する化合物と
してはβ−メルカグトプaピオン酸ベヘニル、β−メル
カプドブaピオン酸オクタデシル、β−メルカプトプロ
ピオン酸ドデシル、β−メルカプトプロピオ/酸オクチ
ル、β−メルカゾトプロピオン酸メチル、β−メルカグ
トブロビオン酸オレイル、チオグリコール酸ベヘニル、
チオグリコール酸オクタデシル、チオグリコール酸ドデ
シル、チオグリコール酸オクチル、チオグリコール酸メ
チル、チオグリコール酸オレイル、チオサリチル酸ベヘ
ニル、チオサリチル酸オクタデシル、チオサリチル酸ド
デシル、チオサリチル酸オクチル、チオサリチル酸メチ
ル、チオサリチル酸オレイル、ステアリン酸λ−メルカ
プトエチル、オレイン酸コーメルカブトエチル、ミリス
チン酸λ−メルカプトエチル、ラウリ/酸コーメルカブ
トエチル、マレイン酸ジλ−メルカプトエチル、プロピ
オンm!−メルカプトエチル、チオリンゴ酸ジオクタデ
シル、チオリンゴ酸ジヘキサデシル等のモノニスチャま
たはジエステル化合物のほか、メルカプト基をMするオ
リゴエステルまたはポリエステル化合物等が挙げられる
。
してはβ−メルカグトプaピオン酸ベヘニル、β−メル
カプドブaピオン酸オクタデシル、β−メルカプトプロ
ピオン酸ドデシル、β−メルカプトプロピオ/酸オクチ
ル、β−メルカゾトプロピオン酸メチル、β−メルカグ
トブロビオン酸オレイル、チオグリコール酸ベヘニル、
チオグリコール酸オクタデシル、チオグリコール酸ドデ
シル、チオグリコール酸オクチル、チオグリコール酸メ
チル、チオグリコール酸オレイル、チオサリチル酸ベヘ
ニル、チオサリチル酸オクタデシル、チオサリチル酸ド
デシル、チオサリチル酸オクチル、チオサリチル酸メチ
ル、チオサリチル酸オレイル、ステアリン酸λ−メルカ
プトエチル、オレイン酸コーメルカブトエチル、ミリス
チン酸λ−メルカプトエチル、ラウリ/酸コーメルカブ
トエチル、マレイン酸ジλ−メルカプトエチル、プロピ
オンm!−メルカプトエチル、チオリンゴ酸ジオクタデ
シル、チオリンゴ酸ジヘキサデシル等のモノニスチャま
たはジエステル化合物のほか、メルカプト基をMするオ
リゴエステルまたはポリエステル化合物等が挙げられる
。
本発明において使用される燐酸エステル化合物としては
、炭素数70以上のアル中ル基を持つことが好ましく、
より好ましくは炭素数)2以上の飽和脂肪族基を持つも
のである。またモノエステル、ジエスtル、トリエステ
ルのいずれでもよい。
、炭素数70以上のアル中ル基を持つことが好ましく、
より好ましくは炭素数)2以上の飽和脂肪族基を持つも
のである。またモノエステル、ジエスtル、トリエステ
ルのいずれでもよい。
g146tエステル化合物としては、燐酸トリーn −
オクタデシルエステル(トリステアリルフォスフェート
)、燐酸トリヘキサデクルエステル、燐酸トリデシルエ
ステル、燐酸トリオクチルエステル、燐酸トリーn−ブ
チルエステル、燐酸トリオレイルエステル、燐酸ジ−n
−オクタデシルエステル、燐酸ジドデシルエステル、燐
酸ジイソプロビルエステル、燐酸ジオレイルエステル、
燐酸ジヘキサデシルエステル等の脂肪族エステル、燐酸
トリフェニルエステル、燐酸トリクンジルエステル、燐
酸ジフェニルエステル、燐酸ジクレジルエステル等の芳
香族燐酸エステル類などが挙げられる。これらのうち特
に優れるのが燐酸トリーn−オクタデシルエステル(ト
リステアリルフォスフェート)、燐酸トリヘキサデシル
エステル、燐酸トリドデシルエステル、燐酸トリオレイ
ルエステル、燐酸ジ−n−オフタデフルエステル、燐酸
ジドデシルエステル、燐酸ジオレイルエステル、燐酸ジ
ヘキサデシルエステル等であり、この中では燐酸トリー
n−オクタデシルエステル(トリステアリルフォスフェ
ート)が好ましい。
オクタデシルエステル(トリステアリルフォスフェート
)、燐酸トリヘキサデクルエステル、燐酸トリデシルエ
ステル、燐酸トリオクチルエステル、燐酸トリーn−ブ
チルエステル、燐酸トリオレイルエステル、燐酸ジ−n
−オクタデシルエステル、燐酸ジドデシルエステル、燐
酸ジイソプロビルエステル、燐酸ジオレイルエステル、
燐酸ジヘキサデシルエステル等の脂肪族エステル、燐酸
トリフェニルエステル、燐酸トリクンジルエステル、燐
酸ジフェニルエステル、燐酸ジクレジルエステル等の芳
香族燐酸エステル類などが挙げられる。これらのうち特
に優れるのが燐酸トリーn−オクタデシルエステル(ト
リステアリルフォスフェート)、燐酸トリヘキサデシル
エステル、燐酸トリドデシルエステル、燐酸トリオレイ
ルエステル、燐酸ジ−n−オフタデフルエステル、燐酸
ジドデシルエステル、燐酸ジオレイルエステル、燐酸ジ
ヘキサデシルエステル等であり、この中では燐酸トリー
n−オクタデシルエステル(トリステアリルフォスフェ
ート)が好ましい。
本発明にお(/−hで使用される含フッ素化合物は、ノ
ーフルオロアルキル基またはノーフルオロアルケニル基
を持つ化合物、 パーフルオロアル中しンオ午サイド重合物およびその誘
導体、 エチレ/のフッ素置換体の鷹台物または共重合である。
ーフルオロアルキル基またはノーフルオロアルケニル基
を持つ化合物、 パーフルオロアル中しンオ午サイド重合物およびその誘
導体、 エチレ/のフッ素置換体の鷹台物または共重合である。
ノーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルオaア
ルケニル基を持つ化合物の具体例としては、例えば )q−フルオロアル中ル基またはパーフルオロアルケニ
ル基をもつカルボ/酸、 パーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルケニル
基ヲモつアルコール、 パーフルオロアルキル基マたはノ−フルオロアルキル基
をもつエステル比合物、 ノーフルオロアルキル基またはノーフルオロアルケニル
基をもつメルカプタン、 ノーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルケニル
基をもつ非イオン性界面活性剤、ノーフルオロアルキル
基またはパーフルオロアルケニル基tもつカチオン系界
面活性剤、パーフルオロアルキル基または/櫂−フルオ
aアルケニル基をもつアニオン系界面活性剤、ノーフル
オロアルキル基またはノに一フルオaフルケニル基をも
つ両性界面活性剤 等が挙げられる。
ルケニル基を持つ化合物の具体例としては、例えば )q−フルオロアル中ル基またはパーフルオロアルケニ
ル基をもつカルボ/酸、 パーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルケニル
基ヲモつアルコール、 パーフルオロアルキル基マたはノ−フルオロアルキル基
をもつエステル比合物、 ノーフルオロアルキル基またはノーフルオロアルケニル
基をもつメルカプタン、 ノーフルオロアルキル基またはパーフルオロアルケニル
基をもつ非イオン性界面活性剤、ノーフルオロアルキル
基またはパーフルオロアルケニル基tもつカチオン系界
面活性剤、パーフルオロアルキル基または/櫂−フルオ
aアルケニル基をもつアニオン系界面活性剤、ノーフル
オロアルキル基またはノに一フルオaフルケニル基をも
つ両性界面活性剤 等が挙げられる。
マタパーフルオロアル中しンオキサイド東金物およびそ
の誘導体の具体例としては、例えばノ々−フルオaブa
ピレン点合体、 パーフルオロエチレン0パーフルオロメチレン共重合体
、 パーフルオフプロピレンQ/を一フルオロメチレン共重
会体、 およびこれらの分子の末端に極性基を結合させたもの 等が挙げられる。
の誘導体の具体例としては、例えばノ々−フルオaブa
ピレン点合体、 パーフルオロエチレン0パーフルオロメチレン共重合体
、 パーフルオフプロピレンQ/を一フルオロメチレン共重
会体、 およびこれらの分子の末端に極性基を結合させたもの 等が挙げられる。
またエチレンのフッ素置換体の重合物または共重合物の
具体例としては、例えば ポリテトラプルオロエチレン、 ポリトリフルオロエチレン、 ポリ/、/−ジフルオロエチレン(ポリフッ化ビニリデ
ン)、 トリフルオロエチレン−/、/−ジフルオロエチレン共
重合体 等が挙げられる。
具体例としては、例えば ポリテトラプルオロエチレン、 ポリトリフルオロエチレン、 ポリ/、/−ジフルオロエチレン(ポリフッ化ビニリデ
ン)、 トリフルオロエチレン−/、/−ジフルオロエチレン共
重合体 等が挙げられる。
上記化合物のほかに混入できる潤滑剤としては、脂肪酸
、全編石鹸、脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、高a脂肪
族アルコール、モノアルキルフォスフェート、ジアルキ
ルフォスフェート、パラフィン類、シリコーンオイル、
動植物油、鉱油、高級脂肪族アミ/;グラファイト、シ
リカ、二硫化モリブデン、二硫化タングステン等の無機
微粉末;ポリエデレ/、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル、エチレン−塩化ビニル共、塩台体、ポリテトラプル
オロエチレン等の樹脂微粉末;αオレフイン重合物;常
温で液体の不飽和脂肪族炭化水素、等があげられる。
、全編石鹸、脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、高a脂肪
族アルコール、モノアルキルフォスフェート、ジアルキ
ルフォスフェート、パラフィン類、シリコーンオイル、
動植物油、鉱油、高級脂肪族アミ/;グラファイト、シ
リカ、二硫化モリブデン、二硫化タングステン等の無機
微粉末;ポリエデレ/、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル、エチレン−塩化ビニル共、塩台体、ポリテトラプル
オロエチレン等の樹脂微粉末;αオレフイン重合物;常
温で液体の不飽和脂肪族炭化水素、等があげられる。
潤滑層を形成する方法としては、有機溶剤に溶解して基
板に塗布あるいは雰霧し九のち乾燥する方法、熔融して
基板に塗着させる方法、有機溶剤に溶解した溶液に基板
を浸漬して基板表面に吸着させる方法、ラングミュア−
ブロジェット法により基板表面に材料の単分子膜を形成
する方法等が挙げられる。
板に塗布あるいは雰霧し九のち乾燥する方法、熔融して
基板に塗着させる方法、有機溶剤に溶解した溶液に基板
を浸漬して基板表面に吸着させる方法、ラングミュア−
ブロジェット法により基板表面に材料の単分子膜を形成
する方法等が挙げられる。
本発明に使用するグラファイト状のカーボンを主成分と
する保護層とは、真空蒸着、スパッタリング等で作成さ
れるグラファイト基調のアモルファス膜である。分析的
には、X線回折では明確なピークがみられずアモルファ
スであることを示し、X、@光電子分光法(XP8)で
の炭素のプラズモン損失エネルギーがグラファイト状で
あること?示す膜である。
する保護層とは、真空蒸着、スパッタリング等で作成さ
れるグラファイト基調のアモルファス膜である。分析的
には、X線回折では明確なピークがみられずアモルファ
スであることを示し、X、@光電子分光法(XP8)で
の炭素のプラズモン損失エネルギーがグラファイト状で
あること?示す膜である。
Ag、ACCu、In、Mg、Sn、Go。
Fe、Niおよび8iから選ばれる少なくとも一種の上
記保護層中での含有量は、l0Wt襲以下が適当である
が、0.1wt%以上で且つjet襲以下であることが
より好ましい。
記保護層中での含有量は、l0Wt襲以下が適当である
が、0.1wt%以上で且つjet襲以下であることが
より好ましい。
金属薄膜型磁性層としてはFe、Co、Ni等の強磁性
金属、あるいはFe−Co、Fe−Ni。
金属、あるいはFe−Co、Fe−Ni。
Co−Ni、Fe−Si%Co−0r、Co−V。
Co−8m、Co−Pt、Co−P、Co−N1−P、
Fe−Cr−Co等の強磁性合金、あるいはこれらに添
加物を加えたもの、あるいはこれらを重j−にし九もの
等が挙げられる。
Fe−Cr−Co等の強磁性合金、あるいはこれらに添
加物を加えたもの、あるいはこれらを重j−にし九もの
等が挙げられる。
非磁性基板としてはポリエチレンテレフタレート、ポリ
イミド、ポリアミド等のフィルム状の高分子材料、ポリ
カーボネイト、ポリメチルメタクリレート等のディスク
状の高分子材料、ガラス等のセラミック、アルミニウム
等の金属等が使用可能である。基板の形状はシート、カ
ード、ディスク、ドラム、テープ等のいずれもが使用で
きる。
イミド、ポリアミド等のフィルム状の高分子材料、ポリ
カーボネイト、ポリメチルメタクリレート等のディスク
状の高分子材料、ガラス等のセラミック、アルミニウム
等の金属等が使用可能である。基板の形状はシート、カ
ード、ディスク、ドラム、テープ等のいずれもが使用で
きる。
本発明の磁気記録媒体を作成するには、まず非磁性基板
上に金属磁性層を真空蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティング、メツ中等の方法で被着せしめて磁性層を
形成し、更にその上にAg1Aj7.Cu、In、Mg
、5nSCo、Fe。
上に金属磁性層を真空蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティング、メツ中等の方法で被着せしめて磁性層を
形成し、更にその上にAg1Aj7.Cu、In、Mg
、5nSCo、Fe。
Niおよび8iから選ばれる少なくとも−81[(l−
含有するグラファイト状カーボンを主成分とする保護層
を真空蒸着、スパッタリング等で形成し、さらにその上
にメルカプト基を有する有機化合物を主成分とする潤滑
層を設ければ良い。
含有するグラファイト状カーボンを主成分とする保護層
を真空蒸着、スパッタリング等で形成し、さらにその上
にメルカプト基を有する有機化合物を主成分とする潤滑
層を設ければ良い。
この場合、磁性層は2種の異なる磁性体rt*層しても
良いし、中間層を設け、その上に積層しても良い。なお
磁性層の厚さはいずれの場合でも00l−λμm程度が
適当である。
良いし、中間層を設け、その上に積層しても良い。なお
磁性層の厚さはいずれの場合でも00l−λμm程度が
適当である。
また、保護層、潤滑層の厚さは厚すぎるとヘッドと媒体
間のスペーシング損失のため電磁変換特性が劣化し、−
万博すぎると走行耐久性の向上が見られないので、保護
層の厚さとしては10−/また潤滑層の厚さく存在量の
ことをここでは厚さト呼フコトニスル)ハ、0.311
97m2〜/ 00キ/m2が好ましく、より好ましく
はコmyim”〜20”97m でhb。
間のスペーシング損失のため電磁変換特性が劣化し、−
万博すぎると走行耐久性の向上が見られないので、保護
層の厚さとしては10−/また潤滑層の厚さく存在量の
ことをここでは厚さト呼フコトニスル)ハ、0.311
97m2〜/ 00キ/m2が好ましく、より好ましく
はコmyim”〜20”97m でhb。
「実施例」
以F1本発明の実施例について説明する。
非磁性基板として厚さ7iμmのポリイミドフィルムを
用いた。
用いた。
まず、この基板上にCoCrt−ターゲットとした!×
10 Torr Arガス中のスパッタリングに
より厚さ2100にのCoCr薄膜(Couro原子S
)を形成した。
10 Torr Arガス中のスパッタリングに
より厚さ2100にのCoCr薄膜(Couro原子S
)を形成した。
次に、グラファイトターゲット上にAg%A/。
Cu、Mg、In、 Sn、Co、Fe、N i。
Si等の−< L/ ットt装置いてjX/ 0−3T
o r rArガス中でスパッタリングを行い、上記C
oCr薄膜上にAg、Al、Cu、Mg、In、Sn。
o r rArガス中でスパッタリングを行い、上記C
oCr薄膜上にAg、Al、Cu、Mg、In、Sn。
Co%Fe、Ni% Si全それぞれ含有するグラファ
イト状カーボンを主成分とする厚さtookの保護層を
形成した。
イト状カーボンを主成分とする厚さtookの保護層を
形成した。
次に、各種潤滑剤をメチルエチルケトンに溶解して塗布
、乾燥し、厚さ/J■/m の潤滑層を形成した。
、乾燥し、厚さ/J■/m の潤滑層を形成した。
これらを直%J、!インチのディスクの形状に加工し、
市販のディスクジャケットに組み込んだ。
市販のディスクジャケットに組み込んだ。
市販のフロッピーディスクドライブにより記録を行つ死
後、再生信号と摩擦係数をモニターしながらtoo r
、p、m、で回転させ、摩擦係数が急激に大きくなるま
でのノ々ス数を測定することにより走行耐久性のテスト
を行った。
後、再生信号と摩擦係数をモニターしながらtoo r
、p、m、で回転させ、摩擦係数が急激に大きくなるま
でのノ々ス数を測定することにより走行耐久性のテスト
を行った。
Ag、kl、CuSMg5 In、Sn、Go。
Fe、Ni% SR等の含7Ktはオージェ電子分光法
を用いて測定した各々の元素と炭素との微分スはクトル
のピーク比より求めた。なお、膜厚方向で保護層の構成
元素の組成に変化がないことも同様にして確認した。
を用いて測定した各々の元素と炭素との微分スはクトル
のピーク比より求めた。なお、膜厚方向で保護層の構成
元素の組成に変化がないことも同様にして確認した。
比較の為、Ag、kl、Cu、Mg、In。
8n、Co、Fe、Ni、84%を含有しないグラファ
イト状カーボンを主成分とする厚’520OAの保峡ノ
ーを設け、潤滑層t−設けない媒体および、通常使用さ
れる脂肪酸系潤滑層を設けた媒体も作成し、これ全比較
例/およびλ〜μとした。
イト状カーボンを主成分とする厚’520OAの保峡ノ
ーを設け、潤滑層t−設けない媒体および、通常使用さ
れる脂肪酸系潤滑層を設けた媒体も作成し、これ全比較
例/およびλ〜μとした。
各fAlの組成、輩および得られた結果を第7表〜第7
表に示した。表から明らかなように、Ag1kl、Cu
、Mg、In、 Sn、CoS Fe。
表に示した。表から明らかなように、Ag1kl、Cu
、Mg、In、 Sn、CoS Fe。
Ni、8ii適量含有し九グラファイト状カーボンを主
成分とする保護層を設け、さらにその上層にメルカプト
基を有する化合物、燐酸エステル、筐たは含フッ素化置
物を含有する潤滑1mt−設けた媒体は、これらを含有
しなりグラファイト状カーボン金主成分とする保護層1
[け、潤滑1mを設けない媒体および通常使用される脂
肪酸系潤滑層を設けた媒体と比較して走行耐久性に優れ
ている。
成分とする保護層を設け、さらにその上層にメルカプト
基を有する化合物、燐酸エステル、筐たは含フッ素化置
物を含有する潤滑1mt−設けた媒体は、これらを含有
しなりグラファイト状カーボン金主成分とする保護層1
[け、潤滑1mを設けない媒体および通常使用される脂
肪酸系潤滑層を設けた媒体と比較して走行耐久性に優れ
ている。
ヘッド金顕微鏡観察した結果、走行耐久性の優れた媒体
には付着物も傷もないこと全確認した。
には付着物も傷もないこと全確認した。
「発明の効果」
本発明による磁気記録媒体を用いることにより、磁気ヘ
ッドとの摩擦係数を極めて小さくシ、且つヘッドに付着
を生じさせず、走行耐久性を大幅に向上することができ
る。
ッドとの摩擦係数を極めて小さくシ、且つヘッドに付着
を生じさせず、走行耐久性を大幅に向上することができ
る。
Claims (1)
- 非磁性基板上に磁性金属薄膜を設けてなる磁気記録媒体
において、該薄膜上にAg、Al、Cu、In、Mg、
Sn、Co、Fe、Ni、およびSiから選ばれる少く
とも一種を含有するグラフアイト基調のアモルフアスカ
ーボンを主成分とする保護層が設けられ、さらにその表
面にメルカプト基を有する化合物、燐酸エステル、およ
び含フツ素有機化合物から選ばれる少くとも一種を主成
分とする層が設けられていることを特徴とする磁気記録
媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5068587A JPS63217518A (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5068587A JPS63217518A (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63217518A true JPS63217518A (ja) | 1988-09-09 |
Family
ID=12865776
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5068587A Pending JPS63217518A (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63217518A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0381652A2 (en) * | 1989-01-26 | 1990-08-08 | International Business Machines Corporation | An improved carbon overcoat for a thin film magnetic recording disc |
JPH0319120A (ja) * | 1989-06-16 | 1991-01-28 | Teijin Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
EP0624869A2 (en) * | 1993-04-13 | 1994-11-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
JPH08203069A (ja) * | 1995-01-31 | 1996-08-09 | Nec Corp | 磁気記憶媒体 |
-
1987
- 1987-03-05 JP JP5068587A patent/JPS63217518A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0381652A2 (en) * | 1989-01-26 | 1990-08-08 | International Business Machines Corporation | An improved carbon overcoat for a thin film magnetic recording disc |
JPH02230510A (ja) * | 1989-01-26 | 1990-09-12 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 薄膜磁気デイスク |
JPH0319120A (ja) * | 1989-06-16 | 1991-01-28 | Teijin Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
US5494742A (en) * | 1993-01-14 | 1996-02-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium having improved running time and corrosion resistance |
EP0624869A2 (en) * | 1993-04-13 | 1994-11-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
EP0624869A3 (en) * | 1993-04-13 | 1994-12-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
JPH08203069A (ja) * | 1995-01-31 | 1996-08-09 | Nec Corp | 磁気記憶媒体 |
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