JPS63215546A - 電気抵抗体及びその製造方法 - Google Patents
電気抵抗体及びその製造方法Info
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- JPS63215546A JPS63215546A JP62045608A JP4560887A JPS63215546A JP S63215546 A JPS63215546 A JP S63215546A JP 62045608 A JP62045608 A JP 62045608A JP 4560887 A JP4560887 A JP 4560887A JP S63215546 A JPS63215546 A JP S63215546A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 91
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 43
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 229910001618 alkaline earth metal fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 28
- -1 alkaline earth metal molybdate Chemical class 0.000 claims description 26
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 16
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 43
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 28
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 26
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 10
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MODMKKOKHKJFHJ-UHFFFAOYSA-N magnesium;dioxido(dioxo)molybdenum Chemical compound [Mg+2].[O-][Mo]([O-])(=O)=O MODMKKOKHKJFHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N molybdate Chemical compound [O-][Mo]([O-])(=O)=O MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 4
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 4
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 4
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- BIOOACNPATUQFW-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(dioxo)molybdenum Chemical compound [Ca+2].[O-][Mo]([O-])(=O)=O BIOOACNPATUQFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910016006 MoSi Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- RCMWGBKVFBTLCW-UHFFFAOYSA-N barium(2+);dioxido(dioxo)molybdenum Chemical compound [Ba+2].[O-][Mo]([O-])(=O)=O RCMWGBKVFBTLCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L molybdic acid Chemical compound O[Mo](O)(=O)=O VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 1
- 229910004647 CaMoO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001293 FEMA 3089 Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015707 MoOz Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 101150092196 atl1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 150000001734 carboxylic acid salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 238000010344 co-firing Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011533 mixed conductor Substances 0.000 description 1
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、固定チップ抵抗器あるいは回路配線基板等に
設けられる厚膜タイプの電気抵抗体、特に非酸化性雰囲
気中で焼成して得られることが可能な電気抵抗体及びそ
の製造方法に関する。
設けられる厚膜タイプの電気抵抗体、特に非酸化性雰囲
気中で焼成して得られることが可能な電気抵抗体及びそ
の製造方法に関する。
従来の技術
電子機器の電気回路は、抵抗、コンデンサ、ダイオード
、トランジスタ等の各種電気素子が回路基板に実装され
て構成されることが良く行なわれているが、電子機器の
小型化に伴ってこれらの電気素子の実装密度をさらに高
めることができる回路基板が多く用いられるようになっ
てきた。
、トランジスタ等の各種電気素子が回路基板に実装され
て構成されることが良く行なわれているが、電子機器の
小型化に伴ってこれらの電気素子の実装密度をさらに高
めることができる回路基板が多く用いられるようになっ
てきた。
こ炸らの回路基板に設けられる抵抗体には、抵抗体材料
ペーストを回路上に直接印刷して焼付けることにより形
成した厚膜抵抗体、あるいは角板状セラミックチップの
両端に一対の電極を形成し、双方の電極に跨がるように
前記厚膜抵抗体を形成した固定チップ抵抗器等がある。
ペーストを回路上に直接印刷して焼付けることにより形
成した厚膜抵抗体、あるいは角板状セラミックチップの
両端に一対の電極を形成し、双方の電極に跨がるように
前記厚膜抵抗体を形成した固定チップ抵抗器等がある。
このような厚膜抵抗体を回路基板に設けるには、従来、
例えば1500℃前後で焼成して得られたアルミナ基板
の表面にAgあるいはAg−Pd等の導体材料ペースト
を塗布し、焼付けした後、例えばRu0zを抵抗体材料
として含有するペーストをスクリーン印刷等により塗布
し、ついで750〜850℃で焼付け、さらに必要に応
じてトリミング等により抵抗値の調整を行なうやり方が
一般的である。
例えば1500℃前後で焼成して得られたアルミナ基板
の表面にAgあるいはAg−Pd等の導体材料ペースト
を塗布し、焼付けした後、例えばRu0zを抵抗体材料
として含有するペーストをスクリーン印刷等により塗布
し、ついで750〜850℃で焼付け、さらに必要に応
じてトリミング等により抵抗値の調整を行なうやり方が
一般的である。
しかしながら近年、電子機器等に対する軽薄・短小化、
低コスト化の要求がさらに強まってきており、回路基板
に対しても一層の小型化、低コスト化の検討が行われる
ようになってきた。
低コスト化の要求がさらに強まってきており、回路基板
に対しても一層の小型化、低コスト化の検討が行われる
ようになってきた。
前者の小型化のための具体的な対応としては、第1に回
路基板の多層化、第2に抵抗体の内装化が行なわれてい
る。回路基板を多層化する例としては、AgあるいはA
g−Pd系等の導体材料ペーストを印刷したセラミック
グリーンシート(生シート)を積層、圧着した後、大気
中800〜1)00’Cで同時焼成して得られる多層配
線基板が挙げられ、また、抵抗体を内装化した例として
は、前記導体材料ペーストを印刷したセラミフタグリー
ンシート上にさらにRuO□系抵抗系材抗体材料ペース
トし、前記と同様に積層、圧着した後、同時焼成して得
られる抵抗体内装多層配線基板等が知られている。
路基板の多層化、第2に抵抗体の内装化が行なわれてい
る。回路基板を多層化する例としては、AgあるいはA
g−Pd系等の導体材料ペーストを印刷したセラミック
グリーンシート(生シート)を積層、圧着した後、大気
中800〜1)00’Cで同時焼成して得られる多層配
線基板が挙げられ、また、抵抗体を内装化した例として
は、前記導体材料ペーストを印刷したセラミフタグリー
ンシート上にさらにRuO□系抵抗系材抗体材料ペース
トし、前記と同様に積層、圧着した後、同時焼成して得
られる抵抗体内装多層配線基板等が知られている。
また、後者の低コスト化のための具体的な対応としては
、AgあるいはAg−Pd系材料のような高価な貴金属
系の導体材料に代わって、安価なNiあるいはCu等の
卑金属系の導体材料を用い、これらを窒素ガスあるいは
水素を含む窒素ガス中等、その酸化による高抵抗化を避
けることができるような中性あるいは還元性の非酸化性
雰囲気中、800〜1)00℃でグリーンセラミックと
同時焼成して得られる多層配線基板が実用化されている
。また、特開昭56−15’3702号公報に記載され
ているように、Mo5iz−TaSiz及びガラスから
なる抵抗体材料を、銅(Cu)導体を有するアルミナ基
板上に塗布し、熱処理して得られる厚膜抵抗体等も知ら
れている。
、AgあるいはAg−Pd系材料のような高価な貴金属
系の導体材料に代わって、安価なNiあるいはCu等の
卑金属系の導体材料を用い、これらを窒素ガスあるいは
水素を含む窒素ガス中等、その酸化による高抵抗化を避
けることができるような中性あるいは還元性の非酸化性
雰囲気中、800〜1)00℃でグリーンセラミックと
同時焼成して得られる多層配線基板が実用化されている
。また、特開昭56−15’3702号公報に記載され
ているように、Mo5iz−TaSiz及びガラスから
なる抵抗体材料を、銅(Cu)導体を有するアルミナ基
板上に塗布し、熱処理して得られる厚膜抵抗体等も知ら
れている。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、回路基板の小型化と低コスト化を同時に
行なうようにすると、Rub、系抵抗体材料は窒素ガス
あるいは水素を含む窒素ガス雰囲気中でグリーンセラミ
ックと同時焼成したときに還元反応が起こり、抵抗値が
低くなって抵抗体としての特性を示さなくなる。
行なうようにすると、Rub、系抵抗体材料は窒素ガス
あるいは水素を含む窒素ガス雰囲気中でグリーンセラミ
ックと同時焼成したときに還元反応が起こり、抵抗値が
低くなって抵抗体としての特性を示さなくなる。
また、Mo5iz−TaSi、及びガラスからなる抵抗
体材料を非酸化性雰囲気中でグリーンセラミックシート
と同時焼成すると、両者の膨張率、収縮率の相違による
ずれにより焼成体に反りが生じたり、MoSi、−Ta
Si、の分解反応によりガスが発生して焼成体にふくれ
が生じ易いと云う問題点がある。これを改善するために
、特開昭60−198703号公報に記載されているよ
うに、Mo5iz−弗化金属塩(例えば弗化カルシウム
)及びガラスよりなる抵抗体材料を用いる例か知られて
おり、これについては上記のような焼成時の反りやふ(
れは見られない。
体材料を非酸化性雰囲気中でグリーンセラミックシート
と同時焼成すると、両者の膨張率、収縮率の相違による
ずれにより焼成体に反りが生じたり、MoSi、−Ta
Si、の分解反応によりガスが発生して焼成体にふくれ
が生じ易いと云う問題点がある。これを改善するために
、特開昭60−198703号公報に記載されているよ
うに、Mo5iz−弗化金属塩(例えば弗化カルシウム
)及びガラスよりなる抵抗体材料を用いる例か知られて
おり、これについては上記のような焼成時の反りやふ(
れは見られない。
しかしながら、このMo5iz−弗化金属及びガラスよ
りなる抵抗体材料をグリーンセラミックシートに塗布し
、同時焼成して得られた厚膜抵抗体は、95%相対湿度
中に1000時間放置すると、5〜10%の抵抗値の増
加が見られ、抵抗体としての所定の機能を果たすことが
できない。
りなる抵抗体材料をグリーンセラミックシートに塗布し
、同時焼成して得られた厚膜抵抗体は、95%相対湿度
中に1000時間放置すると、5〜10%の抵抗値の増
加が見られ、抵抗体としての所定の機能を果たすことが
できない。
また、上記の従来の電気抵抗体は、その抵抗値の温度変
化係数が1000 ppm/ ’Cよりは小さくならず
、精密な動作を必要とする回路の抵抗体素子としては問
題があった。
化係数が1000 ppm/ ’Cよりは小さくならず
、精密な動作を必要とする回路の抵抗体素子としては問
題があった。
そこで、本願と同日の他の出願で、固定チップ抵抗器に
使用できるのみならず年金B導体を用いた回路基板に設
けて積層し、これを焼成して多層基板に内装化しても抵
抗値の安定な電気抵抗体を得られることを示した。
使用できるのみならず年金B導体を用いた回路基板に設
けて積層し、これを焼成して多層基板に内装化しても抵
抗値の安定な電気抵抗体を得られることを示した。
しかしながら、この電気抵抗体の抵抗値の温度変化係数
をさらに小さくすることが望まれていた。
をさらに小さくすることが望まれていた。
本発明の目的は、固定チップ抵抗器あるいは一般の回路
基板等に使用できるのみならず、卑金属導体材料ととも
に積層し、多N基板に内装化することのできる電気抵抗
体であって、その抵抗の温度変化係数を小さくすること
のできる電気抵抗体を提供することにある。
基板等に使用できるのみならず、卑金属導体材料ととも
に積層し、多N基板に内装化することのできる電気抵抗
体であって、その抵抗の温度変化係数を小さくすること
のできる電気抵抗体を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、上記電気抵抗体の特性を向
上させることのできる製造法を提供することにある。
上させることのできる製造法を提供することにある。
問題点を解決するための手段
本発明は、上記問題点を解決するために、アルカリ土類
金属のモリブデン酸塩と、アルカリ土類金属の弗化物を
含有する焼成体を有することを特徴とする電気抵抗体を
提供するものである。
金属のモリブデン酸塩と、アルカリ土類金属の弗化物を
含有する焼成体を有することを特徴とする電気抵抗体を
提供するものである。
また、本発明は、主成分にアルカリ土類金属のモリブデ
ン酸塩及びその前駆体の内の少なくとも一種と、アルカ
リ土類金属の弗化物を主成分に含有する抵抗体材料を熱
処理し、この熱処理して得られた抵抗体材料を用いて焼
成し、アルカリ土類金属のモリブデン酸塩及びアルカリ
土類金属の弗化物を含有する焼成体からなる電気抵抗体
を得ることを特徴とする電気抵抗体の製造方法を提供す
るものである。
ン酸塩及びその前駆体の内の少なくとも一種と、アルカ
リ土類金属の弗化物を主成分に含有する抵抗体材料を熱
処理し、この熱処理して得られた抵抗体材料を用いて焼
成し、アルカリ土類金属のモリブデン酸塩及びアルカリ
土類金属の弗化物を含有する焼成体からなる電気抵抗体
を得ることを特徴とする電気抵抗体の製造方法を提供す
るものである。
次に本発明の詳細な説明する。
本発明におけるアルカリ土類金属のモリブデン酸塩には
、Meをアルカリ土類金属とすると、一般式MeMoO
*、MeMoOイMezMo05 、MezMO:+0
+を等で表されるものが好ましく、これらは単独のみな
らず、複数混合しても使用できる。具体的には、例えば
、MgMo(L、 CaMoO4、SrMo0.、 B
aMo0n−BaMoz(lr 、 !Mo40+:
+、BaMo、Oz4.88M030+o、CaMo0
n、Ba5rJoOb 、、 Ba、Mo5b% Ba
zMoOB % Mg、Mo、O,、等の単独物質ある
いはこれらの混合物が例示される。
、Meをアルカリ土類金属とすると、一般式MeMoO
*、MeMoOイMezMo05 、MezMO:+0
+を等で表されるものが好ましく、これらは単独のみな
らず、複数混合しても使用できる。具体的には、例えば
、MgMo(L、 CaMoO4、SrMo0.、 B
aMo0n−BaMoz(lr 、 !Mo40+:
+、BaMo、Oz4.88M030+o、CaMo0
n、Ba5rJoOb 、、 Ba、Mo5b% Ba
zMoOB % Mg、Mo、O,、等の単独物質ある
いはこれらの混合物が例示される。
2種以上のアルカリ土類金属からなる塩としては、(M
gx Ca、 )Mode 、但し、! +>l xi
、(Cax Sry )MOO4、但し、x +y =
1、(Mgx Bay )Moat 、但し、x +y
”1 、(Mgx ca、 Bag )MOO4、但
し、x +y +z−1、(Cax sr、 Bag
)MOO4、但し、x +y +z =1、(Mgx
Ca、 Srz Baw )Mo04 %但し、X +
y +z +W(Ca、 Sry )MOO6、但
し、X +y =13、(Srx Ba、 )MOO
& 、但し、x +y =3、等が例示され、これらは
単独又は複数、さらには前記の単独物質、混合物質と混
合して用いられる。
gx Ca、 )Mode 、但し、! +>l xi
、(Cax Sry )MOO4、但し、x +y =
1、(Mgx Bay )Moat 、但し、x +y
”1 、(Mgx ca、 Bag )MOO4、但
し、x +y +z−1、(Cax sr、 Bag
)MOO4、但し、x +y +z =1、(Mgx
Ca、 Srz Baw )Mo04 %但し、X +
y +z +W(Ca、 Sry )MOO6、但
し、X +y =13、(Srx Ba、 )MOO
& 、但し、x +y =3、等が例示され、これらは
単独又は複数、さらには前記の単独物質、混合物質と混
合して用いられる。
このようなアルカリ土類金属のモリブデン酸塩は、アル
カリ土類金属の各々の金属酸化物の前駆体となる物質と
酸化モリブデン(MOO:l)又はその前駆体とを所定
のモル比で混合し、熱処理することにより合成すること
ができる。例えばCaOの前駆体となる、例えば炭酸カ
ルシウム(CaC0z)又は水酸化カルシウム(Ca
(OH) z)と酸化モリブデン(MoOz)又はその
前駆体となる、例えばモリブデン酸(HJo04)とを
CaMo0nの場合には等モル比、CaMo0nの場合
には3:1のモル比で混合し、熱処理する。このときの
熱処理条件としては、600〜1000℃、1〜3時間
が挙げられる。他のアルカリ土類金属についても同様で
ある。
カリ土類金属の各々の金属酸化物の前駆体となる物質と
酸化モリブデン(MOO:l)又はその前駆体とを所定
のモル比で混合し、熱処理することにより合成すること
ができる。例えばCaOの前駆体となる、例えば炭酸カ
ルシウム(CaC0z)又は水酸化カルシウム(Ca
(OH) z)と酸化モリブデン(MoOz)又はその
前駆体となる、例えばモリブデン酸(HJo04)とを
CaMo0nの場合には等モル比、CaMo0nの場合
には3:1のモル比で混合し、熱処理する。このときの
熱処理条件としては、600〜1000℃、1〜3時間
が挙げられる。他のアルカリ土類金属についても同様で
ある。
また、前記アルカリ土類金属のモリブデン酸塩=1、は
、アルカリ土類金属酸化物と酸化モリブデン(MOO3
)の熱処理によっても合成することができる。
、アルカリ土類金属酸化物と酸化モリブデン(MOO3
)の熱処理によっても合成することができる。
例えばCaOとMob、を熱処理することによってカル
シウムのモリブデン酸塩が合成されるが、この場合MO
O:lが昇華し易いため、加圧しながら熱処理すること
が好ましい。他のアルカリ土類金属についても同様であ
る。
シウムのモリブデン酸塩が合成されるが、この場合MO
O:lが昇華し易いため、加圧しながら熱処理すること
が好ましい。他のアルカリ土類金属についても同様であ
る。
本発明においてはバインダーを用いることが好ましく、
これにはガラスが挙げられが、このガラスとしては一般
に知られているガラスが用いられ、特定の組成のガラス
に限定されるものではないが、Pb、04、Bi、O,
、SnO2、CdOのような酸化物は、これらを含む抵
抗体材料を非酸化性雰囲気中で焼成するときに還元され
て金属化することがあり、この金属は抵抗値を変化させ
るので、このようなことが起こることが好ましくない場
合にはこれらの酸化物を含有しないことが好ましい。
これにはガラスが挙げられが、このガラスとしては一般
に知られているガラスが用いられ、特定の組成のガラス
に限定されるものではないが、Pb、04、Bi、O,
、SnO2、CdOのような酸化物は、これらを含む抵
抗体材料を非酸化性雰囲気中で焼成するときに還元され
て金属化することがあり、この金属は抵抗値を変化させ
るので、このようなことが起こることが好ましくない場
合にはこれらの酸化物を含有しないことが好ましい。
ガラス成分としては、Sing、B2O3、ZnO%
CaO1SrO、ZrO2などが好ましく、これらの酸
化物の組成比は、 Si0□12〜33 重量% Bz(h 20〜35 重量% ZnO又はSr0 13〜33 重量%CaO10〜
25 重量% Zr0z 15〜45 重量% が好ましい。
CaO1SrO、ZrO2などが好ましく、これらの酸
化物の組成比は、 Si0□12〜33 重量% Bz(h 20〜35 重量% ZnO又はSr0 13〜33 重量%CaO10〜
25 重量% Zr0z 15〜45 重量% が好ましい。
これら酸化物のm代物からガラスを製造するには、前記
組成比になるようにそれぞれの酸化物を秤量し、混合す
る。この混合物を坩堝に入れ、1200〜1500℃の
温度にて溶融した後、溶融液を例えば水中に投入し、急
冷させ、ガラス粗粉を得る。
組成比になるようにそれぞれの酸化物を秤量し、混合す
る。この混合物を坩堝に入れ、1200〜1500℃の
温度にて溶融した後、溶融液を例えば水中に投入し、急
冷させ、ガラス粗粉を得る。
この粗粉を例えばボールミル、振動ミルなどの粉砕手段
を用いて所望の粒度(例えば10μm以下)になるまで
粉砕すると、ガラス粉末が得られる。
を用いて所望の粒度(例えば10μm以下)になるまで
粉砕すると、ガラス粉末が得られる。
前記は純粋の酸化物を混合して用いたが、これに限らず
結果的に各酸化物の混合物からなるガラスになれば良く
、各酸化物の前駆体をその一部又は全部に用い、これを
溶融してガラスにしても良い。例えばCaO(酸化カル
シウム)はcaccL+(炭酸カルシウム) 、BzO
z(酸化硼素)はホウ酸(H,BO,)の熱処理により
得られるので、CaO、BzO3の一部又はその全部の
代わりにそれぞれCaC0+ 、I(zBO3を用いる
ことができる。その他の成分の酸化物についても同様で
ある。
結果的に各酸化物の混合物からなるガラスになれば良く
、各酸化物の前駆体をその一部又は全部に用い、これを
溶融してガラスにしても良い。例えばCaO(酸化カル
シウム)はcaccL+(炭酸カルシウム) 、BzO
z(酸化硼素)はホウ酸(H,BO,)の熱処理により
得られるので、CaO、BzO3の一部又はその全部の
代わりにそれぞれCaC0+ 、I(zBO3を用いる
ことができる。その他の成分の酸化物についても同様で
ある。
また、本発明において用いられるアルカリ土類金属の弗
化物は、Me’ を金属としたときMe’Fzの一般式
で表され、Me’ としてアルカリ土類金属、すなわち
Mg、 Ca、Sr、 Baを用い、これらの各金属塩
の一種又は二種以上を混合して用いることが好ましい。
化物は、Me’ を金属としたときMe’Fzの一般式
で表され、Me’ としてアルカリ土類金属、すなわち
Mg、 Ca、Sr、 Baを用い、これらの各金属塩
の一種又は二種以上を混合して用いることが好ましい。
しかし、これらアルカリ土類金属の弗化物に限らず、他
の金属の弗化物も使用できる。
の金属の弗化物も使用できる。
上記のようにして得られるアルカリ土類金属のモリブデ
ン酸塩、ガラス粉末及びアルカリ土類金属等の弗化物は
混合され、そのまま抵抗体材料として用いても良いが、
これを熱処理して粉砕したものを抵抗体材料とすること
がこれを焼成して得た抵抗体の抵抗温度特性の上で好ま
しい。この熱処理温度としては、800℃〜1200℃
が好ましく、これより外れると抵抗体材料を電気抵抗体
に加工する各工程の作業条件等による組成比の微妙な変
動に対し、出来上がった抵抗体の抵抗値が影響を受は易
く、所望の抵抗値を安定して得ることが難しい。この熱
処理は非酸化性雰囲気が望ましく、窒素ガスその他不活
性ガスのみならず、これらに水素ガスを含有させた混合
ガスを用いることが好ましい。
ン酸塩、ガラス粉末及びアルカリ土類金属等の弗化物は
混合され、そのまま抵抗体材料として用いても良いが、
これを熱処理して粉砕したものを抵抗体材料とすること
がこれを焼成して得た抵抗体の抵抗温度特性の上で好ま
しい。この熱処理温度としては、800℃〜1200℃
が好ましく、これより外れると抵抗体材料を電気抵抗体
に加工する各工程の作業条件等による組成比の微妙な変
動に対し、出来上がった抵抗体の抵抗値が影響を受は易
く、所望の抵抗値を安定して得ることが難しい。この熱
処理は非酸化性雰囲気が望ましく、窒素ガスその他不活
性ガスのみならず、これらに水素ガスを含有させた混合
ガスを用いることが好ましい。
抵抗体材料の各成分の組成比は、アルカリ土類金属のモ
リブデン酸塩30〜95重世%、ガラス粉末4.5〜6
9.5重量%、アルカリ土類金属の弗化物0.5〜40
重量%が好ましい。この範囲よりアルカリ土類金属のモ
リブデン酸塩が少な過ぎ、ガラスが多過ぎると、焼成し
て出来上がった電気抵抗体の抵抗値が高くなり過ぎ好ま
しくない場合があり、また、逆にアルカリ土類金属のモ
リブデン酸塩が多過ぎ、ガラスが少な過ぎると焼成時の
焼結性が悪くなり回路基板に安定に保持できないことが
ある。しかし、抵抗体を回路基板を積層して埋め込むよ
うな場合にはアルカリ土類金属のモリブデン酸塩及びア
ルカリ土類金属の弗化物が上記範囲より多く、100%
でも良い。また、アルカリ土類金属の弗化物は0.5重
量%より少な過ぎても、40重量%より多過ぎても出来
上がった電気抵抗体の温度変化係数が±500 ppm
/’Cより大きくなり、好ましくない場合がある。しか
し、この範囲以外のものも抵抗の温度変化係数の改苦が
見られる範囲で使用できる。
リブデン酸塩30〜95重世%、ガラス粉末4.5〜6
9.5重量%、アルカリ土類金属の弗化物0.5〜40
重量%が好ましい。この範囲よりアルカリ土類金属のモ
リブデン酸塩が少な過ぎ、ガラスが多過ぎると、焼成し
て出来上がった電気抵抗体の抵抗値が高くなり過ぎ好ま
しくない場合があり、また、逆にアルカリ土類金属のモ
リブデン酸塩が多過ぎ、ガラスが少な過ぎると焼成時の
焼結性が悪くなり回路基板に安定に保持できないことが
ある。しかし、抵抗体を回路基板を積層して埋め込むよ
うな場合にはアルカリ土類金属のモリブデン酸塩及びア
ルカリ土類金属の弗化物が上記範囲より多く、100%
でも良い。また、アルカリ土類金属の弗化物は0.5重
量%より少な過ぎても、40重量%より多過ぎても出来
上がった電気抵抗体の温度変化係数が±500 ppm
/’Cより大きくなり、好ましくない場合がある。しか
し、この範囲以外のものも抵抗の温度変化係数の改苦が
見られる範囲で使用できる。
このようにして得られた抵抗体材料粉末から固定チップ
抵抗器あるいは厚膜抵抗体のための抵抗体を作成するに
は、例えばセラミックグリーンシートにこれらの抵抗体
材料粉末を塗布し、焼成するが、この塗布を行うために
例えばシルクスクリーン印刷ができるようにこれら抵抗
体材料粉末にビヒクルが混合され塗液が調整される。こ
のビヒクルは、焼成の前段階で焼失できるようなものが
好ましく、このためには有機物ビヒクル、すなわち有機
溶剤に樹脂を溶解又は分散させ、必要に応じて可塑剤、
分散剤等の各種添加剤を加えたちのが好ましい。この有
機溶剤にはプチルカービトールアセテート、プチルカー
ビトール、テレピン油などが挙げられ、樹脂としてはエ
チルセルローズ、ニトロセルローズ等のセルローズ=s
体、その他の樹脂が挙げられる。
抵抗器あるいは厚膜抵抗体のための抵抗体を作成するに
は、例えばセラミックグリーンシートにこれらの抵抗体
材料粉末を塗布し、焼成するが、この塗布を行うために
例えばシルクスクリーン印刷ができるようにこれら抵抗
体材料粉末にビヒクルが混合され塗液が調整される。こ
のビヒクルは、焼成の前段階で焼失できるようなものが
好ましく、このためには有機物ビヒクル、すなわち有機
溶剤に樹脂を溶解又は分散させ、必要に応じて可塑剤、
分散剤等の各種添加剤を加えたちのが好ましい。この有
機溶剤にはプチルカービトールアセテート、プチルカー
ビトール、テレピン油などが挙げられ、樹脂としてはエ
チルセルローズ、ニトロセルローズ等のセルローズ=s
体、その他の樹脂が挙げられる。
この有機物ビヒクルと抵抗体材料粉末との使用割合は使
用する有機溶剤、樹脂等により変わるが、有機溶剤と樹
脂との使用割合は前者が20〜50重量%、後者が80
〜50重蚤%が適当である。これらの成分は例えば三本
ロールミル、らいかい器などの混合手段を用いてベース
I・状にされる。
用する有機溶剤、樹脂等により変わるが、有機溶剤と樹
脂との使用割合は前者が20〜50重量%、後者が80
〜50重蚤%が適当である。これらの成分は例えば三本
ロールミル、らいかい器などの混合手段を用いてベース
I・状にされる。
このようにして得られた抵抗体材料ペーストが基板に塗
布され、これがさらに後述の処理を施されて抵抗体が作
成されるが、この基板にはセラミックグリーンシートを
導体材料や抵抗体材料とともに焼成して作成するものの
みならず、予めセラミックグリーンシートを焼成し、こ
れにさらに抵抗体材料、導体材料を塗布した後焼成する
方法でも良い。これらは積層体を形成する場合にも適用
できる。
布され、これがさらに後述の処理を施されて抵抗体が作
成されるが、この基板にはセラミックグリーンシートを
導体材料や抵抗体材料とともに焼成して作成するものの
みならず、予めセラミックグリーンシートを焼成し、こ
れにさらに抵抗体材料、導体材料を塗布した後焼成する
方法でも良い。これらは積層体を形成する場合にも適用
できる。
前記セラミンクグリーンシートとしては、例えば酸化ア
ルミニウム(A l zO+)35〜45重量%、酸化
珪素(SiO□)25〜35重量%、酸化硼素(B20
:I) 10〜15重世%、酸化カルシウム(CaO)
7〜13重量%、酸化マグネシウム(MgO) 7〜1
0重量%等のセラミック構成成分の酸化物混合物を有機
物ビヒクルとボールミル等で混合したスラリーをドクタ
ーブレード等によりシート化したものが挙げられる。こ
の際、アルカリ土類金属のモリブデン酸塩にガラスを併
用しないときは、前記セラミックグリーンシートにガラ
ス分を多く含ませガラスを併用したと同様の効果を出す
ようにしても良い。前記有機物ビヒクルニは、アクリル
酸エステル等のアクリル樹脂、ポリビニルブチラール等
の樹脂、グリセリン、フタル酸ジエチル等の可塑剤、カ
ルボン酸塩等の分散剤、水、有機溶剤等の溶剤から構成
される。
ルミニウム(A l zO+)35〜45重量%、酸化
珪素(SiO□)25〜35重量%、酸化硼素(B20
:I) 10〜15重世%、酸化カルシウム(CaO)
7〜13重量%、酸化マグネシウム(MgO) 7〜1
0重量%等のセラミック構成成分の酸化物混合物を有機
物ビヒクルとボールミル等で混合したスラリーをドクタ
ーブレード等によりシート化したものが挙げられる。こ
の際、アルカリ土類金属のモリブデン酸塩にガラスを併
用しないときは、前記セラミックグリーンシートにガラ
ス分を多く含ませガラスを併用したと同様の効果を出す
ようにしても良い。前記有機物ビヒクルニは、アクリル
酸エステル等のアクリル樹脂、ポリビニルブチラール等
の樹脂、グリセリン、フタル酸ジエチル等の可塑剤、カ
ルボン酸塩等の分散剤、水、有機溶剤等の溶剤から構成
される。
上記抵抗体材料ペーストはセラミックグリーンシートに
例えばシルクスクリーン印刷等の手段により塗布され、
乾燥後、400〜500℃で熱処理されて樹脂成分が分
解・燃焼されるのが好ましい。
例えばシルクスクリーン印刷等の手段により塗布され、
乾燥後、400〜500℃で熱処理されて樹脂成分が分
解・燃焼されるのが好ましい。
コノ際、同時にNiあるいはCu等の卑金属導体材料あ
るいはAg又はAg−Pdの貴金属導体材料のペースト
も抵抗体材料ペースト塗膜と同様にセラミックグリーン
シートに塗布され、抵抗体材料ペーストの塗布物と同様
に処理される。
るいはAg又はAg−Pdの貴金属導体材料のペースト
も抵抗体材料ペースト塗膜と同様にセラミックグリーン
シートに塗布され、抵抗体材料ペーストの塗布物と同様
に処理される。
このNiあるいはCu等の卑金属導体材料あるいはAg
又はAg−Pdの貴金属導体材料のペースト組成物とし
ては、各々の全屈粉末98〜85重量%にガラスフリッ
トを2〜15重量%添加したものが例示される。
又はAg−Pdの貴金属導体材料のペースト組成物とし
ては、各々の全屈粉末98〜85重量%にガラスフリッ
トを2〜15重量%添加したものが例示される。
このようにしてセラミックグリーンシートに抵抗体材料
及び/又は導体材料が組み込まれるが、固定チップ抵抗
器の場合にはこの未焼成基板の表面のみ、多N基板の厚
膜抵抗体の場合には前記抵抗体材料、導体材料を未焼成
状態で組み込んだものをさらに積層して所定の回路を構
成するようにしてから焼成する。この焼成により導体材
料及び/又は厚膜抵抗体材料を基板と同時に焼成体にす
ることができる。
及び/又は導体材料が組み込まれるが、固定チップ抵抗
器の場合にはこの未焼成基板の表面のみ、多N基板の厚
膜抵抗体の場合には前記抵抗体材料、導体材料を未焼成
状態で組み込んだものをさらに積層して所定の回路を構
成するようにしてから焼成する。この焼成により導体材
料及び/又は厚膜抵抗体材料を基板と同時に焼成体にす
ることができる。
この場合、NiあるいはCu等の卑金属導体材料が導体
材料に用いられるときは、その酸化による高抵抗値化を
防止するために、非酸化性雰囲気中で焼成することが好
ましく、その焼成温度は、例えば800℃〜1)00℃
、0.5時間〜2時間が例示される。非酸化性雰囲気と
しては、窒素ガスその他年活性ガス、これらに水素ガス
を含有させた混合ガスも用いられる。また、Ag又はA
g−Pdの貴金属導体材料を用いるときは空気等の酸化
性雰囲気中で焼成することもできる。
材料に用いられるときは、その酸化による高抵抗値化を
防止するために、非酸化性雰囲気中で焼成することが好
ましく、その焼成温度は、例えば800℃〜1)00℃
、0.5時間〜2時間が例示される。非酸化性雰囲気と
しては、窒素ガスその他年活性ガス、これらに水素ガス
を含有させた混合ガスも用いられる。また、Ag又はA
g−Pdの貴金属導体材料を用いるときは空気等の酸化
性雰囲気中で焼成することもできる。
前記のようにして導体及び/又は抵抗体を組み込んだ回
路配線基板が出来上がるが、焼成基板と導体の間は勿論
のこと、焼成基板と抵抗体との間にも焼成に伴ってクラ
ンクや歪、ふくれを生じることがないとともに、抵抗体
は高湿度雰囲気中に1000時間以上放置されてもその
抵抗値が±2%゛以内の変化に抑制され、その高い信頼
性を確保することができるとともに、抵抗値の温度変化
係数も例えば±500ppm/ ’C以下にすることが
できる。これは抵抗体が導体及び焼成基板と良くマツチ
ングするためと、アルカリ土類金属のモリブデン酸塩及
びアカリ土頚金属の弗化物とガラスの焼成体からなる抵
抗体の独特の耐湿性に基づくものと考えられるが詳細は
明らかでない。なお、X線回折分析により前記抵抗体中
にアルカリ土類金属のモリブデン酸塩とアルカリ土類金
属の弗化物を認めることができる。
路配線基板が出来上がるが、焼成基板と導体の間は勿論
のこと、焼成基板と抵抗体との間にも焼成に伴ってクラ
ンクや歪、ふくれを生じることがないとともに、抵抗体
は高湿度雰囲気中に1000時間以上放置されてもその
抵抗値が±2%゛以内の変化に抑制され、その高い信頼
性を確保することができるとともに、抵抗値の温度変化
係数も例えば±500ppm/ ’C以下にすることが
できる。これは抵抗体が導体及び焼成基板と良くマツチ
ングするためと、アルカリ土類金属のモリブデン酸塩及
びアカリ土頚金属の弗化物とガラスの焼成体からなる抵
抗体の独特の耐湿性に基づくものと考えられるが詳細は
明らかでない。なお、X線回折分析により前記抵抗体中
にアルカリ土類金属のモリブデン酸塩とアルカリ土類金
属の弗化物を認めることができる。
本発明においては、上記の如くアルカリ土類金属のモリ
ブデン酸塩を用いても良いが、このアルカリ土類金属の
モリブデン酸塩の代わりに熱処理によりアルカリ土類金
属のモリブデン酸塩となる前駆体を一部又は全部用いる
こともできる。これらのいずれの場合もガラスと混合し
て熱処理したものを粉砕し、抵抗体材料とすることが好
ましいが、この熱処理を行わず上述の有機物ビヒクル等
と混合して作成したペーストを例えばグリーンセラミッ
クシートに塗布してから、有機物除去の加熱処理を経て
焼成し、直接抵抗体を作成することもできる。
ブデン酸塩を用いても良いが、このアルカリ土類金属の
モリブデン酸塩の代わりに熱処理によりアルカリ土類金
属のモリブデン酸塩となる前駆体を一部又は全部用いる
こともできる。これらのいずれの場合もガラスと混合し
て熱処理したものを粉砕し、抵抗体材料とすることが好
ましいが、この熱処理を行わず上述の有機物ビヒクル等
と混合して作成したペーストを例えばグリーンセラミッ
クシートに塗布してから、有機物除去の加熱処理を経て
焼成し、直接抵抗体を作成することもできる。
また、ガラスはこれを構成する酸化物の混合材料がアル
カリ土類金属のモリブデン酸塩及びアルカリ土類金属の
弗化物とともに結果的に焼成される状態におかれれば良
く、これらの酸化物の前駆体をアルカリ土類金属のモリ
ブデン酸塩及び/又はその前駆体、アルカリ土類金属の
弗化匍ともにこの酸化物の一部又は全部を上述したよう
にペースト状態にし、これを基板に塗布して有機物の燃
焼、その後の焼成のいずれの過程で上記のガラス成分か
らなるガラスになり、これとアルカリ土類金属のモリブ
デン酸塩及び/又はその前駆体と、アルカリ土類金属の
弗化物と焼成されことにより抵抗体を作製できるもので
あれば良い。例えば、ガラスの材料の成分であるCaO
(酸化カルシウム)はCaC0:+ (炭酸カルシウ
ム)の加熱、BzOx (酸化硼素)はホウ酸(H,B
O,)の加熱から得られるので、CaO、B2O2の一
部又は全部の代わりにそれぞれCaC0z 、HzBO
zを用いることができる。本発明における抵抗体材料と
はその処理の過程で結果的にアルカリ土類金属のモリブ
デン酸塩とガラスとアルカリ土類金属の弗化物を主成分
にするものであれば良い。
カリ土類金属のモリブデン酸塩及びアルカリ土類金属の
弗化物とともに結果的に焼成される状態におかれれば良
く、これらの酸化物の前駆体をアルカリ土類金属のモリ
ブデン酸塩及び/又はその前駆体、アルカリ土類金属の
弗化匍ともにこの酸化物の一部又は全部を上述したよう
にペースト状態にし、これを基板に塗布して有機物の燃
焼、その後の焼成のいずれの過程で上記のガラス成分か
らなるガラスになり、これとアルカリ土類金属のモリブ
デン酸塩及び/又はその前駆体と、アルカリ土類金属の
弗化物と焼成されことにより抵抗体を作製できるもので
あれば良い。例えば、ガラスの材料の成分であるCaO
(酸化カルシウム)はCaC0:+ (炭酸カルシウ
ム)の加熱、BzOx (酸化硼素)はホウ酸(H,B
O,)の加熱から得られるので、CaO、B2O2の一
部又は全部の代わりにそれぞれCaC0z 、HzBO
zを用いることができる。本発明における抵抗体材料と
はその処理の過程で結果的にアルカリ土類金属のモリブ
デン酸塩とガラスとアルカリ土類金属の弗化物を主成分
にするものであれば良い。
実施例
次に本発明の詳細な説明する。
実施例1
酸化物に換算して表1に示される組成になるように各成
分を秤量し、混合した。
分を秤量し、混合した。
表1
表中、単位は重量%。
ガラスA、ガラスBのそれぞれの混合物を各別にアルミ
ナ坩堝中で1400℃で溶融し、その溶融液を水中に投
入し、急冷させた。この急冷物を取り出してエタノール
とともにポンドミルの中に入れ、アルミナボールで24
時間粉砕し、粒径10μm以下のガラス粉末を得た。
ナ坩堝中で1400℃で溶融し、その溶融液を水中に投
入し、急冷させた。この急冷物を取り出してエタノール
とともにポンドミルの中に入れ、アルミナボールで24
時間粉砕し、粒径10μm以下のガラス粉末を得た。
また、酸化モリブデンと炭酸マグネシウムをモル比が1
になるように混合し、700℃で1時間熱処理してマグ
ネシウムのモリブデン酸塩を得た。
になるように混合し、700℃で1時間熱処理してマグ
ネシウムのモリブデン酸塩を得た。
次に、前記で得たガラスA1ガラスBのそれぞれのガラ
ス粉末と前記で得たマグネシウムのモリブデン酸塩及び
アルカリ土類金属の弗化物を表2に示す割合になるよう
に秤量し、混合した。
ス粉末と前記で得たマグネシウムのモリブデン酸塩及び
アルカリ土類金属の弗化物を表2に示す割合になるよう
に秤量し、混合した。
(この頁以下余白)
褒2(yjき)
前記各試料を窒素(To) 98.5 vo1%、水素
(Hよ)1.5 vo1%のガス雰囲気中、1000℃
、1時間熱処理し、しかる後にエタノールとともにボッ
トミルにて粉砕し、乾燥して10μm以下のガラスとマ
グネシウムのモリブデン酸塩と弗化物の熱処理粉末の抵
抗体材料粉末を得た。
(Hよ)1.5 vo1%のガス雰囲気中、1000℃
、1時間熱処理し、しかる後にエタノールとともにボッ
トミルにて粉砕し、乾燥して10μm以下のガラスとマ
グネシウムのモリブデン酸塩と弗化物の熱処理粉末の抵
抗体材料粉末を得た。
次に各試料の抵抗体材料粉末100重量部に有機物ビヒ
クノ喧ブチルカービトール90重量部、エチルセルロー
ズ10重量部)25重量部を加え、ロールミルで混合し
、抵抗体材料ペーストを得た。
クノ喧ブチルカービトール90重量部、エチルセルロー
ズ10重量部)25重量部を加え、ロールミルで混合し
、抵抗体材料ペーストを得た。
一方、A (l z(h 40.0重量%、5iOz3
5.0重量%、820313.0重量%、Ca07.0
重量%、Mg05.0重量%からなるセラミック原料粉
末100重量部にポリビニルブチラール8重量部、フタ
ル酸ジエチル8重量部、オレイン酸0.5重量部、アセ
トン10重量部、イソプロピルアルコール20重量部及
びメチルエチルケトン20重量部を加えてボールミルに
より混合してスラリーを作製し、脱泡処理した後にドク
ターブレード法により厚さ200μmの長尺のセラミッ
クグリーンシートを作製した。このセラミックグリーン
シートから縦9鰭横9鰭のグリーンシート片と、縦6f
i横9++nのグリーンシート片とを切り抜いた。
5.0重量%、820313.0重量%、Ca07.0
重量%、Mg05.0重量%からなるセラミック原料粉
末100重量部にポリビニルブチラール8重量部、フタ
ル酸ジエチル8重量部、オレイン酸0.5重量部、アセ
トン10重量部、イソプロピルアルコール20重量部及
びメチルエチルケトン20重量部を加えてボールミルに
より混合してスラリーを作製し、脱泡処理した後にドク
ターブレード法により厚さ200μmの長尺のセラミッ
クグリーンシートを作製した。このセラミックグリーン
シートから縦9鰭横9鰭のグリーンシート片と、縦6f
i横9++nのグリーンシート片とを切り抜いた。
次に第1図に示す如く、前記の縦9鰭横9fiのグリー
ンシート片l上に銅粉末95重量部、ガラスフリフト5
重量部に、有機物ビヒクルとしてブチルカルピトール2
0重量部、エチルセルロース5重量部を加え、これらを
三本ロールミルによす混合した導体材料ペーストをシル
クスクリーン印刷し、125℃、10分間乾燥させて厚
膜導体材料塗膜2を形成した。次いで、前記で得た抵抗
体材料ペーストを前記グリーンシート片1に前記と同様
にシルクスクリーン印刷し、125℃、10分間乾燥さ
せて抵抗体材料塗膜3を形成した。
ンシート片l上に銅粉末95重量部、ガラスフリフト5
重量部に、有機物ビヒクルとしてブチルカルピトール2
0重量部、エチルセルロース5重量部を加え、これらを
三本ロールミルによす混合した導体材料ペーストをシル
クスクリーン印刷し、125℃、10分間乾燥させて厚
膜導体材料塗膜2を形成した。次いで、前記で得た抵抗
体材料ペーストを前記グリーンシート片1に前記と同様
にシルクスクリーン印刷し、125℃、10分間乾燥さ
せて抵抗体材料塗膜3を形成した。
次にグリーンシート片1上に前記で得た縦6鰭横9nの
グリーンシート片4を図示鎖線で示すように重ね、10
0℃、150Kg/−で熱圧着する1次いで、これを大
気等の酸化性雰囲気中、400〜500℃で加熱してグ
リーンシート片1.4、導体材料塗膜2、抵抗体材料塗
膜3のそれぞれの残留f機物を分解・燃焼させる。
グリーンシート片4を図示鎖線で示すように重ね、10
0℃、150Kg/−で熱圧着する1次いで、これを大
気等の酸化性雰囲気中、400〜500℃で加熱してグ
リーンシート片1.4、導体材料塗膜2、抵抗体材料塗
膜3のそれぞれの残留f機物を分解・燃焼させる。
このようにして有機物を除去した後、Nz 98.5v
o1%、Hz 1.5 vo1%の混合ガス中で、95
0℃、1時間焼成し、第2図に示すようにグリーンシー
ト片1の焼成体の磁器層1a、グリーンシート片4の焼
成体の磁器層4aの間に導体材料塗膜2の焼成体の厚膜
導体2a、抵抗体材料塗膜3の焼成体の厚膜抵抗体3a
を有する多層セラミック基板を完成させた。この多層基
板には、後述する第3図、第4図に示されるような反り
、ふくれは見られなかった。
o1%、Hz 1.5 vo1%の混合ガス中で、95
0℃、1時間焼成し、第2図に示すようにグリーンシー
ト片1の焼成体の磁器層1a、グリーンシート片4の焼
成体の磁器層4aの間に導体材料塗膜2の焼成体の厚膜
導体2a、抵抗体材料塗膜3の焼成体の厚膜抵抗体3a
を有する多層セラミック基板を完成させた。この多層基
板には、後述する第3図、第4図に示されるような反り
、ふくれは見られなかった。
このようにして得られた焼成体(試料No1)の多層セ
ラミック基板を層方向に研磨し・て抵抗体層を露出させ
、この露出した抵抗体層をX線回折(CuKα線)によ
り分析し、得られた結果を第5図に示す。これにより供
試体中のモリブデン酸塩の種類及び弗化物の種類を確認
することができた。
ラミック基板を層方向に研磨し・て抵抗体層を露出させ
、この露出した抵抗体層をX線回折(CuKα線)によ
り分析し、得られた結果を第5図に示す。これにより供
試体中のモリブデン酸塩の種類及び弗化物の種類を確認
することができた。
次にこの多層セラミック基板3aの25℃における抵抗
(Ii!r(Rzs)と、125℃に加熱したときの抵
抗値(RIz s)をデジタルマルチメータで測定し、
抵抗の温度係数(TCI?)を次式により求めた。
(Ii!r(Rzs)と、125℃に加熱したときの抵
抗値(RIz s)をデジタルマルチメータで測定し、
抵抗の温度係数(TCI?)を次式により求めた。
2に示した。
また、上記で得られた多層セラミック基板を60℃、9
5%相対湿度のもとに1000時間放置した後の25℃
の抵抗値を測定し、その変化率を求めた結果を表2に示
す。
5%相対湿度のもとに1000時間放置した後の25℃
の抵抗値を測定し、その変化率を求めた結果を表2に示
す。
なお、各試料魚の試料からアルカリ土類金属の弗化物を
除いた試料を用いて作られた電気抵抗体のそれぞれにつ
いて上記と同様に測定し、求めた結果を表2の試料磁に
対応させてそれぞれ表3に示す。
除いた試料を用いて作られた電気抵抗体のそれぞれにつ
いて上記と同様に測定し、求めた結果を表2の試料磁に
対応させてそれぞれ表3に示す。
実施例2〜4
実施例1において、マグネシウムのモリブデン酸塩の代
わりにそれぞれカルシウムのモリブデン酸塩、ストロン
チウムのモリブデン酸塩、バIJ ’7ムのモリブデン
酸塩を用いた以外は同様にしてそれぞれ表4.6.8に
示す抵抗体材料から多層セラミック基板を作製し、実施
例1と同様にR2%、TCR、抵抗値変化率を求めこれ
らをそれぞれ表4.6.8に示す。
わりにそれぞれカルシウムのモリブデン酸塩、ストロン
チウムのモリブデン酸塩、バIJ ’7ムのモリブデン
酸塩を用いた以外は同様にしてそれぞれ表4.6.8に
示す抵抗体材料から多層セラミック基板を作製し、実施
例1と同様にR2%、TCR、抵抗値変化率を求めこれ
らをそれぞれ表4.6.8に示す。
なお、上記と同様にアルカリ土類金属の弗化物を除いた
抵抗体材料を用いて多層セラミック基板を作製し、上記
と同様に測定した測定値、計算値を上記と同様に試料N
o、を対応させてそれぞれ表5.7.9に示す。
抵抗体材料を用いて多層セラミック基板を作製し、上記
と同様に測定した測定値、計算値を上記と同様に試料N
o、を対応させてそれぞれ表5.7.9に示す。
実施例5
実施例1において、マグネシウムのモリブデン酸塩のマ
グネシウムをアルカリ土類金属の2種以上と置換した表
10に示すモリブデン酸塩を使用した以外は同様にして
この表10に示す抵抗体材料から多層セラミック基板を
作製し、実施例1と同様にRzs 5TCR、抵抗値変
化率を求めこれらを表10に示す。
グネシウムをアルカリ土類金属の2種以上と置換した表
10に示すモリブデン酸塩を使用した以外は同様にして
この表10に示す抵抗体材料から多層セラミック基板を
作製し、実施例1と同様にRzs 5TCR、抵抗値変
化率を求めこれらを表10に示す。
なお、実施例5において、アルカリ土類金属の弗化物を
含まない表10の各試料に対応する抵抗体材料を用いた
以外は同様にして多層セラミック基板を作製し、実施例
1と同様にI?zs、TCR2抵抗値変化率を求めこれ
らを試料Noを対応させて表1)に示す。
含まない表10の各試料に対応する抵抗体材料を用いた
以外は同様にして多層セラミック基板を作製し、実施例
1と同様にI?zs、TCR2抵抗値変化率を求めこれ
らを試料Noを対応させて表1)に示す。
実施例6
実施例1において、マグネシウムのモリブデン酸塩の代
わりにアルカリ土類金属のモリブデン酸塩、の2種以上
の混合物を用いた以外は同様にして表12に示す抵抗体
材料から多層セラミック基板を作製し、実施例1と同様
にRzs 、 TCP 、抵抗値変化率を求めこれらを
表12に示す。
わりにアルカリ土類金属のモリブデン酸塩、の2種以上
の混合物を用いた以外は同様にして表12に示す抵抗体
材料から多層セラミック基板を作製し、実施例1と同様
にRzs 、 TCP 、抵抗値変化率を求めこれらを
表12に示す。
なお、実施例6において、アルカリ土類金属の弗化物を
含まない表12の各試料に対応する抵抗体材料を用いた
以外は同様にして多層セラミック基板を作製し、実施例
1と同様にR2S、TCR1抵抗値変化率を求め、これ
らを試料No、を対応させて表12に示す。
含まない表12の各試料に対応する抵抗体材料を用いた
以外は同様にして多層セラミック基板を作製し、実施例
1と同様にR2S、TCR1抵抗値変化率を求め、これ
らを試料No、を対応させて表12に示す。
実施例7
実施例1〜6において、アルカリ土類金属のモリブデン
酸塩、アルカリ土類金属の弗化物及びガラス粉末の混合
物について窒素(Nz) 98.5vo1%、水素(H
z) 1.5vo1%のガス雰囲気中、1000℃、1
時間の熱処理を行わなかった以外は同様にして表13に
示す抵抗体材料から多層セラミック基板を作成し、実施
例1と同様にR2S 、TCP 、抵抗値変化率を求め
これらを表13に示す。
酸塩、アルカリ土類金属の弗化物及びガラス粉末の混合
物について窒素(Nz) 98.5vo1%、水素(H
z) 1.5vo1%のガス雰囲気中、1000℃、1
時間の熱処理を行わなかった以外は同様にして表13に
示す抵抗体材料から多層セラミック基板を作成し、実施
例1と同様にR2S 、TCP 、抵抗値変化率を求め
これらを表13に示す。
なお、図示省略したが、前記それぞれの実施例の焼成体
についてX線回折分析によりモリブデン酸塩の種類、弗
化物の種類を確認できる。
についてX線回折分析によりモリブデン酸塩の種類、弗
化物の種類を確認できる。
(この頁以下余白)
表3(マグネシウネのモリブデン酸塩に弗化物を併用し
ない場合)表5(カルシウムのモリブデン酸塩に弗化物
を併用しない場合)表 6(二rブき) 表 5(−7′jき) 表7(ストロンチウムのそリブデン酸塩に弗化物を併用
しない場合)表8(バリウムのモリブデ肩に弗化物を併
用する場合>m■表 8(つづき) 表 8(フプき) (この頁以下余白) 表1)(複数金属置換モリブデン酸塩と弗化物を併用し
ない場合)表 12(モリブデン酸の混合物と弗化物を
併用する場合(実施例0、同併用しない場合)比較例1
(MoSiz−TaSigガラス系抵抗体材料)Mo
Sit 16重量部、Ta5iz 9重量部の混合物を
空中1400℃で加熱し、その生成物をエタノールとと
もにボットミル中アルミナボールで24時間粉砕し、乾
燥させて10μ−以下の微粉末を得た。このようにして
得た微粉末25重量部に対し、BaO、BzOi、Mg
O% CaO、Singからなるガラスフリフト75重
量部と、有機物ビヒクル(ブチルカルピトール20重量
部、エチルセルロース5重量部)25重量部とを加え、
ロールミルで混合して抵抗体材料ペーストを得た。
ない場合)表5(カルシウムのモリブデン酸塩に弗化物
を併用しない場合)表 6(二rブき) 表 5(−7′jき) 表7(ストロンチウムのそリブデン酸塩に弗化物を併用
しない場合)表8(バリウムのモリブデ肩に弗化物を併
用する場合>m■表 8(つづき) 表 8(フプき) (この頁以下余白) 表1)(複数金属置換モリブデン酸塩と弗化物を併用し
ない場合)表 12(モリブデン酸の混合物と弗化物を
併用する場合(実施例0、同併用しない場合)比較例1
(MoSiz−TaSigガラス系抵抗体材料)Mo
Sit 16重量部、Ta5iz 9重量部の混合物を
空中1400℃で加熱し、その生成物をエタノールとと
もにボットミル中アルミナボールで24時間粉砕し、乾
燥させて10μ−以下の微粉末を得た。このようにして
得た微粉末25重量部に対し、BaO、BzOi、Mg
O% CaO、Singからなるガラスフリフト75重
量部と、有機物ビヒクル(ブチルカルピトール20重量
部、エチルセルロース5重量部)25重量部とを加え、
ロールミルで混合して抵抗体材料ペーストを得た。
この抵抗体材料ペーストを用いた以外は実施例1と同様
にして多層セラミック基板を得た。
にして多層セラミック基板を得た。
その結果、セラミックグリーンシートに抵抗体材料塗膜
を形成し、これを加熱処理して有機物を除去した後に同
時焼成して得たものは、両者の焼成体に膨張率、収縮率
が異なることにより第3図に示すように反りが見られ、
また、MoSi、 、TaSiの分解反応でSing気
体が発生することにより第4歯に示すようにふくれが生
じ、実用に供することができなかった。なお、llaは
上記磁器層1a、14aは上記磁器層4a、 13aは
上記厚膜抵抗体3aにそれぞれ対応する磁器層、厚膜抵
抗体である。
を形成し、これを加熱処理して有機物を除去した後に同
時焼成して得たものは、両者の焼成体に膨張率、収縮率
が異なることにより第3図に示すように反りが見られ、
また、MoSi、 、TaSiの分解反応でSing気
体が発生することにより第4歯に示すようにふくれが生
じ、実用に供することができなかった。なお、llaは
上記磁器層1a、14aは上記磁器層4a、 13aは
上記厚膜抵抗体3aにそれぞれ対応する磁器層、厚膜抵
抗体である。
比較例2(MoSiz−BaFzガラス系抵抗系材抗体
材料Siz 70重量部、Ba1t 20重量部と、5
iOz、Z n %Zr0z、Cart、Aj!zOi
からなるガラスフリフト10重量部とをボールミルで混
合し、得られた粉末をアルゴン(Ar)ガス雰囲気中1
200℃で熱処理した後、これをエタノールとともにボ
ットミル中アルミナポールで24時間粉砕し、乾燥させ
て10Atl1)以下の微粉末を得た。
材料Siz 70重量部、Ba1t 20重量部と、5
iOz、Z n %Zr0z、Cart、Aj!zOi
からなるガラスフリフト10重量部とをボールミルで混
合し、得られた粉末をアルゴン(Ar)ガス雰囲気中1
200℃で熱処理した後、これをエタノールとともにボ
ットミル中アルミナポールで24時間粉砕し、乾燥させ
て10Atl1)以下の微粉末を得た。
この抵抗体材料ペーストを用いた以外は実施例1と同様
にして多層セラミック基板を得た。
にして多層セラミック基板を得た。
この多層セラミック基板の厚膜抵抗体についても実施例
1と同様にして求めたR□、TCR及び抵抗値の変化率
を表14に示す。
1と同様にして求めたR□、TCR及び抵抗値の変化率
を表14に示す。
上記結果より、実施例の多層セラミック基板はいずれも
反り、ふくれがなく、抵抗値の変化率も±2%以内であ
り、さらにTCRも特に抵抗体材料を熱処理したものは
±500ppm:/ ”cであるのに対し、比較例1の
多層セラミック基板は反りが見られ、比較例2の多層セ
ラミック基板は抵抗体の抵抗値の変化率が4倍も大きい
ことがわかる。
反り、ふくれがなく、抵抗値の変化率も±2%以内であ
り、さらにTCRも特に抵抗体材料を熱処理したものは
±500ppm:/ ”cであるのに対し、比較例1の
多層セラミック基板は反りが見られ、比較例2の多層セ
ラミック基板は抵抗体の抵抗値の変化率が4倍も大きい
ことがわかる。
発明の効果
本発明によれば、アルカリ土類金属のモリブデン酸塩及
びアルカリ土類金属の弗化物を含有する電気抵抗体を供
給できるので、アルカリ土類金属のモリブデン酸塩及び
アルカリ土類金属の弗化物を主成分に有する組成の抵抗
体材料を用いて、例えば卑金属導体材料とともに非酸化
性雰囲気中でセラミックグリーンシートと同時に焼成す
ることにより抵抗体を形成するようにすると、焼成によ
り焼成体に反りやふくれが生じるようなことはなく、ま
た、抵抗体の温度変化を小さくできるのみならず、抵抗
体の抵抗値の温度変化係数を例えば±500 ppm
/ ’C以下にすることができる。
びアルカリ土類金属の弗化物を含有する電気抵抗体を供
給できるので、アルカリ土類金属のモリブデン酸塩及び
アルカリ土類金属の弗化物を主成分に有する組成の抵抗
体材料を用いて、例えば卑金属導体材料とともに非酸化
性雰囲気中でセラミックグリーンシートと同時に焼成す
ることにより抵抗体を形成するようにすると、焼成によ
り焼成体に反りやふくれが生じるようなことはなく、ま
た、抵抗体の温度変化を小さくできるのみならず、抵抗
体の抵抗値の温度変化係数を例えば±500 ppm
/ ’C以下にすることができる。
これにより、抵抗体を組み込んだ回路基板の小型化、コ
ストの低減の両方の要求を満たすことができるとともに
、精密な動作を必要とする電子機器に優れた電子部品を
提供することができる。
ストの低減の両方の要求を満たすことができるとともに
、精密な動作を必要とする電子機器に優れた電子部品を
提供することができる。
また、アルカリ土類金属のモリブデン酸塩及びアルカリ
土類金属の弗化物を熱処理すると、これを行わないもの
に比べ、抵抗体の温度変化係数の絶対値を小さくでき、
精密な動作を必要とする電気回路に優れた性能を付加で
きる。
土類金属の弗化物を熱処理すると、これを行わないもの
に比べ、抵抗体の温度変化係数の絶対値を小さくでき、
精密な動作を必要とする電気回路に優れた性能を付加で
きる。
第1図は本発明の電気抵抗体を製造するときの焼成前の
抵抗体材料塗膜と電極材料塗膜を基板に形成し、多層構
造にしようとする状態の一例を示す図、第2図はその焼
成体の断面図、第3図は従来の抵抗体材料を使用して多
層構造にしたときの焼成体の断面図、第4図はその焼成
体にガスが発生したときの説明図、第5図は本発明の一
実施例の電気抵抗体のからマグネシウムのモリブデン酸
塩及び弗化カルシウムを検出したときのX線回折図であ
る。 図中、1.4はグリーンシート片、2は翼体材料塗膜、
3は抵抗体材料塗膜、1a、4aは磁器層、2aは厚膜
導体、3aは厚膜抵抗体である。 昭和62年02月28日 第1図 第3図 第4図
抵抗体材料塗膜と電極材料塗膜を基板に形成し、多層構
造にしようとする状態の一例を示す図、第2図はその焼
成体の断面図、第3図は従来の抵抗体材料を使用して多
層構造にしたときの焼成体の断面図、第4図はその焼成
体にガスが発生したときの説明図、第5図は本発明の一
実施例の電気抵抗体のからマグネシウムのモリブデン酸
塩及び弗化カルシウムを検出したときのX線回折図であ
る。 図中、1.4はグリーンシート片、2は翼体材料塗膜、
3は抵抗体材料塗膜、1a、4aは磁器層、2aは厚膜
導体、3aは厚膜抵抗体である。 昭和62年02月28日 第1図 第3図 第4図
Claims (5)
- (1)アルカリ土類金属のモリブデン酸塩と、アルカリ
土類金属の弗化物を含有する焼成体を有することを特徴
とする電気抵抗体。 - (2)焼成体はアルカリ土類金属のモリブデン酸塩及び
その前駆体の内の少なくとも一種と、アルカリ土類金属
の弗化物を主成分に含有する抵抗体材料から焼成される
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の電気抵抗
体。 - (3)抵抗体材料の主成分はアルカリ土類金属のモリブ
デン酸塩及びその前駆体の内の少なくとも一種を当該ア
ルカリ土類金属のモリブデン酸塩に換算して30〜95
重量%と、アルカリ土類金属の弗化物0.5〜40重量
%と、ガラス4.5〜69.5重量%とからなることを
特徴とする特許請求の範囲第2項記載の電気抵抗体。 - (4)主成分にアルカリ土類金属のモリブデン酸塩及び
その前駆体の内の少なくとも一種と、アルカリ土類金属
の弗化物を主成分に含有する抵抗体材料を熱処理し、こ
の熱処理して得られた抵抗体材料を用いて焼成し、アル
カリ土類金属のモリブデン酸塩及びアルカリ土類金属の
弗化物を含有する焼成体からなる電気抵抗体を得ること
を特徴とする電気抵抗体の製造方法。 - (5)熱処理前の抵抗体材料の主成分はアルカリ土類金
属のモリブデン酸塩及びその前駆体の内の少なくとも一
種を当該アルカリ土類金属のモリブデン酸塩に換算して
30〜95重量%と、アルカリ土類金属の弗化物0.5
〜40重量%と、ガラス4.5〜69.5重量%とから
なることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の電気
抵抗体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62045608A JPS63215546A (ja) | 1987-02-28 | 1987-02-28 | 電気抵抗体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62045608A JPS63215546A (ja) | 1987-02-28 | 1987-02-28 | 電気抵抗体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63215546A true JPS63215546A (ja) | 1988-09-08 |
JPH0449505B2 JPH0449505B2 (ja) | 1992-08-11 |
Family
ID=12724079
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62045608A Granted JPS63215546A (ja) | 1987-02-28 | 1987-02-28 | 電気抵抗体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63215546A (ja) |
-
1987
- 1987-02-28 JP JP62045608A patent/JPS63215546A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0449505B2 (ja) | 1992-08-11 |
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