JPS63215548A - 電気抵抗体及びその製造方法 - Google Patents
電気抵抗体及びその製造方法Info
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- JPS63215548A JPS63215548A JP62045610A JP4561087A JPS63215548A JP S63215548 A JPS63215548 A JP S63215548A JP 62045610 A JP62045610 A JP 62045610A JP 4561087 A JP4561087 A JP 4561087A JP S63215548 A JPS63215548 A JP S63215548A
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、固定チップ抵抗器あるいは回路配線基板等に
設けられる厚膜タイプの電気抵抗体、特に非酸化性雰囲
気中で焼成して得られることが可能な電気抵抗体及びそ
の製造方法に関する。
設けられる厚膜タイプの電気抵抗体、特に非酸化性雰囲
気中で焼成して得られることが可能な電気抵抗体及びそ
の製造方法に関する。
従来の技術
電子機器の電気回路は、抵抗、コンデンサ、ダイオード
、トランジスタ等の各種電気素子が回路基板に実装され
て構成されることが良く行なわれているが、電子機器の
小型化に伴ってこれらの電気素子の実装密度をさらに高
めることができる回路基板が多く用いられるようになっ
てきた。
、トランジスタ等の各種電気素子が回路基板に実装され
て構成されることが良く行なわれているが、電子機器の
小型化に伴ってこれらの電気素子の実装密度をさらに高
めることができる回路基板が多く用いられるようになっ
てきた。
これらの回路基板に設けられる抵抗体には、抵抗体材料
ペーストを回路上に直接印刷して焼付けることにより形
成した厚膜抵抗体、あるいは角板状セラミックチップの
両端に一対の電極を形成し、双方の電極に跨がるように
前記厚膜抵抗体を形成した固定チップ抵抗器等がある。
ペーストを回路上に直接印刷して焼付けることにより形
成した厚膜抵抗体、あるいは角板状セラミックチップの
両端に一対の電極を形成し、双方の電極に跨がるように
前記厚膜抵抗体を形成した固定チップ抵抗器等がある。
このような厚膜抵抗体を回路基板に設けるには、従来、
例えば1500℃前後で焼成して得られたアルミナ基板
の表面にAgあるいはAg−Pd等の導体材料ペースト
を塗布し、焼付けした後、例えばRuO□を抵抗体材料
として含有するペーストをスクリーン印刷等により塗布
し、ついで750〜850℃で焼付け、さらに必要に応
じてトリミング等により抵抗値の調整を行なうやり方が
一般的である。
例えば1500℃前後で焼成して得られたアルミナ基板
の表面にAgあるいはAg−Pd等の導体材料ペースト
を塗布し、焼付けした後、例えばRuO□を抵抗体材料
として含有するペーストをスクリーン印刷等により塗布
し、ついで750〜850℃で焼付け、さらに必要に応
じてトリミング等により抵抗値の調整を行なうやり方が
一般的である。
しかしながら近年、電子a器等に対する軽薄・短小化、
低コスト化の要求がさらに強まってきており、回路基板
に対しても一層の小型化、低コスト化の検討が行われる
ようになってきた。
低コスト化の要求がさらに強まってきており、回路基板
に対しても一層の小型化、低コスト化の検討が行われる
ようになってきた。
前者の小型化のための具体的な対応としては、第1に回
路基板の多層化、第2に抵抗体の内装化が行なわれてい
る。回路基板を多層化する例としては、AgあるいはA
g−Pd系等の導体材P1ペーストを印刷したセラミッ
クグリーンシート(生シート)を積層、圧着した後、大
気中800〜1100℃で同時焼成して得られる多層配
線基板が挙げられ、また、抵抗体を内装化した例として
は、前記導体材料ペーストを印刷したセラミックグリー
ンシート上にさらにRuO□系抵抗系材抗体材料ペース
トし、前記と同様に積層、圧着した後、同時焼成して得
られる抵抗体内装多層配線基板等が知られている。
路基板の多層化、第2に抵抗体の内装化が行なわれてい
る。回路基板を多層化する例としては、AgあるいはA
g−Pd系等の導体材P1ペーストを印刷したセラミッ
クグリーンシート(生シート)を積層、圧着した後、大
気中800〜1100℃で同時焼成して得られる多層配
線基板が挙げられ、また、抵抗体を内装化した例として
は、前記導体材料ペーストを印刷したセラミックグリー
ンシート上にさらにRuO□系抵抗系材抗体材料ペース
トし、前記と同様に積層、圧着した後、同時焼成して得
られる抵抗体内装多層配線基板等が知られている。
また、後者の低コスト化のための具体的な対応としては
、AgあるいはAg−Pd系材料のような高価な貴金属
系の導体材料に代わって、安価なNiあるいはCu等の
卑金属系の導体材料を用い、これらを窒素ガスあるいは
水素を含む窒素ガス中等、その酸化による高抵抗化を避
けることができるような中性あるいは還元性の非酸化性
雰囲気中、800〜1100℃でグリーンセラミックと
同時焼成して得られる多層配線基板が実用化されている
。また、特開昭56 153702号公報に記載されて
いるように、Mo5iz−TaSiz及びガラスからな
る抵抗体材料を、銅(Cu)導体を有するアルミナ基板
上に塗布し、熱処理して得られる厚膜抵抗体等も知られ
ている。
、AgあるいはAg−Pd系材料のような高価な貴金属
系の導体材料に代わって、安価なNiあるいはCu等の
卑金属系の導体材料を用い、これらを窒素ガスあるいは
水素を含む窒素ガス中等、その酸化による高抵抗化を避
けることができるような中性あるいは還元性の非酸化性
雰囲気中、800〜1100℃でグリーンセラミックと
同時焼成して得られる多層配線基板が実用化されている
。また、特開昭56 153702号公報に記載されて
いるように、Mo5iz−TaSiz及びガラスからな
る抵抗体材料を、銅(Cu)導体を有するアルミナ基板
上に塗布し、熱処理して得られる厚膜抵抗体等も知られ
ている。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、回路基板の小型化と低コスト化を同時に
行なうようにすると、RuO□系抵抗系材抗体材料ガス
あるいは水素を含む窒素ガス雰囲気中でグリーンセラミ
ックと同時焼成したときに還元反応が起こり、抵抗値が
低くなって抵抗体としての特性を示さなくなる。
行なうようにすると、RuO□系抵抗系材抗体材料ガス
あるいは水素を含む窒素ガス雰囲気中でグリーンセラミ
ックと同時焼成したときに還元反応が起こり、抵抗値が
低くなって抵抗体としての特性を示さなくなる。
また、Mo5t、−TaSi、及びガラスからなる抵抗
体材料を非酸化性雰囲気中でグリーンセラミックシート
と同時焼成すると、両者の膨張率、収縮率の相違による
ずれにより焼成体に反りが生じたり、Mo5iz−Ta
Sizの分解反応によりガスが発生して焼成体にふくれ
が生じ易いと云う問題点がある。これを改善するために
、特開昭60−198703号公報に記載されているよ
うに、Mo5iz−弗化金属塩(例えば弗化カルシウム
)及びガラスよりなる抵抗体材料を用いる例か知られて
おり、これについては上記のような焼成時の反りやふ(
れは見られない。
体材料を非酸化性雰囲気中でグリーンセラミックシート
と同時焼成すると、両者の膨張率、収縮率の相違による
ずれにより焼成体に反りが生じたり、Mo5iz−Ta
Sizの分解反応によりガスが発生して焼成体にふくれ
が生じ易いと云う問題点がある。これを改善するために
、特開昭60−198703号公報に記載されているよ
うに、Mo5iz−弗化金属塩(例えば弗化カルシウム
)及びガラスよりなる抵抗体材料を用いる例か知られて
おり、これについては上記のような焼成時の反りやふ(
れは見られない。
しかしながら、このMoS i z−弗化金属及びガラ
スよりな、る抵抗体材料をグリーンセラミックシートに
塗布し、同時焼成じで得られた厚膜抵抗体は、95%相
対湿度中に1000時間放置すると、5〜10%の抵抗
値の増加が見られ、抵抗体としての所定の機能を果たす
ことができない。
スよりな、る抵抗体材料をグリーンセラミックシートに
塗布し、同時焼成じで得られた厚膜抵抗体は、95%相
対湿度中に1000時間放置すると、5〜10%の抵抗
値の増加が見られ、抵抗体としての所定の機能を果たす
ことができない。
また、上記の従来の電気抵抗体は、その抵抗値の温度変
化係数が+ooo ppm)℃よりは小さくならず、精
密な動作を必要とする回路の抵抗体素子としては問題が
あった。
化係数が+ooo ppm)℃よりは小さくならず、精
密な動作を必要とする回路の抵抗体素子としては問題が
あった。
そこで、本願と同日の他の出願で、固定チップ抵抗器に
使用できるのみならず卑金属導体を用いた回路基板に設
けて積層し、これを焼成して多層基板に内装化しても抵
抗値の安定な電気抵抗体を得られることを示した。
使用できるのみならず卑金属導体を用いた回路基板に設
けて積層し、これを焼成して多層基板に内装化しても抵
抗値の安定な電気抵抗体を得られることを示した。
しかしながら、この電気抵抗体の抵抗値の温度変化係数
をさらに小さくすることが望まれていた。
をさらに小さくすることが望まれていた。
本発明の目的は、固定チップ抵抗器あるいは一般の回路
基板等に使用できるのみならず、卑金属導体材料ととも
に積層し、多層基板に内装化することのできる電気抵抗
体であって、その抵抗の温度変(ヒ係数を小さくするこ
とのできる電気抵抗体を提供することにある。
基板等に使用できるのみならず、卑金属導体材料ととも
に積層し、多層基板に内装化することのできる電気抵抗
体であって、その抵抗の温度変(ヒ係数を小さくするこ
とのできる電気抵抗体を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、上記電気抵抗体の特性を向
上させることのできる製造法を提供することにある。
上させることのできる製造法を提供することにある。
問題点を解決するための手段
本発明は、上記問題点を解決するために、アルミニウム
のモリブデン酸塩と、アルカリ土類金属の弗化物を含有
する焼成体を有することを特徴とする電気抵抗体を提供
するものである。
のモリブデン酸塩と、アルカリ土類金属の弗化物を含有
する焼成体を有することを特徴とする電気抵抗体を提供
するものである。
また、本発明は、主成分にアルミニウムのそりブデン酸
塩及びその前駆体の内の少なくとも一種と、アルカリ土
類金属の弗化物を主成分に含有する抵抗体材料を熱処理
し、この熱処理して得られた抵抗体材料を用いて焼成し
、アルミニウムのモリブデン酸塩及びアルカリ土類金属
の弗化物を含有する焼成体からなる電気抵抗体を得るこ
とを特徴とする電気抵抗体の製造方法を提供するもので
ある。
塩及びその前駆体の内の少なくとも一種と、アルカリ土
類金属の弗化物を主成分に含有する抵抗体材料を熱処理
し、この熱処理して得られた抵抗体材料を用いて焼成し
、アルミニウムのモリブデン酸塩及びアルカリ土類金属
の弗化物を含有する焼成体からなる電気抵抗体を得るこ
とを特徴とする電気抵抗体の製造方法を提供するもので
ある。
次に本発明の詳細な説明する。
本発明におけるアルミニウムのモリブデン酸塩には、例
えばA2□Mo、0.2等が例示される。
えばA2□Mo、0.2等が例示される。
このようなアルミニウムのモリブデン酸塩は、アルミニ
ウムの酸化物と酸化モリブデン(MOO:I)の熱処理
によって合成することができるが、その前駆体を用いて
熱処理することにより合成することもできる。
ウムの酸化物と酸化モリブデン(MOO:I)の熱処理
によって合成することができるが、その前駆体を用いて
熱処理することにより合成することもできる。
本発明においてはバインダーを用いることが好ましく、
これにはガラスが挙げられが、このガラスとしては一般
に知られているガラスが用いられ、特定の組成のガラス
に限定されるものではないが、PFI:+04、Bi2
O* % Snug、CdOのような酸化物は、これら
を含む抵抗体材料を非酸化性雰囲気中で焼成するときに
還元されて金属化することがあり、この金属は抵抗値を
変化させるので、このようなことが起こることが好まし
くない場合にはこれらの酸化物を含有しないことが好ま
しい。
これにはガラスが挙げられが、このガラスとしては一般
に知られているガラスが用いられ、特定の組成のガラス
に限定されるものではないが、PFI:+04、Bi2
O* % Snug、CdOのような酸化物は、これら
を含む抵抗体材料を非酸化性雰囲気中で焼成するときに
還元されて金属化することがあり、この金属は抵抗値を
変化させるので、このようなことが起こることが好まし
くない場合にはこれらの酸化物を含有しないことが好ま
しい。
ガラス成分としては、SiO2、B2O3、ZnO、C
aO1SrO、ZrO□などが好ましく、これらの酸化
物の組成比は、 5iOz 12〜33 重量% B20i 20〜35 重量% ZnO又は5r013〜33 重量%Ca0 10〜
25 重量% Zr0z 15〜45 重量% が好ましい。
aO1SrO、ZrO□などが好ましく、これらの酸化
物の組成比は、 5iOz 12〜33 重量% B20i 20〜35 重量% ZnO又は5r013〜33 重量%Ca0 10〜
25 重量% Zr0z 15〜45 重量% が好ましい。
これら酸化物の組成物からガラスを製造するには、前記
組成比になるようにそれぞれの酸化物を秤量し、混合す
る。この混合物を坩堝に入れ、1200〜1500℃の
温度にて溶融した後、溶融液を例えば水中に投入し、急
冷させ、ガラス粗粉を得る。
組成比になるようにそれぞれの酸化物を秤量し、混合す
る。この混合物を坩堝に入れ、1200〜1500℃の
温度にて溶融した後、溶融液を例えば水中に投入し、急
冷させ、ガラス粗粉を得る。
この粗粉を例えばボールミル、振動ミルなどの粉砕手段
を用いて所望の粒度(例えば10μm以下)になるまで
粉砕すると、ガラス粉末が得られる。
を用いて所望の粒度(例えば10μm以下)になるまで
粉砕すると、ガラス粉末が得られる。
前記は純粋の酸化物を混合して用いたが、これに限らず
結果的に各酸化物の混合物からなるガラスになれば良く
、各酸化物の前駆体をその一部又は全部に用い、これを
溶融してガラスにしても良い。例えばCaO(酸化カル
シウム)はCaC0z(炭酸カルシウム> 、820:
l(酸化硼素)はホウ酸(H,BO:l)の熱処理によ
り得られるので、CaO1B203の一部又はその全部
の代わりにそれぞれCaCO3、H2BOIを用いるこ
とができる。その他の成分の酸化物についても同様であ
る。
結果的に各酸化物の混合物からなるガラスになれば良く
、各酸化物の前駆体をその一部又は全部に用い、これを
溶融してガラスにしても良い。例えばCaO(酸化カル
シウム)はCaC0z(炭酸カルシウム> 、820:
l(酸化硼素)はホウ酸(H,BO:l)の熱処理によ
り得られるので、CaO1B203の一部又はその全部
の代わりにそれぞれCaCO3、H2BOIを用いるこ
とができる。その他の成分の酸化物についても同様であ
る。
また、本発明において用いられるアルカリ土類金属の弗
化物は、Meを金属としたときMeF zの一般式で表
され、Meとしてアルカリ土類金属、すなわちFjg、
Cas Srs Baを用い、これらの各金属塩の一
種又は二種以上を混合して用いることが好ましい。
化物は、Meを金属としたときMeF zの一般式で表
され、Meとしてアルカリ土類金属、すなわちFjg、
Cas Srs Baを用い、これらの各金属塩の一
種又は二種以上を混合して用いることが好ましい。
しかし、これらアルカリ土類金属の弗化物に限らず、他
の金属の弗化物も使用できる。
の金属の弗化物も使用できる。
上記のようにして得られるアルミニウムのモリブデン酸
塩、ガラス粉末及びアルカリ土類金属等の弗化物は混合
され、そのまま抵抗体材料として用いても良いが、これ
を熱処理して粉砕したものを抵抗体材料とすることがこ
れを焼成して得た抵抗体の抵抗温度特性の上で好ましい
、この熱処理温度としては、800℃〜1200℃が好
ましく、これより外れると抵抗体材料を電気抵抗体に加
工する各工程の作業条件等による組成比の微妙な変動に
対し、出来上がった抵抗体の抵抗値が影響を受は易く、
所望の抵抗値を安定して得ることが難しい。
塩、ガラス粉末及びアルカリ土類金属等の弗化物は混合
され、そのまま抵抗体材料として用いても良いが、これ
を熱処理して粉砕したものを抵抗体材料とすることがこ
れを焼成して得た抵抗体の抵抗温度特性の上で好ましい
、この熱処理温度としては、800℃〜1200℃が好
ましく、これより外れると抵抗体材料を電気抵抗体に加
工する各工程の作業条件等による組成比の微妙な変動に
対し、出来上がった抵抗体の抵抗値が影響を受は易く、
所望の抵抗値を安定して得ることが難しい。
この熱処理は非酸化性雰囲気が望ましく、窒素ガスその
池不活性ガスのみならず、これらに水素ガスを含有させ
た混合ガスを用いることが好ましい。
池不活性ガスのみならず、これらに水素ガスを含有させ
た混合ガスを用いることが好ましい。
抵抗体材料の各成分の組成比は、アルミニウムのモリブ
デン酸塩55〜95!i量%、ガラス粉末4.5〜44
.5重量%、アルカリ土類金属の弗化物0.5〜30重
量%が好ましい。この範囲よりアルミニウムのモリブデ
ン酸塩が少な過ぎ、ガラスが多過ぎると、焼成して出来
上がった電気抵抗体の抵抗値が高くなり過ぎ好ましくな
い場合があり、また、逆にアルミニウムのモリブデン酸
塩が多過ぎ、ガラスが少な過ぎると焼成時の焼結性が悪
くなり回路基板に安定に保持できないことがある。しか
し、抵抗体を回路基板を積層して埋め込むような場合に
はアルミニウムのモリブデン酸塩及びアルカリ土類金属
の弗化物が上記範囲より多く、100%でも良い。また
、アルカリ土類金属の弗化物は0.5重量%より少な過
ぎても、30重重蚤より多過ぎても出来上がった電気抵
抗体の温度変化係数が±500 ppm7℃より大きく
なり、好ましくない場合がある。しかし、この範囲以外
のものも抵抗の温度変化係数の改善が見られる範囲で使
用できる。
デン酸塩55〜95!i量%、ガラス粉末4.5〜44
.5重量%、アルカリ土類金属の弗化物0.5〜30重
量%が好ましい。この範囲よりアルミニウムのモリブデ
ン酸塩が少な過ぎ、ガラスが多過ぎると、焼成して出来
上がった電気抵抗体の抵抗値が高くなり過ぎ好ましくな
い場合があり、また、逆にアルミニウムのモリブデン酸
塩が多過ぎ、ガラスが少な過ぎると焼成時の焼結性が悪
くなり回路基板に安定に保持できないことがある。しか
し、抵抗体を回路基板を積層して埋め込むような場合に
はアルミニウムのモリブデン酸塩及びアルカリ土類金属
の弗化物が上記範囲より多く、100%でも良い。また
、アルカリ土類金属の弗化物は0.5重量%より少な過
ぎても、30重重蚤より多過ぎても出来上がった電気抵
抗体の温度変化係数が±500 ppm7℃より大きく
なり、好ましくない場合がある。しかし、この範囲以外
のものも抵抗の温度変化係数の改善が見られる範囲で使
用できる。
このようにして得られた抵抗体材料粉末から固定チップ
抵抗器あるいは厚膜抵抗体のための抵抗体を作成するに
は、例えばセラミックグリーンシートにこれらの抵抗体
材料粉末を塗布し、焼成するが、この塗布を行うために
例えばシルクスクリーン印刷ができるようにこれら抵抗
体材料粉末にビヒクルが混合され塗液が調整される。こ
のビヒクルは、焼成の前段階で焼失できるようなものが
好ましく、このためには有機物ビヒクル、すなわち有機
溶剤に樹脂を溶解又は分散させ、必要に応じて可塑剤、
分散剤等の各種添加剤を加えたものが好ましい。この有
機溶剤にはプチルカービトールアセテート、プチルカー
ビトール、テレピン油などが挙げられ、樹脂としてはエ
チルセルローズ、ニトロセルローズ等のセルローズ誘導
体、その他の樹脂が挙げられる。
抵抗器あるいは厚膜抵抗体のための抵抗体を作成するに
は、例えばセラミックグリーンシートにこれらの抵抗体
材料粉末を塗布し、焼成するが、この塗布を行うために
例えばシルクスクリーン印刷ができるようにこれら抵抗
体材料粉末にビヒクルが混合され塗液が調整される。こ
のビヒクルは、焼成の前段階で焼失できるようなものが
好ましく、このためには有機物ビヒクル、すなわち有機
溶剤に樹脂を溶解又は分散させ、必要に応じて可塑剤、
分散剤等の各種添加剤を加えたものが好ましい。この有
機溶剤にはプチルカービトールアセテート、プチルカー
ビトール、テレピン油などが挙げられ、樹脂としてはエ
チルセルローズ、ニトロセルローズ等のセルローズ誘導
体、その他の樹脂が挙げられる。
この有機物ビヒクルと抵抗体材料粉末との使用割合は使
用する有機溶剤、樹脂等により変わるが、有機溶剤と樹
脂との使用割合は前者が20〜501重量%、後者が8
0〜50重量%が適当である。これらの成分は例えば三
本ロールミル、らいかい器などの混合手段を用いてペー
スト状にされる。
用する有機溶剤、樹脂等により変わるが、有機溶剤と樹
脂との使用割合は前者が20〜501重量%、後者が8
0〜50重量%が適当である。これらの成分は例えば三
本ロールミル、らいかい器などの混合手段を用いてペー
スト状にされる。
このようにして得られた抵抗体材料ペーストが基板に塗
布され、これがさらに後述の処理を施されて抵抗体が作
成されるが、この基板にはセラミックグリーンシートを
導体材料や抵抗体材料とともに焼成して作成するものの
みならず、予めセラミンクグリーンシートを焼成し、こ
れにさらに抵抗体材料、導体材料を塗布した後焼成する
方法でも良い。これらは積層体を形成する場合にも適用
できる。
布され、これがさらに後述の処理を施されて抵抗体が作
成されるが、この基板にはセラミックグリーンシートを
導体材料や抵抗体材料とともに焼成して作成するものの
みならず、予めセラミンクグリーンシートを焼成し、こ
れにさらに抵抗体材料、導体材料を塗布した後焼成する
方法でも良い。これらは積層体を形成する場合にも適用
できる。
前記セラミックグリーンシートとしては、例えば酸化ア
ルミニウム(A Il zOz)35〜45重世%、酸
化珪素(Sing)25〜35重量%、酸化硼素(Bz
O,J) 10〜15重量%、酸化カルシウム(Cab
) 7〜13重量%、酸化マグネシウム(MgO)7〜
10重量%等のセラミック構成成分の酸化物混合物を有
機物ビヒクルとボールミル等で混合したスラリーをドク
ターブレード等によりシート化したものが挙げられる。
ルミニウム(A Il zOz)35〜45重世%、酸
化珪素(Sing)25〜35重量%、酸化硼素(Bz
O,J) 10〜15重量%、酸化カルシウム(Cab
) 7〜13重量%、酸化マグネシウム(MgO)7〜
10重量%等のセラミック構成成分の酸化物混合物を有
機物ビヒクルとボールミル等で混合したスラリーをドク
ターブレード等によりシート化したものが挙げられる。
この際、アルミニウムのモリブデン酸塩にガラスを併用
しないときは、前記セラミックグリーンシートにガラス
分を多く含ませガラスを併用したと同様の効果を出すよ
うにしても良い、前記有機物ビヒクルには、アクリル酸
エステル等のアクリル樹脂、ポリビニルブチラール等の
樹脂、グリセリン、フタル酸ジエチル等の可塑剤、カル
ボン酸塩等の分散剤、水、有機溶剤等の溶剤から構成さ
れる装上記抵抗体材料ペースト・はセラミックグリーン
シートに例えばシルクスクリーン印刷等の手段により塗
布され、乾燥後、400〜500℃で熱処理されて樹脂
成分が分解・燃焼されるのが好ましい。
しないときは、前記セラミックグリーンシートにガラス
分を多く含ませガラスを併用したと同様の効果を出すよ
うにしても良い、前記有機物ビヒクルには、アクリル酸
エステル等のアクリル樹脂、ポリビニルブチラール等の
樹脂、グリセリン、フタル酸ジエチル等の可塑剤、カル
ボン酸塩等の分散剤、水、有機溶剤等の溶剤から構成さ
れる装上記抵抗体材料ペースト・はセラミックグリーン
シートに例えばシルクスクリーン印刷等の手段により塗
布され、乾燥後、400〜500℃で熱処理されて樹脂
成分が分解・燃焼されるのが好ましい。
この際、同時にNiあるいはCu等の卑金属導体材料あ
るいはAg又はAg−Pdの貴金属導体材料のペースト
も抵抗体材料ペースト塗膜と同様にセラミックグリーン
シートに塗布され、抵抗体材料ペーストの塗布物と同様
に処理される。
るいはAg又はAg−Pdの貴金属導体材料のペースト
も抵抗体材料ペースト塗膜と同様にセラミックグリーン
シートに塗布され、抵抗体材料ペーストの塗布物と同様
に処理される。
このNiあるいはCu等の卑金属導体材料あるいはAg
又はAg−Pdの貴金属導体は料のペースト組成物とし
ては、各々の金属粉末98〜85重蛍%にガラスフリッ
トを2〜15重量%添加したものが例示される。
又はAg−Pdの貴金属導体は料のペースト組成物とし
ては、各々の金属粉末98〜85重蛍%にガラスフリッ
トを2〜15重量%添加したものが例示される。
このようにしてセラミックグリーンシートに抵抗体材料
及び/又は導体材料が組み込まれるが、固定チ”ツブ抵
抗器の場合にはこの未焼成基板の表面のみ、多層基板の
厚膜抵抗体の場合には前記抵抗体材料、導体材料を未焼
成状態で組み込んだものをさらに積層して所定の回路を
構成するようにしてから焼成する。この焼成により導体
材料及び/又は厚膜抵抗体材料を基板と同時に焼成体に
することができる。
及び/又は導体材料が組み込まれるが、固定チ”ツブ抵
抗器の場合にはこの未焼成基板の表面のみ、多層基板の
厚膜抵抗体の場合には前記抵抗体材料、導体材料を未焼
成状態で組み込んだものをさらに積層して所定の回路を
構成するようにしてから焼成する。この焼成により導体
材料及び/又は厚膜抵抗体材料を基板と同時に焼成体に
することができる。
この場合、NiあるいはCu等の卑金属導体材料が導体
材料に用いられるときは、その酸化による高抵抗値化を
防止するために、非酸化性雰囲気中で焼成することが好
ましく、その焼成温度は、例えば800℃〜1ioo℃
、0.5時間〜2時間が例示される。非酸化性雰囲気と
しては、窒素ガスその他事活性ガス、これらに水素ガス
を含有させた混合ガスも用いられる。また、Ag又はA
g−Pdの貴金属導体材料を用いるときは空気等の酸化
性雰囲気中で焼成することもできる。
材料に用いられるときは、その酸化による高抵抗値化を
防止するために、非酸化性雰囲気中で焼成することが好
ましく、その焼成温度は、例えば800℃〜1ioo℃
、0.5時間〜2時間が例示される。非酸化性雰囲気と
しては、窒素ガスその他事活性ガス、これらに水素ガス
を含有させた混合ガスも用いられる。また、Ag又はA
g−Pdの貴金属導体材料を用いるときは空気等の酸化
性雰囲気中で焼成することもできる。
前記のようにして導体及び/又は抵抗体を組み込んだ回
路配線基板が出来上がるが、焼成基板と導体の間は勿論
のこと、焼成基板と抵抗体との間にも焼成に伴ってクラ
ンクや歪、ふくれを生じることがないとともに、抵抗体
は高湿度雰囲気中に1000時間以上放置されてもその
抵抗値が±2%以内の変化に抑制され、その高い信顧性
を確保することができるとともに、抵抗値の温度変化係
数も例えば±500pρm/ ”C以下にすることがで
きる。これは抵抗体が導体及び焼成基板と良くマツチン
グするためと、アルミニウムのモリブデン酸塩及びアカ
リ土頚金属の弗化物とガラスの焼成体からなる抵抗体の
独特の耐湿性に基づくものと考えられるが詳細は明らか
でない。なお、X線回折分析により前記抵抗体中にアル
ミニウムのモリブデン酸塩とアルカリ土類金属の弗化物
を認めることができる。
路配線基板が出来上がるが、焼成基板と導体の間は勿論
のこと、焼成基板と抵抗体との間にも焼成に伴ってクラ
ンクや歪、ふくれを生じることがないとともに、抵抗体
は高湿度雰囲気中に1000時間以上放置されてもその
抵抗値が±2%以内の変化に抑制され、その高い信顧性
を確保することができるとともに、抵抗値の温度変化係
数も例えば±500pρm/ ”C以下にすることがで
きる。これは抵抗体が導体及び焼成基板と良くマツチン
グするためと、アルミニウムのモリブデン酸塩及びアカ
リ土頚金属の弗化物とガラスの焼成体からなる抵抗体の
独特の耐湿性に基づくものと考えられるが詳細は明らか
でない。なお、X線回折分析により前記抵抗体中にアル
ミニウムのモリブデン酸塩とアルカリ土類金属の弗化物
を認めることができる。
本発明においては、上記の如くアルミニウムのモリブデ
ン酸塩を用いても良いが、このアルミニウムのモリブデ
ン酸塩の代わりに熱処理によりアルミニウムのモリブデ
ン酸塩となる前駆体を一部又は全部用いることもできる
。これらのいずれの場合もガラスと混合して熱処理した
ものを粉砕し、′抵抗体材料とすることが好ましいが、
この熱処理を行わず上述の有機物ビヒクル等と混合して
作成したペーストを例えばグリーンセラミックシートに
塗布してから、有機物除去の加熱処理を経て焼成し、直
接抵抗体を作成することもできる。
ン酸塩を用いても良いが、このアルミニウムのモリブデ
ン酸塩の代わりに熱処理によりアルミニウムのモリブデ
ン酸塩となる前駆体を一部又は全部用いることもできる
。これらのいずれの場合もガラスと混合して熱処理した
ものを粉砕し、′抵抗体材料とすることが好ましいが、
この熱処理を行わず上述の有機物ビヒクル等と混合して
作成したペーストを例えばグリーンセラミックシートに
塗布してから、有機物除去の加熱処理を経て焼成し、直
接抵抗体を作成することもできる。
また、ガラスはこれを構成する酸化物の混合材料がアル
ミニウムのモリブデン酸塩及びアルカリ土類金属の弗化
物とともに結果的に焼成される状態におかれれば良(、
これらの酸化物の前駆体をアルミニウムのモリブデン酸
塩及び/又はその前駆体、アルカリ土類金属の弗化物と
ともにこの酸化物の一部又は全部を上述したようにペー
スト状態にし、これを基板に塗布して有機物の燃焼、そ
の後の焼成のいずれの過程で上記のガラス成分からなる
ガラスになり、これとアルミニウムのモリブデン酸塩及
び/又はその前駆体と、アルカリ土類金属の弗化物と焼
成されことにより抵抗体を作製できるものであれば良い
0例えば、ガラスの材料の成分であるCaO(酸化カル
シウム)はCaC0゜(炭酸カルシウム)の加熱、Bz
Oi(酸化硼素)はホウ酸(HJOi)の加熱から得ら
れるので、CaO%B20.の一部又は全部の代わりに
それぞれCaCOx、1hB(hを用いることができる
9本発明における抵抗体材料とはその処理の過程で結果
的にアルミニラムのモリブデン酸塩とガラスとアルカリ
土類金属の弗化物を主成分にするものであれば良い。
ミニウムのモリブデン酸塩及びアルカリ土類金属の弗化
物とともに結果的に焼成される状態におかれれば良(、
これらの酸化物の前駆体をアルミニウムのモリブデン酸
塩及び/又はその前駆体、アルカリ土類金属の弗化物と
ともにこの酸化物の一部又は全部を上述したようにペー
スト状態にし、これを基板に塗布して有機物の燃焼、そ
の後の焼成のいずれの過程で上記のガラス成分からなる
ガラスになり、これとアルミニウムのモリブデン酸塩及
び/又はその前駆体と、アルカリ土類金属の弗化物と焼
成されことにより抵抗体を作製できるものであれば良い
0例えば、ガラスの材料の成分であるCaO(酸化カル
シウム)はCaC0゜(炭酸カルシウム)の加熱、Bz
Oi(酸化硼素)はホウ酸(HJOi)の加熱から得ら
れるので、CaO%B20.の一部又は全部の代わりに
それぞれCaCOx、1hB(hを用いることができる
9本発明における抵抗体材料とはその処理の過程で結果
的にアルミニラムのモリブデン酸塩とガラスとアルカリ
土類金属の弗化物を主成分にするものであれば良い。
実施例
次に本発明の詳細な説明する。
実施例1
酸化物に換算して表1に示される組成になるように各成
分を秤量し、混合した。
分を秤量し、混合した。
表1
表中、単位は重量%。
ガラスA1ガラスBのそれぞれの混合物を各別にアルミ
ナ坩堝中で1400℃で溶融し、その溶融液を水中に投
入し、急冷させた。この急冷物を取り出してエタノール
とともにボットミルの中に入れ、アルミナボールで24
時間粉砕し、粒径10μl以下のガラス粉末を得た。
ナ坩堝中で1400℃で溶融し、その溶融液を水中に投
入し、急冷させた。この急冷物を取り出してエタノール
とともにボットミルの中に入れ、アルミナボールで24
時間粉砕し、粒径10μl以下のガラス粉末を得た。
また、酸化モリブデンとアルミニウムの酸化物からアル
ミニウムのモリブデン酸塩を得た。
ミニウムのモリブデン酸塩を得た。
次に、前記で得たガラスA1ガラスBのそれぞれのガラ
ス粉末と前記で得たアルミニウムのモリブデン酸塩及び
アルカリ土類金属の弗化物を表2に示す割合になるよう
に秤量し、混合した。
ス粉末と前記で得たアルミニウムのモリブデン酸塩及び
アルカリ土類金属の弗化物を表2に示す割合になるよう
に秤量し、混合した。
(この頁以下余白)
i12(アルミニウムのモリブデン酸塩と弗化物を併用
する場合)(この頁以下余白) 前記各試料を窒素(Nz) 98.5 vo1%、水素
(H2)1.5νo1%のガス雰囲気中、1000℃、
1時間熱処理し、しかる後にエタノールとともにポット
ミルにて粉砕し、乾燥して10μm以下のガラスとモリ
ブデン酸塩と弗化物の熱処理粉末の抵抗体材料粉末を得
た。
する場合)(この頁以下余白) 前記各試料を窒素(Nz) 98.5 vo1%、水素
(H2)1.5νo1%のガス雰囲気中、1000℃、
1時間熱処理し、しかる後にエタノールとともにポット
ミルにて粉砕し、乾燥して10μm以下のガラスとモリ
ブデン酸塩と弗化物の熱処理粉末の抵抗体材料粉末を得
た。
次に各試料の抵抗体材料粉末100重量部に有機物ビヒ
クノ喧ブチルカービトール90重量部、エチルセルロー
ズ10重量部)25重量部を加え、ロールミルで混合し
、抵抗体材料ペーストを得た。
クノ喧ブチルカービトール90重量部、エチルセルロー
ズ10重量部)25重量部を加え、ロールミルで混合し
、抵抗体材料ペーストを得た。
一方、A p 20340.0重量%、SiO,35,
0重量%、820313.0重量%、CaO7,0重1
%、MgO5,0重量%からなるセラミック原料粉末1
00重量部にポリビニルブチラール8重量部、フタル酸
ジエチル8重量部、オレイン酸0.5重量部、アセトン
10重量部、イソプロピルアルコール20重量部及びメ
チルエチルケトン20重量部を加えてボールミルにより
混合してスラリーを作製し、脱泡処理した後にドクター
ブレード法により厚さ200 μmの長尺のセラミック
グリーンシートを作製した。このセラミックグリーンシ
ートから縦9龍横9鶴のグリーンシート片と、縦6關横
9flのグリーンシート片とを切り抜いた。
0重量%、820313.0重量%、CaO7,0重1
%、MgO5,0重量%からなるセラミック原料粉末1
00重量部にポリビニルブチラール8重量部、フタル酸
ジエチル8重量部、オレイン酸0.5重量部、アセトン
10重量部、イソプロピルアルコール20重量部及びメ
チルエチルケトン20重量部を加えてボールミルにより
混合してスラリーを作製し、脱泡処理した後にドクター
ブレード法により厚さ200 μmの長尺のセラミック
グリーンシートを作製した。このセラミックグリーンシ
ートから縦9龍横9鶴のグリーンシート片と、縦6關横
9flのグリーンシート片とを切り抜いた。
次に第1図に示す如く、前記の縦9鶴横9鰭のグリーン
シート片1上に銅粉末95重量部、ガラスフリット5重
量部に、有機物ビヒクルとしてブチルカルピトール20
重量部、エチルセルロース5重量部を加え、これらを三
本ロールミルにより混合した4体材料ペーストをシルク
スクリーン印刷し、125°C510分間乾燥させて厚
膜導体材料塗膜2を形成した。次いで、前記で得た抵抗
体材料ペーストを前記グリーンシート片1に前記と同様
にシルクスクリーン印刷し、125℃、10分間乾燥さ
せて抵抗体材料塗膜3を形成した。
シート片1上に銅粉末95重量部、ガラスフリット5重
量部に、有機物ビヒクルとしてブチルカルピトール20
重量部、エチルセルロース5重量部を加え、これらを三
本ロールミルにより混合した4体材料ペーストをシルク
スクリーン印刷し、125°C510分間乾燥させて厚
膜導体材料塗膜2を形成した。次いで、前記で得た抵抗
体材料ペーストを前記グリーンシート片1に前記と同様
にシルクスクリーン印刷し、125℃、10分間乾燥さ
せて抵抗体材料塗膜3を形成した。
次にグリーンシート片1上に前記で得た縦6fl横9鶴
のグリーンシート片4を図示鎖線で示すように重ね、1
00℃、150Kg/adで熱圧着する。次いで、これ
を大気等の酸化性雰囲気中、400〜500℃で加熱し
てグリーンシート片1.4、導体材料塗膜2、抵抗体材
料塗膜3のそれぞれの残留有機物を分解・燃焼させる。
のグリーンシート片4を図示鎖線で示すように重ね、1
00℃、150Kg/adで熱圧着する。次いで、これ
を大気等の酸化性雰囲気中、400〜500℃で加熱し
てグリーンシート片1.4、導体材料塗膜2、抵抗体材
料塗膜3のそれぞれの残留有機物を分解・燃焼させる。
このようにして有機物を除去した後、Nz 9B、5v
o1%、Ilz 1.5 vo1%の混合ガス中で、9
50℃、1時間焼成し、第2図に示すようにグリーンシ
ート片1の焼成体の磁器Fla、グリーンシート片4の
焼成体の磁器N4aの間に導体材料塗膜2の焼成体の厚
膜導体1a、抵抗体材料塗膜3の焼成体の厚膜抵抗体3
aを有する多層セラミック基板を完成させた。この多層
基板には、後述する第3図、第4図に示されるような反
り、ふくれは見られなかった。
o1%、Ilz 1.5 vo1%の混合ガス中で、9
50℃、1時間焼成し、第2図に示すようにグリーンシ
ート片1の焼成体の磁器Fla、グリーンシート片4の
焼成体の磁器N4aの間に導体材料塗膜2の焼成体の厚
膜導体1a、抵抗体材料塗膜3の焼成体の厚膜抵抗体3
aを有する多層セラミック基板を完成させた。この多層
基板には、後述する第3図、第4図に示されるような反
り、ふくれは見られなかった。
このようにして得られた焼成体(試料No1)の多層セ
ラミック基板を層方向に研磨して抵抗体層を露出させ、
この露出した抵抗体層をX線回折(CuKα線)により
分析し、得られた結果を第5図に示す。これにより供試
体中のモリブデン酸塩の種類及び弗化物の種類を図示の
如く確認することができた。
ラミック基板を層方向に研磨して抵抗体層を露出させ、
この露出した抵抗体層をX線回折(CuKα線)により
分析し、得られた結果を第5図に示す。これにより供試
体中のモリブデン酸塩の種類及び弗化物の種類を図示の
如く確認することができた。
次にこの多層セラミック基板3aの25℃における抵抗
値(Rzs)と、125℃に加熱したときの抵抗値(R
ats)をデジタルマルチメータで測定し、抵抗の温度
係数(TCR)を次式により求めた。
値(Rzs)と、125℃に加熱したときの抵抗値(R
ats)をデジタルマルチメータで測定し、抵抗の温度
係数(TCR)を次式により求めた。
2に示した。
また、上記で得られた多層セラミック基板を60℃、9
5%相対湿度のもとに1000時間放置した後の25℃
の抵抗値を測定し、その変化率を求めた結果を表2に示
す。
5%相対湿度のもとに1000時間放置した後の25℃
の抵抗値を測定し、その変化率を求めた結果を表2に示
す。
なお、各試料光の試料からアルカリ土類金属の弗化物を
除いた試料のそれぞれから実施例1と同様にして作られ
た電気抵抗体のそれぞれについて上記と同様に測定し、
求めた結果を表2の試料光に対応させてそれぞれ表3に
示す。
除いた試料のそれぞれから実施例1と同様にして作られ
た電気抵抗体のそれぞれについて上記と同様に測定し、
求めた結果を表2の試料光に対応させてそれぞれ表3に
示す。
実施例2
実施例1において、モリブデン酸塩、アルカリ土類金属
の弗化物及びガラス粉末の混合物について窒素(Nz)
98.5vo1%、水素(Hz) 1.5vo1%の
ガス雰囲気中、1000℃、1時間の熱処理を行わなか
った以外は同様にして表3に示す抵抗体材料から多層セ
ラミック基板を作成し、実施例1と同様にR2S 、T
CP 、抵抗値変化率を求め表4に示す。
の弗化物及びガラス粉末の混合物について窒素(Nz)
98.5vo1%、水素(Hz) 1.5vo1%の
ガス雰囲気中、1000℃、1時間の熱処理を行わなか
った以外は同様にして表3に示す抵抗体材料から多層セ
ラミック基板を作成し、実施例1と同様にR2S 、T
CP 、抵抗値変化率を求め表4に示す。
なお、図示省略したが、この実施例の焼成体についても
X線回折分析によりモリブデン酸塩の種類、弗化物の種
類を確認できる。
X線回折分析によりモリブデン酸塩の種類、弗化物の種
類を確認できる。
(この頁以下余白)
表 3(アルミニウムのモリブデン酸塩と服ヒ物を併用
、しない場合)比較例1 (MoSiz−TaSizガ
ラス系抵抗体材料)MoSiz 16重量部、Ta5i
z 9重量部の混合物を空中1400℃で加熱し、その
生成物をエタノールとともにポットミル中アルミナボー
ルで24時間粉砕し、乾燥させて10μm以下の微粉末
を得た。このようにして得た微粉末25重量部に対し、
BaO、、B2O2、MgO、CaO、SiO□からな
るガラスフリフト75重量部と、有機物ビヒクル(ブチ
ルカルピトール20重量部、エチルセルロース5重量部
)25重量部とを加え、ロールミルで混合して抵抗体材
料ペーストを得た。
、しない場合)比較例1 (MoSiz−TaSizガ
ラス系抵抗体材料)MoSiz 16重量部、Ta5i
z 9重量部の混合物を空中1400℃で加熱し、その
生成物をエタノールとともにポットミル中アルミナボー
ルで24時間粉砕し、乾燥させて10μm以下の微粉末
を得た。このようにして得た微粉末25重量部に対し、
BaO、、B2O2、MgO、CaO、SiO□からな
るガラスフリフト75重量部と、有機物ビヒクル(ブチ
ルカルピトール20重量部、エチルセルロース5重量部
)25重量部とを加え、ロールミルで混合して抵抗体材
料ペーストを得た。
この抵抗体材料ペーストを用いた以外は実施例1と同様
にして多層セラミック基板を得た。
にして多層セラミック基板を得た。
その結果、セラミックグリーンシートに抵抗体材料塗膜
を形成し、これを加熱処理して有機物を除去した後に同
時焼成して得たものは、両者の焼成体に膨張率、収縮率
が異なることにより第3図に示すように反りが見られ、
また、Mo5iz 、TaSiの分解反応でSiO□気
体が発生することにより第4図に示すようにふ(れが生
じ、実用に供することができなかった。なお、llaは
上記磁器IJ1a、14aは上記磁器N4a、13aは
上記厚膜抵抗体3aにそれぞれ対応する磁器層、厚膜抵
抗体である。
を形成し、これを加熱処理して有機物を除去した後に同
時焼成して得たものは、両者の焼成体に膨張率、収縮率
が異なることにより第3図に示すように反りが見られ、
また、Mo5iz 、TaSiの分解反応でSiO□気
体が発生することにより第4図に示すようにふ(れが生
じ、実用に供することができなかった。なお、llaは
上記磁器IJ1a、14aは上記磁器N4a、13aは
上記厚膜抵抗体3aにそれぞれ対応する磁器層、厚膜抵
抗体である。
比較例2(MoSiz−BaFzガラス系抵抗系材抗体
材料Siz 70重量部、BaFz 20重量部と、S
ing、Zn5ZrO,、Ca0g、A l z(hか
らなるガラスフリット1゜at部とをボールミルで混合
し、得られた粉末をアルゴン(Ar)ガス雰囲気中12
00℃で熱処理した後、これをエタノールとともにボッ
トミル中アルミナボールで24時間粉砕し、乾燥させて
10μm以下の微粉末を得た。
材料Siz 70重量部、BaFz 20重量部と、S
ing、Zn5ZrO,、Ca0g、A l z(hか
らなるガラスフリット1゜at部とをボールミルで混合
し、得られた粉末をアルゴン(Ar)ガス雰囲気中12
00℃で熱処理した後、これをエタノールとともにボッ
トミル中アルミナボールで24時間粉砕し、乾燥させて
10μm以下の微粉末を得た。
この抵抗体材料ペーストを用いた以外は実施例1と同様
にして多層セラミック基板を得た。
にして多層セラミック基板を得た。
この多層セラミック基板の厚膜抵抗体についても実施例
1と同様にして求めたRzs 、TCP及び抵抗値の変
化率を表5に示す。
1と同様にして求めたRzs 、TCP及び抵抗値の変
化率を表5に示す。
上記結果より、実施例の多層セラミック基板はいずれも
反り、ふくれがなく、抵抗値の変化率も土2%以内であ
り、さらにTCPも特に抵抗体材料を熱処理したものは
±500ppm/ ”cであるのに対し、比較例1の多
層セラミック基板は反りが見られ、比較例2の多層セラ
ミック基板は抵抗体の抵抗値の変化率が4倍も大きいこ
とがわかる。
反り、ふくれがなく、抵抗値の変化率も土2%以内であ
り、さらにTCPも特に抵抗体材料を熱処理したものは
±500ppm/ ”cであるのに対し、比較例1の多
層セラミック基板は反りが見られ、比較例2の多層セラ
ミック基板は抵抗体の抵抗値の変化率が4倍も大きいこ
とがわかる。
発明の効果
本発明によれば、アルミニウムのモリブデン酸塩及びア
ルカリ土類金属の弗化物を含有する電気抵抗体を供給で
きるので、これらのアルミニウムのモリブデン酸塩及び
アルカリ土類金属の弗化物を主成分に有する組成の抵抗
体材料を用いて、例えば卑金属導体材料とともに非酸化
性雰囲気中でセラミックグリーンシートと同時に焼成す
ることにより抵抗体を形成するようにすると、焼成によ
り焼成体に反りやふくれが生じるようなことはなく、ま
た、抵抗体の温度変化を小さくできるのみならず、抵抗
体の抵抗値の温度変化係数を例えば±500 ppm/
’C以下にすることができる。
ルカリ土類金属の弗化物を含有する電気抵抗体を供給で
きるので、これらのアルミニウムのモリブデン酸塩及び
アルカリ土類金属の弗化物を主成分に有する組成の抵抗
体材料を用いて、例えば卑金属導体材料とともに非酸化
性雰囲気中でセラミックグリーンシートと同時に焼成す
ることにより抵抗体を形成するようにすると、焼成によ
り焼成体に反りやふくれが生じるようなことはなく、ま
た、抵抗体の温度変化を小さくできるのみならず、抵抗
体の抵抗値の温度変化係数を例えば±500 ppm/
’C以下にすることができる。
これにより、抵抗体を組み込んだ回路基板の小型化、コ
ストの低減の両方の要求を満たすことができるとともに
、精密な動作を必要とする電子機器に優れた電子部品を
提供することができる。
ストの低減の両方の要求を満たすことができるとともに
、精密な動作を必要とする電子機器に優れた電子部品を
提供することができる。
また、アルミニウムのモリブデン酸塩及びアルカリ土類
金属の弗化物を熱処理すると、これを行わないものに比
べ、抵抗体の温度変化係数の絶対値を小さくでき、特性
の優れた抵抗体を提供することができる。
金属の弗化物を熱処理すると、これを行わないものに比
べ、抵抗体の温度変化係数の絶対値を小さくでき、特性
の優れた抵抗体を提供することができる。
第1図は本発明の電気抵抗体を製造するときの焼成前の
抵抗体材料塗膜と導体材料塗膜を基板に形成し、多層構
造にしようとする状態の一例を示す図、第2図はその焼
成体の断面図、第3図は従来の抵抗体材料を使用し”ご
多層構造にしたときの焼成体の断面図、第4図はその焼
成体にガスが発生したときの説明図、第5図は本発明の
一実施例の電気抵抗体のX線回折図である。 図中、1.4はグリーンシート片、2は導体材料塗膜、
3は抵抗体材料塗膜、1a、4aは磁器層、2aは厚膜
導体、3aは厚膜抵抗体である。 昭和62年02月280 第1図 第3図 第4図 第5図 X線回折図 2θ(deg )
抵抗体材料塗膜と導体材料塗膜を基板に形成し、多層構
造にしようとする状態の一例を示す図、第2図はその焼
成体の断面図、第3図は従来の抵抗体材料を使用し”ご
多層構造にしたときの焼成体の断面図、第4図はその焼
成体にガスが発生したときの説明図、第5図は本発明の
一実施例の電気抵抗体のX線回折図である。 図中、1.4はグリーンシート片、2は導体材料塗膜、
3は抵抗体材料塗膜、1a、4aは磁器層、2aは厚膜
導体、3aは厚膜抵抗体である。 昭和62年02月280 第1図 第3図 第4図 第5図 X線回折図 2θ(deg )
Claims (5)
- (1)アルミニウムのモリブデン酸塩と、アルカリ土類
金属の弗化物を含有する焼成体を有することを特徴とす
る電気抵抗体。 - (2)焼成体はアルミニウムのモリブデン酸塩及びその
前駆体の内の少なくとも一種と、アルカリ土類金属の弗
化物を主成分に含有する抵抗体材料から焼成されること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の電気抵抗体。 - (3)抵抗体材料の主成分はアルミニウムのモリブデン
酸塩及びその前駆体の内の少なくとも一種を当該アルミ
ニウムのモリブデン酸塩に換算して55〜95重量%と
、アルカリ土類金属の弗化物0.5〜30重量%と、ガ
ラス4.5〜44.5重量%とからなることを特徴とす
る特許請求の範囲第2項記載の電気抵抗体。 - (4)主成分にアルミニウムのモリブデン酸塩及びその
前駆体の内の少なくとも一種と、アルカリ土類金属の弗
化物を主成分に含有する抵抗体材料を熱処理し、この熱
処理して得られた抵抗体材料を用いて焼成し、アルミニ
ウムのモリブデン酸塩及びアルカリ土類金属の弗化物を
含有する焼成体からなる電気抵抗体を得ることを特徴と
する電気抵抗体の製造方法。 - (5)熱処理前の抵抗体材料の主成分はアルミニウムの
モリブデン酸塩及びその前駆体の内の少なくとも一種を
当該アルミニウムのモリブデン酸塩に換算して55〜9
5重量%と、アルカリ土類金属の弗化物0.5〜30重
量%と、ガラス4.5〜44.5重量%とからなること
を特徴とする特許請求の範囲第4項記載の電気抵抗体の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62045610A JPS63215548A (ja) | 1987-02-28 | 1987-02-28 | 電気抵抗体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62045610A JPS63215548A (ja) | 1987-02-28 | 1987-02-28 | 電気抵抗体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63215548A true JPS63215548A (ja) | 1988-09-08 |
JPH0469581B2 JPH0469581B2 (ja) | 1992-11-06 |
Family
ID=12724137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62045610A Granted JPS63215548A (ja) | 1987-02-28 | 1987-02-28 | 電気抵抗体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63215548A (ja) |
-
1987
- 1987-02-28 JP JP62045610A patent/JPS63215548A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0469581B2 (ja) | 1992-11-06 |
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