JPS63201025A - 高純度透明ガラスの製造方法及び製造装置 - Google Patents

高純度透明ガラスの製造方法及び製造装置

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JPS63201025A JP3245987A JP3245987A JPS63201025A JP S63201025 A JPS63201025 A JP S63201025A JP 3245987 A JP3245987 A JP 3245987A JP 3245987 A JP3245987 A JP 3245987A JP S63201025 A JPS63201025 A JP S63201025A
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    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01446Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はガラス微粒子が集合してなる多孔質体を加熱し
て、緻密かつ高純度な透明ガラスを得る方法に関する。
本発明の方法で得られるガラスは高純度であるので光7
アイパ用のガラスとしての使用に適する。
〔従来の技術〕
ガラス微粒子が集合してなる多孔質体(以下多孔質体と
略す)を加熱して、緻密な高純度透明ガラスを得る方法
に関する文献として、例えば研究実用化報告第29巻第
10号(1980)pp、 1719〜1729に記載
されるものがあり、雰囲気ガスとしでHe  を使うと
、残留気泡が収縮消滅しやすく、透明ガラス化に有利で
あることが述べられているatた、上記文献では残留気
泡が収縮・消滅するか否かの限界値(臨界半径)が計算
されている。該臨界半径はHeを用いた場合では〜11
0−1cIであるのに対して他の不活性ガス(IJ!、
 Ar )では〜10″″’ctnであり、約1000
倍もの違いがある。このような知見からも、従来の技術
では、透明ガラスを得るためには多孔質体の加熱を五〇
雰囲気中で行うことが必須であった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の技術では、多孔質体から気泡を含まぬ透明ガラス
を得るためには、多孔質体をHe 雰囲気中で焼結する
ことが必須であったが、Heを使うことには、次の■〜
■のような問題点があった。
■ He は高価なガスであるため、加熱処理を低コス
トに行うことが困難である。
■ He ガスを多量にかつ安定に入手す名ことも困難
である。
■ 多孔質体が大きいものになるに従って、他のガスと
比較して臨界半径の大きいHe  を用いても、やはシ
気泡が残留するようになってしまう。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものでろって、H
e ガスを用いずに多孔質体から緻密で気泡残留がなく
高品質で光フアイバ用ガラスとして好適な透明ガラスを
得る新規で経済的な方法を提案するものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明はガラス微粒子が集合してなる多孔質体を加熱す
ることにより透明ガラスを得る方法に於て、上記多孔質
体を圧力容器内に設けた炉心管の中に保持し、該圧力容
器内全体を真空に保ちながら加熱することを加熱処理す
る高純度透明ガラスの製造方法である。本発明の特に好
ましい実施態様としては、炉心管として高純度石英又は
高純度カーボン製炉心管を用いて、多孔質体の加熱処理
に先だって上記圧力容器内にCt、を含むガスを導入し
つつ加熱(これを空焼きという)しておき、続く該多孔
質体の加熱処理の間は炉心管内部の雰囲気を高純度不活
性ガスで置換する方法が挙げられる。
以下図面を参照して本発明を具体的に説明する。第1図
は本発明を実施するため装置の一例を示すものであって
、この装置は圧力容器1、炉心管2、ヒータ3、断熱材
4、ガス導入口5、ガス排出口6、真空ポンプ7で構成
されている。
多孔質体8を炉心管2中に保持して、該圧力容器1全体
を真空ポンプ7にょ9排気して真空に保ちなからt6o
oc以下に加熱する。、またガス導入口5、排出口6、
真空ポンプ7によシ、必要に応じ各種ガスの圧力容器1
内への導入及び排気を行なう。本発明は真空中で加熱・
透明化することに特徴を有するが、このように真空中で
加熱・透明ガラス化した場合は臨界半径が非常に大きく
なるため多孔質体中に気泡が残留することがない。
ところで真空中で、ガラス微粒子が集合してなる多孔質
体を加熱し、緻密な高純度透明ガラスを得ようとする時
、加熱雰囲気の高純度化が問題となるが、本発明では次
のように解決されている。
第1に圧力丼器内に炉心管を設けたため雰囲気汚染の主
たる原因となると考えられる断熱材と加熱雰囲気が分離
された。炉心管の材料としては、耐熱性と不純物の放出
が少ないという点で高純度石英または密度の高い高純度
カーボンが適当である。ここで圧力容器全体を真空に保
つため、炉心管が変形または破壊することはない。
ここで本明細書における高純度石英とは、Ouの含有量
が(L O5ppm以下かつFe の含有量が1 pp
m以下のものを言う。さらにそのOH基含有量も耐熱性
向上のため1 ’Ppm以下であることが好ましい。ま
た高純度カーボンとは、Ou 含有量が105 ppm
以下でかつIPe  含有量がlllppm以下、全灰
分20 ppm以下のものである。
第2に、多孔質体の加熱処理に先だって、圧力容器内に
C2!を含むガスを導入しつつ圧力容器内を加熱する(
空焼きを行なう)ことによシ圧力容器内に存在する金属
(その大部分は、表面積の大きい断熱材に吸着している
と考えられる。)は、蒸気圧の高い塩化物となり圧力容
器外へ排出される。従って引き続いて行なわれる多孔質
体の加熱処理はより高純度な雰囲気で行なえる。
第3に多孔質体を加熱処理する工程中ずつと炉心管の内
部の雰囲気を高純度不活性ガス(Ar、 N! 、 H
e  を除く)で置換することにより、断熱材・ヒータ
ー・炉心管等から放出された不純物が、圧力容器内に滞
ることなく外部に排出される。この時、ガスの導入量を
v (17分)、圧力容器の容積をV(/、)、圧力を
P(torr ’)  とすると、ガス置換回数は、で
表わすことができるので、Pが小さい時は小量のガスで
効率よく圧力容器内を置換できる。
なお、高純度不活性ガスとは99.9994以上の純度
のものをいう。
本発明に用いられる多孔質体としては、例えば公知のV
AD法またはOVD法のような火炎加水分解法でガラス
微粒子を堆積させて得たもの、高純度5102 粉末を
加圧成形したもの、ゾルゲル法によるもの等が挙げられ
る。またこれらの方法によるもの以外でも焼結中に石英
ガラスが結晶化しないような高純度多孔質ガラス体なら
ばいずれでもよい。
本発明においては圧力容器内全体を真空にして加熱する
が、このときの真空度は、N2  またはAr を吹き
流しつつ減圧にする場合は1 torr未満にする必要
がある。これは1気圧のHe 中での臨界半径と、10
−4気圧(〜1torr )  のN!又はAr中での
臨界半径がほぼ等しいからである。
N、またはAr等を吹き流さずに焼結・透明化する場合
には、10″″” torr  以下にする必要がある
。10−” torr 以下とすれば、N!やAr等を
吹き流さずとも、不、鈍物の濃度は十分に減少する。
加熱処理に先だち容器内に導入するat、ガスは、例え
ば0211〜5%、N!又はAr99〜95係、全圧1
気圧のものを用いる。
また本発明における加熱は1600℃以下で行なう。
〔実施例〕
実施例1 後に光ファイバのコアとなる部分を含む直径1、5 c
mのガラスロッドの周囲にC工P(冷間静圧プレス)に
よりガラス微粒子を加圧成形することによ)固着させ、
直径1(1cW!の多孔質ガラスとガラスロッドの複合
体を作成した。この複合体を第1図に示す圧力容器中に
保持した。炉心管2として、緻密な高純度カーボンを使
用した。温度、圧力を以下の表1のように調節しつつ加
熱処理を行ない、多孔質ガラス部分を緻密な透明ガラス
とした。
表1 得られた透明ガラスは表面一層が失透(結晶化)してい
たが、該表面を火炎研磨することにより簡単に除去でき
た。また、ガラスロッドとの界面、および新たに得られ
た透明ガラスの内部に気泡は存在しなかった。この透明
ガラスを紡糸したところ、1.3μでのロスがα40 
dB/廟のファイバが得られた。また、このファイバの
全長にわたシ、700?の引張り力で破断する弱強度分
布はなかった。
実施例2 圧力容器の中へ緻密な高純度カーボン製炉心管をセット
し、圧力容器内を1500℃に加熱するとともに2憾の
at!を含む乾燥N、ガラス吹き流し、圧力容器内部の
高純度化を行なった。
別に実施例1と同じガラスロッド上にVAD法でガラス
微粒子を積層させ直径13cWIの多孔質ガラスとガラ
スロッドの複合体を作成した。上記により高純度化され
た圧力容器内にてこの複合体を実施例1と同様に加熱処
理を行ない多孔質ガラス部分を緻ぞな透明ガラスとした
得られた透明ガラスの表面はなめらかで、またガラスロ
ンドとの界面、および新たに得られた透明ガラスの内部
に気泡は存在しなかった。
この透明ガラスを紡糸したところ、13μでのロスがQ
、s 74B/)cmのファイバが得られた。
実施例3 WAD法で作成した中心部にGθ01 を含む多孔質ガ
ラスを実施例2と同じ高純度化処理をした圧力容器内に
保持し、表2の条件で加熱処理を行なった。
表2 得られた緻密な透明ガラスの表面はなめらかで、内部に
気泡は存在しながった。このガラスロンドの外周に、光
導波路のクラッドとなる部分を付加した後紡糸したとこ
ろ、α3 s dB/kmのファイバが得られた。
〔発明の効果コ 本発明は高価で、多量に入手することの難かしいHe 
 を使わずに、高純度の緻密なガラスを得ることができ
るに加え、He 中で焼結するよりも気泡が生じにくい
ので高品質な透明ガラスを低コストにて得られる。さら
に加熱処理に先だつCt2ガス導入や加熱処理雰囲気置
換によれば、遷移金属等の光通信で使用する波長に吸収
を持つ物質をppbオーダーまで減少させることができ
るので、本発明は光フアイバ用のガラスの製造法として
非常に有効である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施態様を説明する概略断面図である

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ガラス微粒子が集合してなる多孔質体を加熱する
    ことにより透明ガラスを得る方法に於て、上記多孔質体
    を圧力容器内に設けた炉心管の中に保持し、該圧力容器
    内全体を真空に保ちながら加熱することを特徴とする高
    純度透明ガラスの製造方法。
  2. (2)該炉心管が高純度石英製又は高純度カーボン製で
    ある特許請求の範囲第1項に記載される高純度透明ガラ
    スの製造方法。
  3. (3)該多孔質体の加熱処理に先だつて、該圧力容器内
    にCl_2を含むガスを導入しつつ、該圧力容器内全体
    を加熱して高純度化しておく特許請求の範囲第1項に記
    載される高純度透明ガラスの製造方法。
  4. (4)該炉心管の内部に直接高純度不活性ガス(Heを
    除く)を導入して、該炉心管の中の雰囲気を置換しつつ
    該多孔質体を加熱処理する特許請求の範囲第1項に記載
    される高純度透明ガラスの製造方法。
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