JPS6283323A - ガラスの製造方法 - Google Patents
ガラスの製造方法Info
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- JPS6283323A JPS6283323A JP22363285A JP22363285A JPS6283323A JP S6283323 A JPS6283323 A JP S6283323A JP 22363285 A JP22363285 A JP 22363285A JP 22363285 A JP22363285 A JP 22363285A JP S6283323 A JPS6283323 A JP S6283323A
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- JP
- Japan
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- glass
- atmosphere
- heat
- contg
- refractive index
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/14—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with boron and fluorine
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔差業上の利用分野〕
本発明は、ガラスの製造方法に関し、詳しくはＢと？と
を含み、屈折率を下げたガラスを気泡を含まぬように、
かつ従来より短時間で製造できる新規な方法に関するも
のである。
を含み、屈折率を下げたガラスを気泡を含まぬように、
かつ従来より短時間で製造できる新規な方法に関するも
のである。
本発明により製造したガラスは光フアイバ用材料として
も用いることが可能である。
も用いることが可能である。
光ファイバの製造方法として、ｖＡＤ法、０ｖｐｏ法と
呼ばれるものがある。これらの方法では、まず火炎加水
分解反応によジ、ガラス微粒千金生成し、回転する出発
材上に次々と堆積させ、棒状の多孔質プリフォーム全作
る。次にプリフォームを様々なガス雰囲気中で加熱処理
し、脱水・透明ガラス化し、光ファイバ母材ｔ−得る。
呼ばれるものがある。これらの方法では、まず火炎加水
分解反応によジ、ガラス微粒千金生成し、回転する出発
材上に次々と堆積させ、棒状の多孔質プリフォーム全作
る。次にプリフォームを様々なガス雰囲気中で加熱処理
し、脱水・透明ガラス化し、光ファイバ母材ｔ−得る。
さらに、この母材を紡糸して光ファイバを得るという方
法である。
法である。
元ファイバは、主として元が伝搬するコアとその周囲の
クラッドから構成されている。二酸化ケイ素（ｓｉＯ２
）ｋペースとする元ファイバで−は、（ｉ）コアに屈折
率を上げる添加剤をドープする方式、（ｉｉ）クラッド
に屈折率を下げる添加剤をドープする方式、Ｇ１１）（
ｉ）と（１１〕との方式の合体方式のいずれかの方式が
用いられる。言うまでもなく、＜１）ではクラッドが、
＜：ｒ＞では、コアが二酸化ケイ素である。
クラッドから構成されている。二酸化ケイ素（ｓｉＯ２
）ｋペースとする元ファイバで−は、（ｉ）コアに屈折
率を上げる添加剤をドープする方式、（ｉｉ）クラッド
に屈折率を下げる添加剤をドープする方式、Ｇ１１）（
ｉ）と（１１〕との方式の合体方式のいずれかの方式が
用いられる。言うまでもなく、＜１）ではクラッドが、
＜：ｒ＞では、コアが二酸化ケイ素である。
通常用いられる添加剤としては、Ｇ ｅ０２ ｔ Ｐ２
０ｓ ｒＡｔ、Ｏ，、Ｔｉｅ、 （以上屈折率上昇用）
、マ九、Ｂ２０．、Ｆ（以上屈折率下降用）等が挙げら
れる。
０ｓ ｒＡｔ、Ｏ，、Ｔｉｅ、 （以上屈折率上昇用）
、マ九、Ｂ２０．、Ｆ（以上屈折率下降用）等が挙げら
れる。
第２図に、波長１５９μｍにおける石英系ガラスの屈折
２１−示す。横軸はシリカ中の醸化物又は？の重量％を
、縦軸は屈折率（ｎヶ）および屈折率差Δｎ％を表わす
。〔文献二熊丸、黒崎、気光伝送用材料“工業材料２７
（１９７９）、Ｂ５９ ）これらの添加剤のうち、フ
ッ素？は最近になって注目された添加剤であって、ＶＡ
Ｄ法や０ＶＰＯ法におけるのみならず、他の製法におい
てもフッ素を添加する方法が検討、開発されている。
２１−示す。横軸はシリカ中の醸化物又は？の重量％を
、縦軸は屈折率（ｎヶ）および屈折率差Δｎ％を表わす
。〔文献二熊丸、黒崎、気光伝送用材料“工業材料２７
（１９７９）、Ｂ５９ ）これらの添加剤のうち、フ
ッ素？は最近になって注目された添加剤であって、ＶＡ
Ｄ法や０ＶＰＯ法におけるのみならず、他の製法におい
てもフッ素を添加する方法が検討、開発されている。
コア・クラッド間である一定の屈折率差を得たい場合に
、クラッドで屈折巡ヲ下げた前述の（１１）および（ｉ
ｉｉ）の方式は、コアに添加する添加剤の量が全く無い
か、あるいは（１）の方式によるよりも少なくてすむと
いう利点ヲ有している。このことは、高ＮＡファイバに
とって、コアの添加剤による吸収損失が低減されるとい
う意味で有利である。また、放射線下での伝送損失に優
れた純シリカ３７党ファイバは、（Ｉｔ）の方式でしか
作成できない。
、クラッドで屈折巡ヲ下げた前述の（１１）および（ｉ
ｉｉ）の方式は、コアに添加する添加剤の量が全く無い
か、あるいは（１）の方式によるよりも少なくてすむと
いう利点ヲ有している。このことは、高ＮＡファイバに
とって、コアの添加剤による吸収損失が低減されるとい
う意味で有利である。また、放射線下での伝送損失に優
れた純シリカ３７党ファイバは、（Ｉｔ）の方式でしか
作成できない。
このように、クラッド部の屈折ｉｔ−下げる方式は有利
な特性を持つ。
な特性を持つ。
ＶＡＤ法、ｏｖＰＯ法では、焼結工程においてフッ素金
添加する方法が知られている。例えば、特開昭５５−６
７５５５号公報に提案される方法である。この方法は、
火炎加水分解により形成されたガラス微粒子の積層体全
フッ素化合物ガスの雰囲気で１０００℃以下で加熱し、
次いで該ガラス微粒子の積層体を不活性ガス雰囲気中で
１４００℃以上に加熱して焼結せしめる方法、及び火炎
加水分解により形成され念ガラス微粒子のｙＩ層体をフ
ッ素化合物ガスおよび不活性ガスの雰囲気中で１４００
’Ｃ以上に加熱してフッ素を含むガラス体を形成せしめ
る方法であって、 （１） フッ素を均一に添加でき、平坦な屈折率分布
を与えることができる。
添加する方法が知られている。例えば、特開昭５５−６
７５５５号公報に提案される方法である。この方法は、
火炎加水分解により形成されたガラス微粒子の積層体全
フッ素化合物ガスの雰囲気で１０００℃以下で加熱し、
次いで該ガラス微粒子の積層体を不活性ガス雰囲気中で
１４００℃以上に加熱して焼結せしめる方法、及び火炎
加水分解により形成され念ガラス微粒子のｙＩ層体をフ
ッ素化合物ガスおよび不活性ガスの雰囲気中で１４００
’Ｃ以上に加熱してフッ素を含むガラス体を形成せしめ
る方法であって、 （１） フッ素を均一に添加でき、平坦な屈折率分布
を与えることができる。
（１１）処理速度が速い。すなわち、数１００〜１巧程
度の多孔質プリフォームを数時間以内で処理・透明ガラ
ス化できる。
度の多孔質プリフォームを数時間以内で処理・透明ガラ
ス化できる。
の２点において特に他の方法より優れている。
しかしながら、上記従来技術においては、常圧下フッ素
系ガス１００チ雰囲気で多孔質プリフォームを加熱処理
しても、比屈折率差で最大−α７５％程度（フッ素濃度
で約１５重量％’）しか添加されなかった。
系ガス１００チ雰囲気で多孔質プリフォームを加熱処理
しても、比屈折率差で最大−α７５％程度（フッ素濃度
で約１５重量％’）しか添加されなかった。
また、他の製法、例えばプラズマ外付法と呼ばれる方法
では、熱プラズマによる火炎を用いてガラス原料を出発
材上に吹き付け、堆積させ直接ガラス化させるが、この
際に、同時にフッ素系ガス全添加させてフッ素を添加し
ようとしても、屈折率差−１チを与えるフッ素系ガス金
含有させ九場合、その堆積速度はせいぜい１１１り７分
であり、かつ、添加量を増加させると堆積速度が下がる
ことが知られている。
では、熱プラズマによる火炎を用いてガラス原料を出発
材上に吹き付け、堆積させ直接ガラス化させるが、この
際に、同時にフッ素系ガス全添加させてフッ素を添加し
ようとしても、屈折率差−１チを与えるフッ素系ガス金
含有させ九場合、その堆積速度はせいぜい１１１り７分
であり、かつ、添加量を増加させると堆積速度が下がる
ことが知られている。
加えて、焼結工程に於けるフッ素添加、あるいはプラズ
マ法での直接ガラス化によるフッ素添加でも、フッ素を
比屈折率差で−α５チ以上添加しようとした場合、得ら
れたガラス母材中に・しばしば気泡が残存した。フッ素
の添加量全多くすればするほどその傾向は大きかった。
マ法での直接ガラス化によるフッ素添加でも、フッ素を
比屈折率差で−α５チ以上添加しようとした場合、得ら
れたガラス母材中に・しばしば気泡が残存した。フッ素
の添加量全多くすればするほどその傾向は大きかった。
本発明、の目的とするところは、以上説明したような従
来技術の欠点を解消し、屈折率差を大きくとれるような
添加物、特に屈折率を下げる添加物を高速で効率良く、
かつ気泡等の残留なく添加したガラス物品の製造方法を
提供することにある。
来技術の欠点を解消し、屈折率差を大きくとれるような
添加物、特に屈折率を下げる添加物を高速で効率良く、
かつ気泡等の残留なく添加したガラス物品の製造方法を
提供することにある。
し問題点を解決するための手段〕
本発明は、二酸化ケイ素を主成分とするガラス微粒子積
層体ｆｔＢＦ３を含む雰囲気中で加熱処理し、それによ
りＢと？とを添加することを特徴とするガラスの製造方
法である。
層体ｆｔＢＦ３を含む雰囲気中で加熱処理し、それによ
りＢと？とを添加することを特徴とするガラスの製造方
法である。
本発明の特に好ましい実施態様としては、該ガラス微粒
子積層体があらかじめＣｌ、雰囲気中に加熱処理される
ことにより、充分脱水されたものであり、ＢＰ、の分圧
が１気圧以上である、ＢＦ３を含む雰囲気又はＢＦ３に
加えてＳｉＦ４をも含む雰囲気中において、加熱処理し
あるいは加熱処理しつつ透明ガラス化をし、該加熱処理
は高純度石英製炉心管中に行われる方法が挙げられる。
子積層体があらかじめＣｌ、雰囲気中に加熱処理される
ことにより、充分脱水されたものであり、ＢＰ、の分圧
が１気圧以上である、ＢＦ３を含む雰囲気又はＢＦ３に
加えてＳｉＦ４をも含む雰囲気中において、加熱処理し
あるいは加熱処理しつつ透明ガラス化をし、該加熱処理
は高純度石英製炉心管中に行われる方法が挙げられる。
ガラス微粒子積層体を、Ｂ、Ｐなどの屈折率を調整する
原子を含むガス中で熱処理することで、プリフォームに
Ｂ、Ｆｉ添加させることは、従来の技術より類推可能で
ある。しかし、気泡が無い上に、多量のＢ、Ｆ’ｉ添加
し几ガラス体を得ることは現実には困難であった。その
理由は、第１に、雰囲気ガス自体の熱分解によるガラス
の成分と成り得ないガスの発生による気泡の残留であり
、第２に炉心管からの重金属汚染であった。
原子を含むガス中で熱処理することで、プリフォームに
Ｂ、Ｆｉ添加させることは、従来の技術より類推可能で
ある。しかし、気泡が無い上に、多量のＢ、Ｆ’ｉ添加
し几ガラス体を得ることは現実には困難であった。その
理由は、第１に、雰囲気ガス自体の熱分解によるガラス
の成分と成り得ないガスの発生による気泡の残留であり
、第２に炉心管からの重金属汚染であった。
第１点については、フッ素系ガス中のフッ素以外の成分
、またはボロン化合物中のボロン以外の成分、例えば、
ＣＦ４中のＣ（カーボン）Ｓ４中の８（硫黄）、ＢＯｔ
ｇ中のＣＬ （塩素）がガラス中に残り気泡の原因とな
るためである。このことは、本発明を得る過程で、ＣＦ
４全４ヲしてガラス中にフッ素を添加せしめた時、気泡
中の成分が００２．ＣＯから成っていたことを確認でき
たことから判明した。
、またはボロン化合物中のボロン以外の成分、例えば、
ＣＦ４中のＣ（カーボン）Ｓ４中の８（硫黄）、ＢＯｔ
ｇ中のＣＬ （塩素）がガラス中に残り気泡の原因とな
るためである。このことは、本発明を得る過程で、ＣＦ
４全４ヲしてガラス中にフッ素を添加せしめた時、気泡
中の成分が００２．ＣＯから成っていたことを確認でき
たことから判明した。
これに対し、本発明の方法においてはＢＦｇを含む雰囲
気中にて加熱するので、石英ガラス（Ｓｉ０２）４の反
応は下記（１）式のように３ＳｉＯ，（Ｓ）＋ ４ＢＦ
、（Ｇ）→２Ｂ２０． ＋ ３ＳｉＦ、 （Ｇ） −−
（１）となり、従来のＢＦ６ 、 ＯＦ４ 、０２Ｆ６
、 ＢＣｔ３ 、 ＢＢｒｌなどの場合とは異なり、
ガラスの成分と成り得ないガス（０１２、Ｂｒ２ 、
ＣＯ２、ＣＬ０．８０２等）を生成せず、気泡は生じな
い。
気中にて加熱するので、石英ガラス（Ｓｉ０２）４の反
応は下記（１）式のように３ＳｉＯ，（Ｓ）＋ ４ＢＦ
、（Ｇ）→２Ｂ２０． ＋ ３ＳｉＦ、 （Ｇ） −−
（１）となり、従来のＢＦ６ 、 ＯＦ４ 、０２Ｆ６
、 ＢＣｔ３ 、 ＢＢｒｌなどの場合とは異なり、
ガラスの成分と成り得ないガス（０１２、Ｂｒ２ 、
ＣＯ２、ＣＬ０．８０２等）を生成せず、気泡は生じな
い。
ま九本発明の方法は、上記のＢＰ、に加えて、８ ｉ
ｙ４ を用いてもよい。このときの１３１１４ の石英
ガラスとの反応は下記（２）式の如くで３８１０鵞 （
８）＋ ８１７４ （Ｇｌ→ ４ＳｉＯＪＪ Ｆ（
＋３） ・・・ （２）やは９余分なガ
スの生成がないので、気泡は生じない。
ｙ４ を用いてもよい。このときの１３１１４ の石英
ガラスとの反応は下記（２）式の如くで３８１０鵞 （
８）＋ ８１７４ （Ｇｌ→ ４ＳｉＯＪＪ Ｆ（
＋３） ・・・ （２）やは９余分なガ
スの生成がないので、気泡は生じない。
第２の点については、本発明は高純度石英管製炉心管を
用いることにより解決する。すなわちＯＦ４ ａ Ｂ
１’６等を用いると炉心管表面と反応して気体の反応生
成物Ｓｉｒ、 を生じどんどん揮散していくが、ＢＦ
３とＳ ｉ Ｆ４は高純度石英製炉心管をエツチングし
ないので、炉心管材料中のＯｖやＩＰｅ などの汚染物
質がプリフォームに達することがなく、プリフォームの
清浄が保たれることがわかった。
用いることにより解決する。すなわちＯＦ４ ａ Ｂ
１’６等を用いると炉心管表面と反応して気体の反応生
成物Ｓｉｒ、 を生じどんどん揮散していくが、ＢＦ
３とＳ ｉ Ｆ４は高純度石英製炉心管をエツチングし
ないので、炉心管材料中のＯｖやＩＰｅ などの汚染物
質がプリフォームに達することがなく、プリフォームの
清浄が保たれることがわかった。
ここでＷＡＤ法で得られた多孔質プリフォームの一般的
な加熱処理雰囲気（処理条件１２００℃、３時間）にお
けるＳ ｉ Ｆ、およびＢＦ３の分圧Ｐと得られたガラ
ス母材の二酸化ケイ素に対する比屈折率差Δｎ（％）の
関係を第５図に示す。これにより、加圧雰囲気下ではフ
ッ素？およびボロンＢはより効率的にドープされ、屈折
率ヲ下げることがわかる。実際問題として線、圧力が２
０気圧を越えると、透明化後のガラス体に気泡が残りや
すい。後述する実施例の結果より、ＢＦ３雰囲気におけ
る熱処理によって、常圧（分圧１Ｃｌｍ）では（Δｎ）
＝１．２係、加圧下（３Ｃｌｍ）では（Δｎ）＝２．７
チの負の屈折率のガラスを得ることが判った。すなわち
比屈折率の変化は原料ガス（ＢＦｓ）の分圧で決まって
くる。
な加熱処理雰囲気（処理条件１２００℃、３時間）にお
けるＳ ｉ Ｆ、およびＢＦ３の分圧Ｐと得られたガラ
ス母材の二酸化ケイ素に対する比屈折率差Δｎ（％）の
関係を第５図に示す。これにより、加圧雰囲気下ではフ
ッ素？およびボロンＢはより効率的にドープされ、屈折
率ヲ下げることがわかる。実際問題として線、圧力が２
０気圧を越えると、透明化後のガラス体に気泡が残りや
すい。後述する実施例の結果より、ＢＦ３雰囲気におけ
る熱処理によって、常圧（分圧１Ｃｌｍ）では（Δｎ）
＝１．２係、加圧下（３Ｃｌｍ）では（Δｎ）＝２．７
チの負の屈折率のガラスを得ることが判った。すなわち
比屈折率の変化は原料ガス（ＢＦｓ）の分圧で決まって
くる。
したがって、本発明におけるＢＰ３又はＢＦ３に８ ｉ
ｙ４を加えた雰囲気としては、Ｂｒ３の分圧が１気圧
以上必要のときはＢＦｓ１００チの加圧雰囲気を用い、
ＢＦ３の分圧が１気圧以下でよいときは、Ｈｅ等で希釈
して用いることか好ましい。
ｙ４を加えた雰囲気としては、Ｂｒ３の分圧が１気圧
以上必要のときはＢＦｓ１００チの加圧雰囲気を用い、
ＢＦ３の分圧が１気圧以下でよいときは、Ｈｅ等で希釈
して用いることか好ましい。
また、このようなりＦ、又はＢＰ、およびＳ ｉ Ｆ４
含肩雰囲気における加熱処理温度は低すぎると前記し次
式（１）、 ＜２）のような反応が十分に進行せず非効
不的であるため、１１００℃以上か好ましい。
含肩雰囲気における加熱処理温度は低すぎると前記し次
式（１）、 ＜２）のような反応が十分に進行せず非効
不的であるため、１１００℃以上か好ましい。
ま危、本発明においては加熱処理において、ＢとＦを添
加するのみならず、同じ雰囲気中にて加熱処理しながら
透明ガラス化を行ってもよい。
加するのみならず、同じ雰囲気中にて加熱処理しながら
透明ガラス化を行ってもよい。
さらに、ガラス微粒子積層体をあらかじめＣｌ２雰囲気
中で加熱処理して充分脱水しておきその後ＢおよびＦを
添加することも好ましい。
中で加熱処理して充分脱水しておきその後ＢおよびＦを
添加することも好ましい。
本発明方法に用いられる加熱処理装置の例を第１図に示
す。第１図において、１は支持棒、２はガラス微粒子積
層体、５は圧力容器、４は加熱部、５および７は加熱装
置、６はシール、８はガス配管を示し、９は圧力計、１
０はガス配管（ｆＭ、山部）、１１はバルブである。た
だし、これらはあくまで例示にすぎず、この横取に限定
さｎるものではない。
す。第１図において、１は支持棒、２はガラス微粒子積
層体、５は圧力容器、４は加熱部、５および７は加熱装
置、６はシール、８はガス配管を示し、９は圧力計、１
０はガス配管（ｆＭ、山部）、１１はバルブである。た
だし、これらはあくまで例示にすぎず、この横取に限定
さｎるものではない。
実施例１
第１図に示すような熱処理装置で、純シリカガラス微粒
子積層体をＢＦ、 １００チ（分圧１気圧）雰囲気で透
明ガラス化した。温度ｉｊ １２００℃で２時間保持し
たあと昇温し、透明ガラス化した。気泡は存在しなかっ
た。得られた透明ガラス母材の比屈折率差は−１，２％
であった。このガラスに石英管を挿入、コラップスし、
線引し元ファイバとし友ところ、不純物の混入の少ない
低損失のファイバが得られた。損失値は２ｄＢ／Ｋｍ
（波長α８５μｍにおいて）であつ友。
子積層体をＢＦ、 １００チ（分圧１気圧）雰囲気で透
明ガラス化した。温度ｉｊ １２００℃で２時間保持し
たあと昇温し、透明ガラス化した。気泡は存在しなかっ
た。得られた透明ガラス母材の比屈折率差は−１，２％
であった。このガラスに石英管を挿入、コラップスし、
線引し元ファイバとし友ところ、不純物の混入の少ない
低損失のファイバが得られた。損失値は２ｄＢ／Ｋｍ
（波長α８５μｍにおいて）であつ友。
実施例２
第１図に示すような熱処理装置全周いて、シリカガラス
周囲にガラス微粒子を付着させたプリフォーム全処理し
皮。温度は１２００℃、圧力２気圧を維持し、ＢＰ、（
１００％） ｆ ５００ ｃｃ／＋の流量で１時間流し
たところ、得られた母材のコア・クラッド間比屈折率差
は１．５チであった。
周囲にガラス微粒子を付着させたプリフォーム全処理し
皮。温度は１２００℃、圧力２気圧を維持し、ＢＰ、（
１００％） ｆ ５００ ｃｃ／＋の流量で１時間流し
たところ、得られた母材のコア・クラッド間比屈折率差
は１．５チであった。
母材の透明ガラス化は１５００℃以上のＨθを主成分と
する不活性ガス雰囲気中で行なった。
する不活性ガス雰囲気中で行なった。
実施例３
第１図に示す熱処理装置を用いて、Δｎ＝２憾のＧθ０
．ドープされた高ＮＡガラスの周囲に、ガラス微粒子全
付層させたプリフォームを処理し友。温度１３００℃、
ＢＦ３の分圧２気圧（ＢＦ。
．ドープされた高ＮＡガラスの周囲に、ガラス微粒子全
付層させたプリフォームを処理し友。温度１３００℃、
ＢＦ３の分圧２気圧（ＢＦ。
１００％、５００ｃｃ／分）で１時間保持し、ｉいで１
４５Ｄ’ＣのＨθガス雰囲気（１気圧）下で透明化し、
クラット部でΔｎ＝−２％を持った、Δｎ＝４％の冒Ｎ
Ａ母材を得た。
４５Ｄ’ＣのＨθガス雰囲気（１気圧）下で透明化し、
クラット部でΔｎ＝−２％を持った、Δｎ＝４％の冒Ｎ
Ａ母材を得た。
実施例４
第１図に示す熱処理装置を用いて、ＢＦ３５俤、５ｉＦ
４９５％（流量はそれぞれ２５ ｃｃ／分、４７５ｃｃ
／分）の雰囲気下でガラス微粒子積層体を処理した。得
られた透明ガラス母材の比屈折率差は−α７ろチであジ
、Ｂ２Ｏ３とＦとの寄与はＢ２Ｏ３−１１０３％、Ｆ−
α７０％であった。この透明ガラス母材の線膨張系数は
純石英とほぼ等しかつ念。
４９５％（流量はそれぞれ２５ ｃｃ／分、４７５ｃｃ
／分）の雰囲気下でガラス微粒子積層体を処理した。得
られた透明ガラス母材の比屈折率差は−α７ろチであジ
、Ｂ２Ｏ３とＦとの寄与はＢ２Ｏ３−１１０３％、Ｆ−
α７０％であった。この透明ガラス母材の線膨張系数は
純石英とほぼ等しかつ念。
実施例５
第１図に示すような熱処理装置’を用いて、ガラス微粒
子積層体をＣＬ２／Ｈｅ＝３チ／９７チ雰囲気（流量５
００ ｃｃ／分／９．７℃１分）で１１５０℃にて１時
間保持することにより脱水した。次いで炉温１１５００
℃まで徐々に上げ、ＢＦ３／Ｈｅ＝５０チ１５０チ雰囲
気（流量はそれぞれ５００ｃｃ／分）で透明化した。得
られた透明ガラス母材の比屈折率はα８チであった。こ
のガラスを使用してファイバを作成し念ところ、損失値
は波長１３ Ｂ ｐｍにおいてｔ ＯｉＢ／Ｋｍであっ
た。
子積層体をＣＬ２／Ｈｅ＝３チ／９７チ雰囲気（流量５
００ ｃｃ／分／９．７℃１分）で１１５０℃にて１時
間保持することにより脱水した。次いで炉温１１５００
℃まで徐々に上げ、ＢＦ３／Ｈｅ＝５０チ１５０チ雰囲
気（流量はそれぞれ５００ｃｃ／分）で透明化した。得
られた透明ガラス母材の比屈折率はα８チであった。こ
のガラスを使用してファイバを作成し念ところ、損失値
は波長１３ Ｂ ｐｍにおいてｔ ＯｉＢ／Ｋｍであっ
た。
本発明は、下記のような効果を奏する。
■ ＢＦ３雰囲気で熱処理することにより、常圧（分圧
１ Ｃｌｍ ）で１Δｎ１＝１．２チ、加圧下（分圧ｓ
Ｃｌｍ ）で１Δｎ１＝１７％の負の屈折率のガラス
に得ることが可能となった。
１ Ｃｌｍ ）で１Δｎ１＝１．２チ、加圧下（分圧ｓ
Ｃｌｍ ）で１Δｎ１＝１７％の負の屈折率のガラス
に得ることが可能となった。
■ 高速でＢ、Ｆ’ｉ添加することか可能となつ友。従
って従来法より短時間でガラス物品を得ることができる
。
って従来法より短時間でガラス物品を得ることができる
。
■ 得られ之ガラス母材中に気泡が残留しない。
■ クラッドのΔｎを低くした形の高ＮＡ 光フアイバ
用母材、純シリカコア光フアイバー用母材の作成が容易
になった。
用母材、純シリカコア光フアイバー用母材の作成が容易
になった。
■ 容器からの汚染（貴金属）が低減された。
さらに従来技術におけると同様、ＷＡＤ法の焼結工程で
Ｂ、Ｆｉ添加する利点、すなわち平坦な屈折率分布およ
び処理速度における利点金有することは言うまでもない
。
Ｂ、Ｆｉ添加する利点、すなわち平坦な屈折率分布およ
び処理速度における利点金有することは言うまでもない
。
第１図は、本発明に用いる加熱処理装置の例を説明する
図、第２図は、石英系ガラスにおけるシリカ中酸化物又
はＦの含量（重ｔ％）と屈折率（ｎα）および比屈折率
差（Δｎ）の関係を示すグラフ、５３３図は雰囲気中の
ＳｉＦ４およびＢＦ３分圧と得られる比屈折率差１△ｎ
１の関係を示すグラフである。
図、第２図は、石英系ガラスにおけるシリカ中酸化物又
はＦの含量（重ｔ％）と屈折率（ｎα）および比屈折率
差（Δｎ）の関係を示すグラフ、５３３図は雰囲気中の
ＳｉＦ４およびＢＦ３分圧と得られる比屈折率差１△ｎ
１の関係を示すグラフである。
Claims (6)
- （１）二酸化ケイ素を主成分とするガラス微粒子積層体
をＢＦ＿３を含む雰囲気中で加熱処理し、それによりＢ
とＦとを添加することを特徴とするガラスの製造方法。 - （２）ガラス微粒子積層体をＢＦ＿３を含む雰囲気中で
加熱処理しつつ透明ガラス化する特許請求の範囲第（１
）項に記載されるガラスの製造方法。 - （３）ＢＦ＿３を含む雰囲気中にＳｉＦ＿４をも含む特
許請求の範囲第（１）項又は第（２）項に記載されるガ
ラスの製造方法。 - （４）ＢＦ＿３の分圧が、気圧以上である特許請求の範
囲第（１）ないし第（３）項のいずれかに記載されるガ
ラスの製造方法。 - （５）ガラス微粒子積層体が、あらかじめＣｌ＿２雰囲
気中にて加熱処理されることにより、充分脱水されたも
のである特許請求の範囲第（１）項ないし第（４）項の
いずれかに記載されるガラスの製造方法。 - （６）加熱処理が高純度石英製炉心管中にて行われる特
許請求の範囲第（１）項ないし第（５）項のいずれかに
記載されるガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60223632A JPH0776092B2 (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60223632A JPH0776092B2 (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | ガラスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6283323A true JPS6283323A (ja) | 1987-04-16 |
| JPH0776092B2 JPH0776092B2 (ja) | 1995-08-16 |
Family
ID=16801239
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60223632A Expired - Lifetime JPH0776092B2 (ja) | 1985-10-09 | 1985-10-09 | ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0776092B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63139026A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-10 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光伝送体用ガラス素材の製造方法 |
| EP0547335A2 (en) * | 1991-12-16 | 1993-06-23 | Corning Incorporated | Method of making fluorine/boron doped silica tubes |
| US5458813A (en) * | 1992-07-28 | 1995-10-17 | Enichem S.P.A. | Method for preparing boron-containing porous gels |
| JP2002182057A (ja) * | 2000-10-16 | 2002-06-26 | Alcatel | 正の波長分散を備えるｎｚ−ｄｓｆファイバの波長分散補償のためのファイバ |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5992936A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-29 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 無水プリフオ−ムロツドの製造方法 |
| JPS6081038A (ja) * | 1983-10-12 | 1985-05-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ＴｉＯ↓２含有ガラス光フアイバの製造方法 |
| JPS60257408A (ja) * | 1984-06-04 | 1985-12-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光フアイバおよびその製造方法 |
| JPS6144725A (ja) * | 1984-08-08 | 1986-03-04 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 石英系多孔質ガラス層の処理方法 |
-
1985
- 1985-10-09 JP JP60223632A patent/JPH0776092B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5992936A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-29 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 無水プリフオ−ムロツドの製造方法 |
| JPS6081038A (ja) * | 1983-10-12 | 1985-05-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ＴｉＯ↓２含有ガラス光フアイバの製造方法 |
| JPS60257408A (ja) * | 1984-06-04 | 1985-12-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光フアイバおよびその製造方法 |
| JPS6144725A (ja) * | 1984-08-08 | 1986-03-04 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 石英系多孔質ガラス層の処理方法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63139026A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-10 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光伝送体用ガラス素材の製造方法 |
| JP2635563B2 (ja) * | 1986-11-28 | 1997-07-30 | 古河電気工業株式会社 | 光伝送体用ガラス素材の製造方法 |
| EP0547335A2 (en) * | 1991-12-16 | 1993-06-23 | Corning Incorporated | Method of making fluorine/boron doped silica tubes |
| US5458813A (en) * | 1992-07-28 | 1995-10-17 | Enichem S.P.A. | Method for preparing boron-containing porous gels |
| JP2002182057A (ja) * | 2000-10-16 | 2002-06-26 | Alcatel | 正の波長分散を備えるｎｚ−ｄｓｆファイバの波長分散補償のためのファイバ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0776092B2 (ja) | 1995-08-16 |
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