JPS63190821A - 軟膏組成物の製造方法 - Google Patents

軟膏組成物の製造方法

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JPS63190821A
JPS63190821A JP2278887A JP2278887A JPS63190821A JP S63190821 A JPS63190821 A JP S63190821A JP 2278887 A JP2278887 A JP 2278887A JP 2278887 A JP2278887 A JP 2278887A JP S63190821 A JPS63190821 A JP S63190821A
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chitin
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pressure
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Hiroshi Yokota
横田 拓
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Daicel Chemical Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く産業上の利用分野〉 本発明は、キチンを微分散した状態で含有する軟膏組成
物の製造方法に関するものである。
詳しくは、創傷部に塗布した際の使用感にすぐれたもの
である軟膏組成物の製造方法に関するものである。
〈従来技術〉 甲殻類、昆虫類の組織支持体として自然界に広く分布す
るキチンは、古くから棟々の利用法の提案がなされてお
り、近年一段と研死が盛んになってきている。キチンが
創傷の治癒促進効果を有することはよく知られており(
R,A、 A。
Muzzarelli、 CHITIN P263(1
977) AcademicPress )、キチンを
粉末化し、治癒剤として使おうとする提案(L、L、B
a1assa、 LA、S、F)3,632,754J
an、4.1972)もある。
キチンは機械的に微粉砕しにく(、その粉末は、創傷部
への物理的刺激を与えるため、実用化には至っていない
〈発明が解決しようとする問題点〉 キチンは天然物、特に動物から得られる勧賞であり、熊
本、無臭、無色で、且つ薬理作用を有するという点で、
創傷治療には好適な材料ということができる。しかしな
がら、その分子が剛直で結晶性であるため、機械的に粉
砕されに<<、無理に粉砕しても粗硬な鋭角部分を保持
するので、創傷面に接触すると使用感はよくない。この
欠点はキチンの表面状態を改良すれば匡正できる。
一般に高分子は、溶媒に溶解し、球状に析出させると、
円滑な表面を有する固体が得られる。
しかし、キチンには、このような成型法に適した溶媒が
見出されていない。
別の手段として、キチンを極めて微小なフィブリルに分
割し、長さに比べて径が極めて小さいものとすれば、相
対的なディメンションの効果により、ソフトな感触を与
えるものとすることが理論的には可能である。
キチンをミクロフィブリル化する技術については、本発
明者は特開昭59−86640 「キチン懸濁液および
その製造方法」において開示している。本技術をさらに
具体的に発展させることにより、本発明に到達すること
ができた。
〈発明の構成〉 本発明は、粉末状キチンの水懸濁液を小径オリフィスを
通過させて、その懸濁液に少なくとも200kg/cJ
の圧力差で高速度を与え、次にこれを衝突させて急速に
減速させることにより剪断作用を行なわせ、さらに以上
の操作を繰り返し行なうことで、前記キチン懸濁液が静
置しても固液分離し々11安定な懸濁液とする工程(第
1工程)と、前記工程で得られた懸濁液を凍結乾燥し、
得られた乾燥物を粉砕する工程(第2工程)、そして得
られた凍結乾燥粉砕物のワセリンおよび/またはグリコ
ール類および/または高級アルコール懸濁液に最初の工
程と同様の処理を加え、クリーム状となるようにする工
程(第3工程)とから成る軟片組成物の製造方法に関す
るものである。
本発明方法の第1工程の実施に好適な装置は乳製品装造
業者などで広く使われているエマルジョンおよび分散体
製造用の高圧均質化装置である。第1工程の実施に際し
ては、キチン7レークスを最長部分が1〜2朋程度の小
片に粉砕囲である。この514jJ液を前記均質化装置
に導入して少なくとも200に9/c4、好ましくは3
50〜56okg/cm3の圧力を加える。その後、こ
の懸濁液を均質化装置を何回も通過させるとキチンは1
50〜500人ダ程度のミクロフィブリル状態にまで微
細化され、クリーム状の水懸濁物となる。
本発明の第2工程の実施に用いる凍結乾燥装置は極く一
般的な装置であればよい。第2工程の実施は、第1工程
で得られたクリーム状の懸濁物を凍結させた後、10 
 Torr程度の減圧を保ち、凍結乾燥する。得られた
乾燥物を衝撃型の粉砕機で粉砕し、微粉化する。
本発明お第3工程の実施に好適な装置は第1の工程で使
用した高圧均質化装置である。
第3工程の実施態様は次の如くである。白色ワセリン、
グリコール類、高級アルコール類に第2工程で得た微粉
末を分散させ、懸濁液とするが、白色ワセリン、高級ア
ルコール類に加温して液状にしておく。懸濁液中のキチ
ン濃度は好ましくは1〜5%の範囲である。第1工程で
用いた均質化装置に導入して、少なくとも200kg/
 ca、好ましくは350〜560Kg/c4の圧力を
加える。その後、この懸′1@液を均質化装置を数回通
過させると、全く異物感を感じさせないなめらかなりリ
ーム状の懸濁物となる。この工程で組成物は昇温し、流
動性の高いものになるが、室温まで冷却すると固さを増
し、軟膏として適当な流動性を有するものにする。
〈発明の効果〉 本発明の組成物は、そのままで創傷治癒用軟膏として使
用可能であり、他の成分、例えば殺菌剤、消炎剤、香料
、色素等を加える必要があるときは、前記第3工程で加
えればよく、新たな医薬組成物を提供するものとして、
本発明の意義は大きい。
〈実施例〉 以下に本発明を実施例により、さらに詳細に説明する。
実施例1゜ 市販のキチンフレーク(共和油脂■製)を60メツシユ
、スクリーン付のウィリーミルで粉末とした。キチン粉
末40pを水960gに投入し、懸濁液となし、これを
Qaulinホモジェナイザーで500Kg/cJ圧力
下繰り返し30回処理し、粘稠なりリーム状のミクロフ
ィブリル化キチンを得た。
次に、このクリーム状ミクロフィブリル化キチンを凍結
乾燥した後、コーヒーミルで粉砕した。
白色ワセリン980.!i’を80℃まで温め液状とな
し、これへ上述の凍結乾燥後粉砕したミクロフィブリル
化キチンを20g投入し懸濁液となし、これをQaul
inホモジナイザーで500 Kg/ ctft圧力下
圧力下口5回処理し、粘稠なりリーム状物を得た。室温
まで温度が下るとともに該第は固さを増し、元のワセリ
ンと同様の状態になった。
このものは極めてなめらかで、外傷性皮膚損傷部へ使用
しても、ザラザラした異物感や刺戟のないものであった
実施例2゜ 実施例1で述べたのと全く同じ方法で得た凍結乾燥後、
粉砕したミクロフィブリル化キチン20Fを、80℃ま
で温めた白色ワセリンとプロピレングリコール各490
gの混合液に投入し@濁液となし、これを実施例1と同
じ条件下Gauj団 ホモジエナイザーで処理し、粘稠
なりリーム状物を得た。
室温まで温度が下るとともに該第は、やや固さを増し、
なめらかな軟膏状となった。このものは極めてなめらか
で、外傷性皮膚損傷部へ使用しても、ザラザラした異物
感や刺戟のないものであった。
比較例1゜ 実施例1で述べたのと全(同じ方法で得た偲結乾燥後、
粉砕したミクロフィブリル化キチン2gを80℃まで温
めた白色ワセリン98gに投入し懸濁液となし、これを
ホモミキサーで10、OOOrpm、10分間攪拌混合
した。攪拌とともに系は粘稠にはなるが、皮膚に使用し
たとき、ザラザラした異物感を与えた。
比較例2゜ 実施例1で述べたウィリーミルで粉砕したキチン粉末4
0!jを80℃の白色ワセリンに投入し懸濁液となし、
これをGaulin  ホモジエナイザーの最高使用圧
力560kg/J圧力下繰り返し50回処理した。キチ
ンはやや微細化されたが懸濁液はクリーム状とはならず
、元の状態に近かった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 粉末状キチンの水懸濁液を小径オリフィスを通過させて
    、その懸濁液に少なくとも200kg/cm^3の圧力
    差で高速度を与え、次にこれを衝突させて急速に減速さ
    せることにより、剪断作用を行なわせ、さらに以上の操
    作を繰り返し行なうことで前記キチン懸濁液が静置して
    も固液分離しない安定な懸濁液とする工程と、前記工程
    で得られた懸濁液を凍結乾燥し、得られた乾燥物を粉砕
    する工程、そして得られた凍結乾燥粉砕物のワセリンお
    よび/またはグリコール類および/または高級アルコー
    ル懸濁液に最初の工程と同様の処理を加え、クリーム状
    となるようにする工程とから成る軟膏組成物の製造方法
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996010042A1 (de) * 1994-09-29 1996-04-04 Fresenius Ag Verfahren zur herstellung von stärkeabbauprodukten
WO2008156109A1 (ja) * 2007-06-19 2008-12-24 Cluster Technology Co., Ltd. キチンスラリーおよびその製造方法

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JP4566274B2 (ja) * 2007-06-19 2010-10-20 クラスターテクノロジー株式会社 キチンスラリーおよびその製造方法

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