JPS63181345A - 静電チャック部品の製造方法 - Google Patents
静電チャック部品の製造方法Info
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- JPS63181345A JPS63181345A JP62011445A JP1144587A JPS63181345A JP S63181345 A JPS63181345 A JP S63181345A JP 62011445 A JP62011445 A JP 62011445A JP 1144587 A JP1144587 A JP 1144587A JP S63181345 A JPS63181345 A JP S63181345A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、半導体素子のウェハ等を搬送する際に用いる
静電チャック部品に関する。
静電チャック部品に関する。
（従来の技術）
一般に半導本葉子のウェハ等は小型でかつ薄い奔め吟工
へシＴＩｆ飾辿博り奔μ央げ論ｔト１め卆いので、ウェ
ハに加工を施す際の搬送に静電チャック部品を用いた静
電チャックが利用されている。
へシＴＩｆ飾辿博り奔μ央げ論ｔト１め卆いので、ウェ
ハに加工を施す際の搬送に静電チャック部品を用いた静
電チャックが利用されている。
従来、この種の静電チャック部品ａとしては例えば第５
図示のようにアルミニウム材から成る基体すの表面全面
に亘ってポリアミック酸の浸漬コートによって形成され
たポリイミド樹脂の絶縁被膜ａｔ−備えるものが知られ
てお）、これを用いてウェハ４を搬送するときは、例え
ば第３図示のように直流電源ｅの陽極側に静電チャック
部品ａを接続すると某に、この直流電源・の陰極側にス
イッチｔを介してウェハｄを保持する陰極ｇを設け、こ
の陰極ｇに連なりウェハとをアース電位とするスイッチ
ｈを備えるアース回路１を設けた静電チャックに構成し
て用いる。そしてアース回路１のスイッチｈを開いた状
態でウェハｄを陰極ｇに保持せしめ、スイッチｆを閉じ
て直流電源・よシ例えば＋２ＫＶの直流の高電圧を静電
チャック部品−およびウェハｄに印加して静電チャック
部品＆のウェハ改側の表面をプラスに帯電せしめ、また
ウェハｄの静電チャック部品ａ側の表面をマイナスに帯
電せしめて、静電チャック部品ａでウェハｄを吸着保持
する。
図示のようにアルミニウム材から成る基体すの表面全面
に亘ってポリアミック酸の浸漬コートによって形成され
たポリイミド樹脂の絶縁被膜ａｔ−備えるものが知られ
てお）、これを用いてウェハ４を搬送するときは、例え
ば第３図示のように直流電源ｅの陽極側に静電チャック
部品ａを接続すると某に、この直流電源・の陰極側にス
イッチｔを介してウェハｄを保持する陰極ｇを設け、こ
の陰極ｇに連なりウェハとをアース電位とするスイッチ
ｈを備えるアース回路１を設けた静電チャックに構成し
て用いる。そしてアース回路１のスイッチｈを開いた状
態でウェハｄを陰極ｇに保持せしめ、スイッチｆを閉じ
て直流電源・よシ例えば＋２ＫＶの直流の高電圧を静電
チャック部品−およびウェハｄに印加して静電チャック
部品＆のウェハ改側の表面をプラスに帯電せしめ、また
ウェハｄの静電チャック部品ａ側の表面をマイナスに帯
電せしめて、静電チャック部品ａでウェハｄを吸着保持
する。
次いでスイッチｆを開き、静電チャック部品ａにウェハ
ｄを保持したま＼の状態で所定位置まで搬送する。そし
て搬送後、アース回路１のスイッチｈを閉じてウニへ改
に帯電したマイナス電位をアース回路１より除電させて
静電チャック部品ａによるウニｌ５（ｌの吸着を解除し
て、ウェハｄを静電チャック部品ａよシ解放するもので
ある。
ｄを保持したま＼の状態で所定位置まで搬送する。そし
て搬送後、アース回路１のスイッチｈを閉じてウニへ改
に帯電したマイナス電位をアース回路１より除電させて
静電チャック部品ａによるウニｌ５（ｌの吸着を解除し
て、ウェハｄを静電チャック部品ａよシ解放するもので
ある。
（発明が解決しようとする問題点）
前記従来の静電チャック部品は、ポリアミック酸の浸漬
コート時に液ブレが生じるために得られたポリアミド樹
脂の絶縁被膜の膜厚が不均一となり易い。
コート時に液ブレが生じるために得られたポリアミド樹
脂の絶縁被膜の膜厚が不均一となり易い。
その結果ウェハを搬送するために静電チャック部品に直
流電圧を印加した際被膜の膜厚が薄い部分が直流の高電
圧に耐えられずに絶縁破壊を起す問題がある。
流電圧を印加した際被膜の膜厚が薄い部分が直流の高電
圧に耐えられずに絶縁破壊を起す問題がある。
本発明は基体の表面全面に亘って絶縁材料の被膜が均一
厚さに形成された静電チャック部品を提供することを目
的とする。
厚さに形成された静電チャック部品を提供することを目
的とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、基体の表面に絶縁材料の被膜を形成して成る
静電チャック部品において、真空度ｌＸ１０ Ｔｏｒ
ｒ以下の真空処理室中で基体温度を原料モノマーの蒸発
温度を超える温度に設定すると＃に１該真空処理室の室
壁内面温度を該基体の温度を超える温度釦設定した状態
で絶縁材料の原料モノマーを蒸発させて基体の表面全面
に亘って絶縁材料の被膜を形成したことを特徴とする。
静電チャック部品において、真空度ｌＸ１０ Ｔｏｒ
ｒ以下の真空処理室中で基体温度を原料モノマーの蒸発
温度を超える温度に設定すると＃に１該真空処理室の室
壁内面温度を該基体の温度を超える温度釦設定した状態
で絶縁材料の原料モノマーを蒸発させて基体の表面全面
に亘って絶縁材料の被膜を形成したことを特徴とする。
ここで基体としてはアルミニウムが好適である。
また被膜の絶縁材料の種類としてはポリイミド樹脂が好
適であって、絶縁材料としてポリイミド樹脂を用いた時
は、そのポリイミド樹脂の一方の原料モノマーに用いる
芳香族二無水物としてはビ田メリト酸二無水物、ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、ベンゼンテトラカ
ルボン酸二無水物が好適であシ、また他方の原料モノマ
ーに用いる芳香族ジアミンとしては、４．４′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、或いはシリル化ジアミンとして
Ｆｉ４．４’−ジシリルアミノフェニルエーテル、Ｐ−
ジシリルアミノベンゼンが好適である。
適であって、絶縁材料としてポリイミド樹脂を用いた時
は、そのポリイミド樹脂の一方の原料モノマーに用いる
芳香族二無水物としてはビ田メリト酸二無水物、ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、ベンゼンテトラカ
ルボン酸二無水物が好適であシ、また他方の原料モノマ
ーに用いる芳香族ジアミンとしては、４．４′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、或いはシリル化ジアミンとして
Ｆｉ４．４’−ジシリルアミノフェニルエーテル、Ｐ−
ジシリルアミノベンゼンが好適である。
また、真空処理室の真空度をＩ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒ
以下に設定するのは、真空度が１ ×１０−！Ｔｏｒｒ
を越えると、原料モノマーを真空処理室内に設けられた
蒸発用容器から蒸発させる場合は、該蒸発用容器の近傍
の、また原料モノマーを真空処理室の外部で蒸発させて
、これを導入管を介して該直空処理室内に導入する場合
は、該導入管の流出口近傍の真空処理室の室壁等に原料
モノマーが付着してしまい、原料モノマーが真空処理室
の全空間に亘って均一に分散しないからであるが、製造
速度の観点からＩ Ｘ １０ ”” ’Ｉ”ｏｒｒ程度
までとするのが好ましい。
以下に設定するのは、真空度が１ ×１０−！Ｔｏｒｒ
を越えると、原料モノマーを真空処理室内に設けられた
蒸発用容器から蒸発させる場合は、該蒸発用容器の近傍
の、また原料モノマーを真空処理室の外部で蒸発させて
、これを導入管を介して該直空処理室内に導入する場合
は、該導入管の流出口近傍の真空処理室の室壁等に原料
モノマーが付着してしまい、原料モノマーが真空処理室
の全空間に亘って均一に分散しないからであるが、製造
速度の観点からＩ Ｘ １０ ”” ’Ｉ”ｏｒｒ程度
までとするのが好ましい。
基体の温度を原料モノマーの蒸発温度を超える温度にす
るのは、原料モノマー単独では基体上に付着しないよう
にして、主として基体に衝突すると同時に該基体上で重
合する原料モノマーで順次均一な組成の合成樹脂被膜が
形成されるようにするためである。尚、原料モノマーが
２種以上の場合には、該基体の温度はこれら原料モノマ
ーの蒸発温度のうちの最高温度を越える温度に設定する
。
るのは、原料モノマー単独では基体上に付着しないよう
にして、主として基体に衝突すると同時に該基体上で重
合する原料モノマーで順次均一な組成の合成樹脂被膜が
形成されるようにするためである。尚、原料モノマーが
２種以上の場合には、該基体の温度はこれら原料モノマ
ーの蒸発温度のうちの最高温度を越える温度に設定する
。
また、真空処理室の室壁内面温度を基体の温度を超える
温度に設定するのは、原料モノマー或いはその重合物が
該室壁内面よシも基体に付着しやすいようにするためで
ある。
温度に設定するのは、原料モノマー或いはその重合物が
該室壁内面よシも基体に付着しやすいようにするためで
ある。
（実施例）
以下、添付図面に従って本発明を説明する。
第１図は本発明品の１実施例を示すものである。
図面で、（ｌ）は静電チャック部品であって、該静電チ
ャック部品（１）は例えばアルミニウム材から成る基体
（２）の表面全面に亘って後記する蒸着重合方法によっ
て形成された例えばポリイミド樹脂から成る絶縁材料の
膜厚が２０ｐの均一な被膜（３）を備えるものであって
、その基体（２）の前面側は平滑に形成し、基体（２）
の後面側はその周縁に全周知亘って鍔部（４）に設は全
体を断面ど＝３形状に形成した。そして静電チャック部
品（１）を帯電させた際に基体（２）の平滑に形成され
た前面劇でウェハを吸着保持するようだし、また静電チ
ャック部品（１）を係止部（５）を備える筒状のホルダ
ー（６）に嵌着した際に後面側の周縁の鍔部（４）がホ
ルダー（６）の係止部（５）Ｋ係止して静電チャック部
品（１）がホルダー（６）に安定状態に維持されるよう
にした。
ャック部品（１）は例えばアルミニウム材から成る基体
（２）の表面全面に亘って後記する蒸着重合方法によっ
て形成された例えばポリイミド樹脂から成る絶縁材料の
膜厚が２０ｐの均一な被膜（３）を備えるものであって
、その基体（２）の前面側は平滑に形成し、基体（２）
の後面側はその周縁に全周知亘って鍔部（４）に設は全
体を断面ど＝３形状に形成した。そして静電チャック部
品（１）を帯電させた際に基体（２）の平滑に形成され
た前面劇でウェハを吸着保持するようだし、また静電チ
ャック部品（１）を係止部（５）を備える筒状のホルダ
ー（６）に嵌着した際に後面側の周縁の鍔部（４）がホ
ルダー（６）の係止部（５）Ｋ係止して静電チャック部
品（１）がホルダー（６）に安定状態に維持されるよう
にした。
次に前記構成の静電チャック部品［１１を得るために基
体（２）の表面全面に亘って絶縁材料の被膜（３）を蒸
着重合で形成する方法について詳細に説明する。第２図
は基体（２）に絶縁材料の被膜（３）を形成するために
用いる装置の一例を示すものであシ、図面で（７）はス
テンレス製容器から成る真空処理室を示し、該処理室（
７）内を外部の真空ポンプその他の真空排気系（８）に
接続すると共に、該処理室（７）の中央に適宜な手段に
よシ基体（２］を保持すると共に該基体（２）の上方に
、原料モノマーＡ、Ｂを蒸発させるための蒸発用容器（
９１、＋９１をその各蒸発口σαを上向きにして設けで
ある。
体（２）の表面全面に亘って絶縁材料の被膜（３）を蒸
着重合で形成する方法について詳細に説明する。第２図
は基体（２）に絶縁材料の被膜（３）を形成するために
用いる装置の一例を示すものであシ、図面で（７）はス
テンレス製容器から成る真空処理室を示し、該処理室（
７）内を外部の真空ポンプその他の真空排気系（８）に
接続すると共に、該処理室（７）の中央に適宜な手段に
よシ基体（２］を保持すると共に該基体（２）の上方に
、原料モノマーＡ、Ｂを蒸発させるための蒸発用容器（
９１、＋９１をその各蒸発口σαを上向きにして設けで
ある。
また、該真空処理室（７）の外周に加熱用ヒータ０υを
巻回し、該真空処理室（７）の室壁ｔｉｚの加熱によっ
て該真空処理室（７）内を所望温度に加熱出来るようＫ
した。
巻回し、該真空処理室（７）の室壁ｔｉｚの加熱によっ
て該真空処理室（７）内を所望温度に加熱出来るようＫ
した。
先ず、真空処理室（７）を大気圧状態にして、蒸発用容
器ｉ９１、＋９１の一方に原料モノマーＡとしてピロメ
リト酸二無水物と、他方に原料モノマー１として４．４
′−ジアミノジフェニルエーテルとを各１ｇづつ充填す
る。
器ｉ９１、＋９１の一方に原料モノマーＡとしてピロメ
リト酸二無水物と、他方に原料モノマー１として４．４
′−ジアミノジフェニルエーテルとを各１ｇづつ充填す
る。
次で、ヒータｒｉＢを１５０℃に加熱して、真空処理室
（７）内を１５０°Ｃ近くに昇温し、原料モノマーＡ、
Ｂと基体（２］とを夫々１５０℃近くに加熱する。
（７）内を１５０°Ｃ近くに昇温し、原料モノマーＡ、
Ｂと基体（２］とを夫々１５０℃近くに加熱する。
かかる温度設定によれば、真空処理室（７）内をＩ Ｘ
ｌ ０−’Ｔｏｒｒ Ｋ排気すると、原料モノ−ｒ −
Ａ 。
ｌ ０−’Ｔｏｒｒ Ｋ排気すると、原料モノ−ｒ −
Ａ 。
Ｂの昇華は開始するが、該原料モノマーＡ、 Ｂ各単独
では、基体（２）上にはもとよシ、室壁ａ３の内面（１
２＆）に付着しない。
では、基体（２）上にはもとよシ、室壁ａ３の内面（１
２＆）に付着しない。
次で、真空処理室（７）内を真空排気系（８）を介して
Ｉ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒに設定すると共にヒータα
Ｂを２００°Ｃに加熱して、該処理室（７）内を徐々に
２００°Ｃ近くに昇温し、原料モノマーＡ、Ｂと基体（
２）とを夫々徐々に２００°Ｃ近くに加熱する。かくし
て、原料モノマーＡ、Ｂは昇華するが、原料モノマーＡ
、Ｂ各単独では原料モノマーＡ１Ｂの昇華温度以上とな
っている基体（２）や室壁（１２１の内面（１２ａ）に
は付着しないので、該処理室（７）内に原料モノマーＡ
、Ｂが均一に分散することとなり、しかも、室壁α２の
内面（１２＆）はヒータ（１１１によって直接加熱され
て即時に２００°Ｃに昇温し、基体（２）よシも常に高
温状態となっておシ、原料モノマーＡ、Ｅ或いは、その
重合物は、室壁α２の内面（１２ｍ）よシは基体（２）
の方に付着しやすい状態となって、該原料モノマー人、
ＢＫよって基体（２）の表面全面に亘って２０声の均一
な膜厚でもって、しかも化学量論的な組成比で、ポリイ
ミド樹脂から成る絶縁材料の被膜（３）が形成された。
Ｉ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒに設定すると共にヒータα
Ｂを２００°Ｃに加熱して、該処理室（７）内を徐々に
２００°Ｃ近くに昇温し、原料モノマーＡ、Ｂと基体（
２）とを夫々徐々に２００°Ｃ近くに加熱する。かくし
て、原料モノマーＡ、Ｂは昇華するが、原料モノマーＡ
、Ｂ各単独では原料モノマーＡ１Ｂの昇華温度以上とな
っている基体（２）や室壁（１２１の内面（１２ａ）に
は付着しないので、該処理室（７）内に原料モノマーＡ
、Ｂが均一に分散することとなり、しかも、室壁α２の
内面（１２＆）はヒータ（１１１によって直接加熱され
て即時に２００°Ｃに昇温し、基体（２）よシも常に高
温状態となっておシ、原料モノマーＡ、Ｅ或いは、その
重合物は、室壁α２の内面（１２ｍ）よシは基体（２）
の方に付着しやすい状態となって、該原料モノマー人、
ＢＫよって基体（２）の表面全面に亘って２０声の均一
な膜厚でもって、しかも化学量論的な組成比で、ポリイ
ミド樹脂から成る絶縁材料の被膜（３）が形成された。
かくして得られた静電チャック部品（１）は基体（２）
の表面全面に亘って、均一な膜厚であって、緻密でかつ
高純度で更に基体（２Ｊに対して優れた密着性を有する
絶縁材料の被膜（３）が形成されているため、ウェハを
搬送する際静電チャック部品（１）に直流の高電圧が印
加されても絶縁破壊を起すことがない。
の表面全面に亘って、均一な膜厚であって、緻密でかつ
高純度で更に基体（２Ｊに対して優れた密着性を有する
絶縁材料の被膜（３）が形成されているため、ウェハを
搬送する際静電チャック部品（１）に直流の高電圧が印
加されても絶縁破壊を起すことがない。
また基体（２）の表面への被膜（３）の形成を前記全方
向同時蒸着重合法で行うようにしたので、静電チャック
部品（１）の基体（２）がいかなる形状であっても、そ
の表面全面に亘って形成された被膜（３）は均一な膜厚
であり、更に形成される膜厚を任意に設定出来る。
向同時蒸着重合法で行うようにしたので、静電チャック
部品（１）の基体（２）がいかなる形状であっても、そ
の表面全面に亘って形成された被膜（３）は均一な膜厚
であり、更に形成される膜厚を任意に設定出来る。
従って静電チャックに本発明品の静電チャック部品（１
）を用いたとき絶縁破壊を起すことなく長期間に亘って
使用出来る。
）を用いたとき絶縁破壊を起すことなく長期間に亘って
使用出来る。
（発明の効果）
このように本発明によるときは、静電チャツり部品の絶
縁材料の被膜として、真空度１×１０Ｔｏｒｒ以下の真
空処理室中で基体温度を原料モノマーの蒸発温度を超え
る温度に設定すると共に、該真空処理室の室壁内面温度
を該基体の温度を超える温度だ設定した状態で該絶縁材
料の原料モノマーを蒸発させるようにして、該基体の表
面全面に亘って形成した絶縁材料の被膜を備えるように
したので、絶縁材料の被膜は均一な漠厚であって、緻密
でかつ高純度で、更に基体に対して優れた密着性を有す
るため、直流の高電圧が印加されても絶縁破壊を起すこ
となく長期間に亘って使用出来る等の効果を有する。
縁材料の被膜として、真空度１×１０Ｔｏｒｒ以下の真
空処理室中で基体温度を原料モノマーの蒸発温度を超え
る温度に設定すると共に、該真空処理室の室壁内面温度
を該基体の温度を超える温度だ設定した状態で該絶縁材
料の原料モノマーを蒸発させるようにして、該基体の表
面全面に亘って形成した絶縁材料の被膜を備えるように
したので、絶縁材料の被膜は均一な漠厚であって、緻密
でかつ高純度で、更に基体に対して優れた密着性を有す
るため、直流の高電圧が印加されても絶縁破壊を起すこ
となく長期間に亘って使用出来る等の効果を有する。
第１図は本発明品の静電チャック部品の一実施例を示す
裁断側面図、第２図は本発明品の静電チャック部品を用
いた静電チャック部品を作成するために用いる装置の一
例を示す裁断面図、第３図は静電チャック部品を用いた
静電チャックの説明線図である。 ［１１・・・静電チャック部品 （２］・・・基体（
３）・・・被膜 （７）・・・真空処理室α
２・・・室壁 （１２＆）・・・室壁内面Ａ
、Ｂ・・・原料モノマー 外２名
裁断側面図、第２図は本発明品の静電チャック部品を用
いた静電チャック部品を作成するために用いる装置の一
例を示す裁断面図、第３図は静電チャック部品を用いた
静電チャックの説明線図である。 ［１１・・・静電チャック部品 （２］・・・基体（
３）・・・被膜 （７）・・・真空処理室α
２・・・室壁 （１２＆）・・・室壁内面Ａ
、Ｂ・・・原料モノマー 外２名
Claims (1)
- 基体の表面に絶縁材料の被膜を形成して成る静電チャ
ック部品において、真空度１×１０＾−＾２Ｔｏｒｒ以
下の真空処理室中で基体温度を原料モノマーの蒸発温度
を超える温度に設定すると共に、該真空処理室の室壁内
面温度を該基体の温度を超える温度に設定した状態で絶
縁材料の原料モノマーを蒸発させて基体の表面全面に亘
つて絶縁材料の被膜を形成したことを特徴とする静電チ
ャック部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62011445A JPH0643629B2 (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 | 静電チャック部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62011445A JPH0643629B2 (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 | 静電チャック部品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63181345A true JPS63181345A (ja) | 1988-07-26 |
| JPH0643629B2 JPH0643629B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=11778293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62011445A Expired - Lifetime JPH0643629B2 (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 | 静電チャック部品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0643629B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0725426A2 (en) * | 1995-01-31 | 1996-08-07 | Applied Materials, Inc. | High temperature polymide electrostatic chuck |
| JP2010165805A (ja) * | 2009-01-14 | 2010-07-29 | Toto Ltd | 静電チャックおよび静電チャックの製造方法 |
| JP2010238909A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Toto Ltd | 静電チャックおよび静電チャックの製造方法 |
| JP2010258280A (ja) * | 2009-04-27 | 2010-11-11 | Toto Ltd | 静電チャックおよび静電チャックの製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5343903A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-20 | Minoru Kuroda | Vibration generating machine |
-
1987
- 1987-01-22 JP JP62011445A patent/JPH0643629B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5343903A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-20 | Minoru Kuroda | Vibration generating machine |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP0725426A2 (en) * | 1995-01-31 | 1996-08-07 | Applied Materials, Inc. | High temperature polymide electrostatic chuck |
| EP0725426A3 (ja) * | 1995-01-31 | 1996-08-28 | Applied Materials Inc | |
| JP2010165805A (ja) * | 2009-01-14 | 2010-07-29 | Toto Ltd | 静電チャックおよび静電チャックの製造方法 |
| JP2010238909A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Toto Ltd | 静電チャックおよび静電チャックの製造方法 |
| JP2010258280A (ja) * | 2009-04-27 | 2010-11-11 | Toto Ltd | 静電チャックおよび静電チャックの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0643629B2 (ja) | 1994-06-08 |
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