JPS63178215A - 液晶表示素子用配向膜の形成方法 - Google Patents
液晶表示素子用配向膜の形成方法Info
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- JPS63178215A JPS63178215A JP1018387A JP1018387A JPS63178215A JP S63178215 A JPS63178215 A JP S63178215A JP 1018387 A JP1018387 A JP 1018387A JP 1018387 A JP1018387 A JP 1018387A JP S63178215 A JPS63178215 A JP S63178215A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、液晶表示素子の基板内面に形成する配向膜の
形成方法に間する。
形成方法に間する。
「従来の技術」
従来より、液晶表示素子の配向膜形成方法としては、■
基板上に酸化珪素等の斜方蒸着膜を形成する方法、■宵
機シラン系化合物を浸漬等により塗布し熱処理を施して
成膜した後ラヒング処理する方法、あるいは■ポリアミ
ック酸(ポリイミドの前駆体)をスピンナー、浸漬、オ
フセット印刷等により塗布し熱処理を施して成膜した後
ラビング処理する方法等が知られでいる。
基板上に酸化珪素等の斜方蒸着膜を形成する方法、■宵
機シラン系化合物を浸漬等により塗布し熱処理を施して
成膜した後ラヒング処理する方法、あるいは■ポリアミ
ック酸(ポリイミドの前駆体)をスピンナー、浸漬、オ
フセット印刷等により塗布し熱処理を施して成膜した後
ラビング処理する方法等が知られでいる。
「発明が解決しようとする問題点」
しかしながら、これらの方法にはそれぞれ以下に述べる
ような欠点があった。
ような欠点があった。
すなわち、■の酸化珪素等の斜方蒸着膜は、液晶物質の
種類によって配向能に差があり、全く配向しないような
液晶物質も存在する。これは液晶の温度特性あるいは電
気光学特性を改善するために、各種の液晶を混合して使
用する場合に非常に大きなIII杏となっていた。又、
バッチ処理しかできず、しかも装置が大がかりなものと
なるため、量産には適しでいなかった。また、■、■の
有機シラン系化合物やポリアミック酸等を用いて膜を形
成し、ラビング処理する方法は、簡単で量産に適してい
るが、再現性の良好な膜を得ることが困難であり、安定
した良好な配向性を得ることが難しかった。特に、近年
注目されでいるカイラルスメクティック液晶を用いた表
面安定化強誘電液晶セルにおいでは、分子オーダーの微
細な配向制御が望まれでいるが、そのような用途におい
ては充分に目的を達成することが不可能であった。
種類によって配向能に差があり、全く配向しないような
液晶物質も存在する。これは液晶の温度特性あるいは電
気光学特性を改善するために、各種の液晶を混合して使
用する場合に非常に大きなIII杏となっていた。又、
バッチ処理しかできず、しかも装置が大がかりなものと
なるため、量産には適しでいなかった。また、■、■の
有機シラン系化合物やポリアミック酸等を用いて膜を形
成し、ラビング処理する方法は、簡単で量産に適してい
るが、再現性の良好な膜を得ることが困難であり、安定
した良好な配向性を得ることが難しかった。特に、近年
注目されでいるカイラルスメクティック液晶を用いた表
面安定化強誘電液晶セルにおいでは、分子オーダーの微
細な配向制御が望まれでいるが、そのような用途におい
ては充分に目的を達成することが不可能であった。
「問題点を解決するための手段」
本発明の液晶表示素子用配向膜の形成方法は、リオトロ
ピック液晶を形成する化合物を非水系の有機溶媒に溶解
し、該溶液を水面上に滴下して単分子膜を形成した後、
該単分子膜を凝集してリオトロピック液晶膜を形成し、
電極を設けた基板を前記リオトロピック液晶膜に対して
略垂直方向に浸漬及び引き上げを繰り返して、前記基板
及び電極上にリオトロピック液晶膜の多層膜を形成する
ことを特徴とする。
ピック液晶を形成する化合物を非水系の有機溶媒に溶解
し、該溶液を水面上に滴下して単分子膜を形成した後、
該単分子膜を凝集してリオトロピック液晶膜を形成し、
電極を設けた基板を前記リオトロピック液晶膜に対して
略垂直方向に浸漬及び引き上げを繰り返して、前記基板
及び電極上にリオトロピック液晶膜の多層膜を形成する
ことを特徴とする。
リオトロピック液晶を形成する化合物としては、比較的
長鎖の分子で親木基と疎水基とを有する化合物が使用さ
れ、例えばポリーγ−ヘンシルーL−グルタメートや1
2−ヒトロキシオクラデカノイック酸が用いられる。
長鎖の分子で親木基と疎水基とを有する化合物が使用さ
れ、例えばポリーγ−ヘンシルーL−グルタメートや1
2−ヒトロキシオクラデカノイック酸が用いられる。
また、非水系の有機溶媒としては、例えばベンゼンやク
ロロフォルム等か用いられる。
ロロフォルム等か用いられる。
リオトロピック液晶を形成する化合物を非水系の有機溶
媒に溶かし、この溶液を清浄な水面上に滴下すると、リ
オトロどツク液晶を形成する化合物が水面上に分散した
単分子膜が形成される。
媒に溶かし、この溶液を清浄な水面上に滴下すると、リ
オトロどツク液晶を形成する化合物が水面上に分散した
単分子膜が形成される。
そして、例えばテフロンなどの仕切板で水面をこすりな
がら、上記単分子膜の面積を縮小させ、リオトロピック
液晶を形成する化合物を凝集させると、リオトロピック
液晶が形成される。
がら、上記単分子膜の面積を縮小させ、リオトロピック
液晶を形成する化合物を凝集させると、リオトロピック
液晶が形成される。
この状態L、電極を形成した基板を水面に対して略垂直
に浸漬しあるいは引き上げると、水面上に形成された単
分子膜が基板面に移しとられ、基板面に18 (Lan
9muir−81od9ett)膜と称される分子が層
状に整列した単分子膜が形成される。そして、基板の浸
漬、引上げ@繰返すことにより、基板面に上記単分子膜
の多層膜を形成することができる。
に浸漬しあるいは引き上げると、水面上に形成された単
分子膜が基板面に移しとられ、基板面に18 (Lan
9muir−81od9ett)膜と称される分子が層
状に整列した単分子膜が形成される。そして、基板の浸
漬、引上げ@繰返すことにより、基板面に上記単分子膜
の多層膜を形成することができる。
こうして、層状の分子組繊を有する多層膜を基板及び電
極上に形成した猜、基板を例えば50〜200℃(溶媒
によって異なる)にて加熱し、溶媒を飛散させることに
よって、配向膜を形成することができる。
極上に形成した猜、基板を例えば50〜200℃(溶媒
によって異なる)にて加熱し、溶媒を飛散させることに
よって、配向膜を形成することができる。
なお、本発明において、上記単分子膜の多層膜は、−(
疎水基−親水基)−(12水基−疎水基)−(疎水基−
親木基)−のような重なり構造を有するいわゆるYll
であってもよく、−(疎水基−親水基)−(疎水基−親
水基)−(疎水基−親水基)−のような重なり構造を有
するいわゆるX膜であってもよい、前者は、基板の浸漬
、引上げの両方の際に単分子膜が移しとられるようにす
ることで形成でき、後者は、基板の浸漬、引上げのいず
れかの際に単分子膜が移しとられるようにすることで形
成できる。
疎水基−親水基)−(12水基−疎水基)−(疎水基−
親木基)−のような重なり構造を有するいわゆるYll
であってもよく、−(疎水基−親水基)−(疎水基−親
水基)−(疎水基−親水基)−のような重なり構造を有
するいわゆるX膜であってもよい、前者は、基板の浸漬
、引上げの両方の際に単分子膜が移しとられるようにす
ることで形成でき、後者は、基板の浸漬、引上げのいず
れかの際に単分子膜が移しとられるようにすることで形
成できる。
「作用」
こうして形成された配向膜は、基板の浸漬、引上げ方向
と、それと直交する方向とで光学的異方性を有しており
、それによって液晶に配向性をもたらすことができる。
と、それと直交する方向とで光学的異方性を有しており
、それによって液晶に配向性をもたらすことができる。
また、単分子層を積層することにより分子オーダーでの
配向膜制御が可能となるので、再現性のよい良好な配向
性を得ることが可能となる。
配向膜制御が可能となるので、再現性のよい良好な配向
性を得ることが可能となる。
「実施例」
(実施例1)
市販のLB膜作製装置FSD−20型(サンニス計測■
製)を用いて配向膜の形成を行なった。
製)を用いて配向膜の形成を行なった。
まず、リオトロピック液晶を形成する化合物としてポリ
−r−へンジルーし一グルタメートを用い、この化合物
を非水溶媒としてのベンゼンに1wt%溶解させる。そ
して、この溶液を純水4の上に滴下して拡散する。第1
図は、その拡散状態を模式的に示した図であり、水面上
で拡散したポリーr−ベンジル−し一グルタメートの単
分子1は、疎水基2と親水基3とを有している。
−r−へンジルーし一グルタメートを用い、この化合物
を非水溶媒としてのベンゼンに1wt%溶解させる。そ
して、この溶液を純水4の上に滴下して拡散する。第1
図は、その拡散状態を模式的に示した図であり、水面上
で拡散したポリーr−ベンジル−し一グルタメートの単
分子1は、疎水基2と親水基3とを有している。
次に、第2図に示すようにテフロン製の仕切板6を水面
に置き、矢印Aの方向に40mm/分の速度で移動させ
、単分子1の凝集化をおこなってリオトロピック液晶膜
7を形成する。このリオトロピック液晶膜7の形成に際
し、第3図に示すように仕切板6にかかる表面圧力Pは
、リオトロピック液晶膜7の表面積Wが縮小するにつれ
て増大するが、表面圧力Pが急激に高まるところまで仕
切板6を移動する。すなわち、その時点で単分子1が凝
集して液体凝集膜か形成されるがらである。
に置き、矢印Aの方向に40mm/分の速度で移動させ
、単分子1の凝集化をおこなってリオトロピック液晶膜
7を形成する。このリオトロピック液晶膜7の形成に際
し、第3図に示すように仕切板6にかかる表面圧力Pは
、リオトロピック液晶膜7の表面積Wが縮小するにつれ
て増大するが、表面圧力Pが急激に高まるところまで仕
切板6を移動する。すなわち、その時点で単分子1が凝
集して液体凝集膜か形成されるがらである。
ただし、それ以上に仕切板6を移動させて表面積Wを縮
小した場合には、単分子の膜が破壊されるので、表面圧
力Pが常に一定になるように調整することが必要である
。
小した場合には、単分子の膜が破壊されるので、表面圧
力Pが常に一定になるように調整することが必要である
。
その後、第4図のように石英製の基板8を液面に垂直に
浸漬して基板表面にリオトロピック液晶膜7を付着させ
、引き上げるという作業を100回あごない、第5図の
ようなりオトロビック液晶の多層膜9を形成する。この
場合、多層膜9は、−(疎水基−親水基)−C8本基−
疎水基)−(疎水基−親木基)−のよらな重なり構造を
有するいわゆるY膜となっている。なあ、りオトロビッ
ク液晶膜7が基板8表面に付着するに伴ない、仕切板6
を徐々に第2図中矢印へ方向に移動させて、前述したよ
うに表面圧力Pを一定に保つようにする。
浸漬して基板表面にリオトロピック液晶膜7を付着させ
、引き上げるという作業を100回あごない、第5図の
ようなりオトロビック液晶の多層膜9を形成する。この
場合、多層膜9は、−(疎水基−親水基)−C8本基−
疎水基)−(疎水基−親木基)−のよらな重なり構造を
有するいわゆるY膜となっている。なあ、りオトロビッ
ク液晶膜7が基板8表面に付着するに伴ない、仕切板6
を徐々に第2図中矢印へ方向に移動させて、前述したよ
うに表面圧力Pを一定に保つようにする。
このようにして多層膜9を形成した後、基板8ヲ80℃
で30分間乾燥し、非水溶媒(ヘンセン)を蒸発させて
多層膜9からなる配向膜泡形成することができる。
で30分間乾燥し、非水溶媒(ヘンセン)を蒸発させて
多層膜9からなる配向膜泡形成することができる。
こうして得られた基板8に対し、偏光板をその偏光軸が
基板8の浸漬、引き上げ方向と平行な方向、および基板
8の浸漬、引き上げ方向と垂直な方向に配置して、それ
ぞれ吸収スベストルを測定した結果を第6図に示す0図
中aは偏光板の偏光軸を基板の浸漬、引き上げ方向に対
して平行に配置した場合であり、bは偏光板の偏光軸を
基板の浸漬、引き上げ方向に対して垂直に配置した場合
である。この結果、ピーク波長での吸光度の比は約3.
2と大きく、基板上に形成された配向膜は配列に大きな
異方性が存在することがわかった。このことは、液晶配
向膜として優れた特at有すること¥!意味している。
基板8の浸漬、引き上げ方向と平行な方向、および基板
8の浸漬、引き上げ方向と垂直な方向に配置して、それ
ぞれ吸収スベストルを測定した結果を第6図に示す0図
中aは偏光板の偏光軸を基板の浸漬、引き上げ方向に対
して平行に配置した場合であり、bは偏光板の偏光軸を
基板の浸漬、引き上げ方向に対して垂直に配置した場合
である。この結果、ピーク波長での吸光度の比は約3.
2と大きく、基板上に形成された配向膜は配列に大きな
異方性が存在することがわかった。このことは、液晶配
向膜として優れた特at有すること¥!意味している。
なお、この実施例では、吸収スペクトルを測定すること
のみを目的としたため、基板面に電極を形成しないで行
なったが、電極を形成した後、上記の操作を行なっても
同様な配向膜が形成できる。
のみを目的としたため、基板面に電極を形成しないで行
なったが、電極を形成した後、上記の操作を行なっても
同様な配向膜が形成できる。
ことは勿論である。
(実施例2)
基板としてガラス製の基板を2枚用い、これらの基板に
所定バクーンの透明電極を形成した徳、前記実施例1と
同様にして各々の基板上にポリーr−ベンジル−し一グ
ルクメート単分子膜の多層膜からなる配向膜を形成した
。そして、それぞれの基板の光学的異方性の方向(すな
わち基板の浸漬、引き上げ方向)が互いに直交するよう
に対向して配置し、基板間隙ヲ10umにしてセルを形
成した。このセル内に、市販のとフェニル系液晶rGR
−61J C商品名、チッソM製) 100 MIN
Kにコレステリルノナノエート0.2重量部を添加した
液晶組成物を注入し、ツイストネマチック型液晶表示素
子を作製し、電圧を印加したところ、コントラストに優
れ、鮮明で良好な表示品位が得られた。
所定バクーンの透明電極を形成した徳、前記実施例1と
同様にして各々の基板上にポリーr−ベンジル−し一グ
ルクメート単分子膜の多層膜からなる配向膜を形成した
。そして、それぞれの基板の光学的異方性の方向(すな
わち基板の浸漬、引き上げ方向)が互いに直交するよう
に対向して配置し、基板間隙ヲ10umにしてセルを形
成した。このセル内に、市販のとフェニル系液晶rGR
−61J C商品名、チッソM製) 100 MIN
Kにコレステリルノナノエート0.2重量部を添加した
液晶組成物を注入し、ツイストネマチック型液晶表示素
子を作製し、電圧を印加したところ、コントラストに優
れ、鮮明で良好な表示品位が得られた。
(実施例3)
実施例2と同様にして2枚の基板に配向Sを形成した後
、基板間隙を2uとし、配向膜の異方性の方向がアンチ
パラレル(基板の引き上げ方向が互いに平行でかつ正反
対の方向)となるように基板を対向配置してセルを構成
する。そして、このセル内に、p−n−decylox
y benzilidene−p’−amino(2−
methylbutyl)cinnamate(略称0
0BAM8C)からなるカイラルスメクティックC液晶
1v>主入し、表面安定化強誘電液晶セルを作製した。
、基板間隙を2uとし、配向膜の異方性の方向がアンチ
パラレル(基板の引き上げ方向が互いに平行でかつ正反
対の方向)となるように基板を対向配置してセルを構成
する。そして、このセル内に、p−n−decylox
y benzilidene−p’−amino(2−
methylbutyl)cinnamate(略称0
0BAM8C)からなるカイラルスメクティックC液晶
1v>主入し、表面安定化強誘電液晶セルを作製した。
この液晶表示素子に電圧を印加したところ、コシトラス
トが高く、鮮明で良好な表示品位が得られた。また、温
度90℃の環境下においでも良好な配向性を示し、安定
した表示か得られた。
トが高く、鮮明で良好な表示品位が得られた。また、温
度90℃の環境下においでも良好な配向性を示し、安定
した表示か得られた。
「発明の効果」
以上説明したように、本発明によれば、水面上に単分子
膜を凝集してリオトロビ・ンク液晶膜を形成し、基板を
浸漬し、引き上げてこの液晶膜を基板表面に移した1&
、加熱して配向膜を形成するようにしたので、分子オー
ダーでの配向膜制御が可能となり、良好な特性を有する
配向膜を再現性よく形成することが可能となり、その結
果、コントラストが高く鮮明で良好な表示品位を有する
液晶表示素子を得ることが可能となる。
膜を凝集してリオトロビ・ンク液晶膜を形成し、基板を
浸漬し、引き上げてこの液晶膜を基板表面に移した1&
、加熱して配向膜を形成するようにしたので、分子オー
ダーでの配向膜制御が可能となり、良好な特性を有する
配向膜を再現性よく形成することが可能となり、その結
果、コントラストが高く鮮明で良好な表示品位を有する
液晶表示素子を得ることが可能となる。
第1図は、本発明の一工程である単分子膜の水面への拡
散状態を示す概念図、第2図は本発明の一工程であるリ
オトロピック液晶膜の形成を示す概念図、第3図はその
工程におけるリオトロピック液晶膜の表面圧力と表面積
との関係を示す平面図、第4図は本発明の一工程である
基板浸漬によるリオトロピック液晶膜の付着状態を示す
概念図、第5図は本発明により基板面に形成された多層
膜の一例を示す概念図、第6図は本発明により配向膜を
形成した基板の吸収スペクトルを示すグラフである。 1・・・単分子、2・・・疎水基、3・・・親木基、4
・・・水、5・・・容器、6・・・仕切板、7・・・リ
オトロピック液晶、8・・・基板、9・・・多層膜 特許出願人 アルプス電気株式会社 代理人 弁理士 三浦 邦夫 同 弁理士 松井 茂 第2図
散状態を示す概念図、第2図は本発明の一工程であるリ
オトロピック液晶膜の形成を示す概念図、第3図はその
工程におけるリオトロピック液晶膜の表面圧力と表面積
との関係を示す平面図、第4図は本発明の一工程である
基板浸漬によるリオトロピック液晶膜の付着状態を示す
概念図、第5図は本発明により基板面に形成された多層
膜の一例を示す概念図、第6図は本発明により配向膜を
形成した基板の吸収スペクトルを示すグラフである。 1・・・単分子、2・・・疎水基、3・・・親木基、4
・・・水、5・・・容器、6・・・仕切板、7・・・リ
オトロピック液晶、8・・・基板、9・・・多層膜 特許出願人 アルプス電気株式会社 代理人 弁理士 三浦 邦夫 同 弁理士 松井 茂 第2図
Claims (3)
- (1)リオトロピック液晶を形成する化合物を非水系の
有機溶媒に溶解し、該溶液を水面上に滴下して単分子膜
を形成した後、該単分子膜を凝集してリオトロピック液
晶膜を形成し、電極を設けた基板を前記リオトロピック
液晶膜に対して略垂直方向に浸漬及び引き上げを繰り返
して、前記基板及び電極上にリオトロピック液晶の多層
膜を形成することを特徴とする液晶表示素子用配向膜の
形成方法。 - (2)前記リオトロピック液晶を形成する化合物として
ポリr−ベンジル−L−グルタメートを用いる特許請求
の範囲第1項記載の液晶表示素子用配向膜の形成方法。 - (3)前記リオトロピック液晶を形成する化合物として
12−ヒドロキシオクタデカノイック酸を用いる特許請
求の範囲第1項記載の液晶表示素子用配向膜の形成方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1018387A JPS63178215A (ja) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | 液晶表示素子用配向膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1018387A JPS63178215A (ja) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | 液晶表示素子用配向膜の形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63178215A true JPS63178215A (ja) | 1988-07-22 |
Family
ID=11743175
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1018387A Pending JPS63178215A (ja) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | 液晶表示素子用配向膜の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63178215A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0315472A2 (en) * | 1987-11-06 | 1989-05-10 | CHINOIN Gyogyszer és Vegyészeti Termékek Gyára RT. | Multiphase systems |
-
1987
- 1987-01-20 JP JP1018387A patent/JPS63178215A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0315472A2 (en) * | 1987-11-06 | 1989-05-10 | CHINOIN Gyogyszer és Vegyészeti Termékek Gyára RT. | Multiphase systems |
EP0315472B1 (en) * | 1987-11-06 | 1994-02-16 | CHINOIN Gyogyszer és Vegyészeti Termékek Gyára RT. | Multiphase systems |
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