JPS63167409A - 磁気記録体 - Google Patents
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- JPS63167409A JPS63167409A JP61313399A JP31339986A JPS63167409A JP S63167409 A JPS63167409 A JP S63167409A JP 61313399 A JP61313399 A JP 61313399A JP 31339986 A JP31339986 A JP 31339986A JP S63167409 A JPS63167409 A JP S63167409A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
- G11B5/7369—Two or more non-magnetic underlayers, e.g. seed layers or barrier layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73917—Metallic substrates, i.e. elemental metal or metal alloy substrates
- G11B5/73919—Aluminium or titanium elemental or alloy substrates
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10S428/90—Magnetic feature
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、特に垂直磁気記録に好適な磁気記録体に関
し、基板上に陽極酸化膜を設け、この陽極酸化膜の微細
孔に磁性体を充填し、これを磁性膜とした磁気記録体に
おいて、基板に硬質材料を使用し、磁性体と基板との間
に厚さ０．１〜２μｍのアルミニウム膜またはアルミニ
ウム合金膜を設けることにより、磁性膜の機械的強度、
表面高度を高め、磁性膜の薄膜化が可能となるようにし
たものである。
し、基板上に陽極酸化膜を設け、この陽極酸化膜の微細
孔に磁性体を充填し、これを磁性膜とした磁気記録体に
おいて、基板に硬質材料を使用し、磁性体と基板との間
に厚さ０．１〜２μｍのアルミニウム膜またはアルミニ
ウム合金膜を設けることにより、磁性膜の機械的強度、
表面高度を高め、磁性膜の薄膜化が可能となるようにし
たものである。
従来より、アルミニウムまたはアルミニウム合金からな
る基板に陽極酸化処理を施し、その陽極酸化膜の微細孔
に磁性体を析出、充填してなる磁気記録体が、特に垂直
磁気記録方式に好適であるとして知られている（例えば
、特公昭５１−２１５６２号公報などを参照）。
る基板に陽極酸化処理を施し、その陽極酸化膜の微細孔
に磁性体を析出、充填してなる磁気記録体が、特に垂直
磁気記録方式に好適であるとして知られている（例えば
、特公昭５１−２１５６２号公報などを参照）。
ところで、このような磁気記録体にあっては、磁性体が
充填された陽極酸化膜（以下、磁性膜と云う。）の厚さ
が薄い方が磁気記録密度（Ｄ５ｏ）やオーバライド特性
（０／Ｗ）が良好になることが知られている。第４図の
グラフは、磁性膜の厚さと磁気記録密度およびオーバラ
イド特性との関係を示すもので、このグラフからも磁性
膜の膜厚が薄い方がこれら特性が向上することがわかる
。
充填された陽極酸化膜（以下、磁性膜と云う。）の厚さ
が薄い方が磁気記録密度（Ｄ５ｏ）やオーバライド特性
（０／Ｗ）が良好になることが知られている。第４図の
グラフは、磁性膜の厚さと磁気記録密度およびオーバラ
イド特性との関係を示すもので、このグラフからも磁性
膜の膜厚が薄い方がこれら特性が向上することがわかる
。
しかし、磁性ＦｉｌＡ厚があまり薄くなると磁気ヘッド
からの出力（Ｖｏｕｔ）が減少するため、その膜厚は、
０．５〜１．５μｍの範囲が好適である。
からの出力（Ｖｏｕｔ）が減少するため、その膜厚は、
０．５〜１．５μｍの範囲が好適である。
しかしながら、従来の磁気記録体において、その磁性膜
を薄くしようとすると、磁性膜の機械的強度や表面硬度
が低下し、耐久性が低下する不都合が生じる。これは、
磁性膜自体が硬質の陽極酸化膜で構成されてはいるもの
の下地が比較内軟いアルミニウムまたはアルミニウム合
金からできているため、その軟い下地の影響を受けて磁
性膜の見掛けの剛性が失われるためと思われる。また、
この種の磁気記録体では、磁気記録体の回転の始動時お
よび停止時に磁気ヘッドが磁性膜に接触し、Ｉ？！擦す
ること、磁気記録体自体の微少な凹凸や動作時の振動等
によっても磁気ヘッドと磁性膜とが摩擦することなどの
理由からも磁性膜の機械的強度や表面硬度を高めたいと
云う要望があった。
を薄くしようとすると、磁性膜の機械的強度や表面硬度
が低下し、耐久性が低下する不都合が生じる。これは、
磁性膜自体が硬質の陽極酸化膜で構成されてはいるもの
の下地が比較内軟いアルミニウムまたはアルミニウム合
金からできているため、その軟い下地の影響を受けて磁
性膜の見掛けの剛性が失われるためと思われる。また、
この種の磁気記録体では、磁気記録体の回転の始動時お
よび停止時に磁気ヘッドが磁性膜に接触し、Ｉ？！擦す
ること、磁気記録体自体の微少な凹凸や動作時の振動等
によっても磁気ヘッドと磁性膜とが摩擦することなどの
理由からも磁性膜の機械的強度や表面硬度を高めたいと
云う要望があった。
このように、磁性膜を薄膜化し、その磁気記録特性を畠
めようとすると、磁性膜の機械的強度や表面硬度を高め
ることが必須となるが、上述の理由により磁性膜の薄膜
化は困難であり、また下地が軟いアルミニウムまたはア
ルミニウム合金であることから基板の平行度が得にくく
、この点からも磁性膜をある程度厚くする必要があり、
従来の磁気記録体ではその磁性膜の膜厚は１．５〜２μ
ｍが博さの限界とされていた。
めようとすると、磁性膜の機械的強度や表面硬度を高め
ることが必須となるが、上述の理由により磁性膜の薄膜
化は困難であり、また下地が軟いアルミニウムまたはア
ルミニウム合金であることから基板の平行度が得にくく
、この点からも磁性膜をある程度厚くする必要があり、
従来の磁気記録体ではその磁性膜の膜厚は１．５〜２μ
ｍが博さの限界とされていた。
この発明では、基板をアルミニウムよりも硬質の材料で
構成し、この基板上に陽極酸化膜形成のための厚さ０．
１〜２μｍのアルミニウム膜またはアルミニウム合金膜
を設けることをその解決手段とした。
構成し、この基板上に陽極酸化膜形成のための厚さ０．
１〜２μｍのアルミニウム膜またはアルミニウム合金膜
を設けることをその解決手段とした。
第１図は、この発明の磁気記録体の第１の例を示すもの
で、図中符号１は硬質基板である。この硬質基板１は、
アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる素地１ａ
と、この素地１ａ上に形成された第１の陽？［化膜１ｂ
とからなっている。
で、図中符号１は硬質基板である。この硬質基板１は、
アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる素地１ａ
と、この素地１ａ上に形成された第１の陽？［化膜１ｂ
とからなっている。
第１の陽極酸化膜１ｂは、素地１ａを蓚酸電解浴、硫酸
電解浴などの電解浴を用い、陽極酸化処理することによ
り素地１ａ上にこれに一体に形成されたもので、その厚
さが１０〜２０μ瓦程度のものである。この第１の陽極
酸化膜１ｂは、基板１をｉ質化するためのものであり、
したがってその厚さが１０μｍ未満では基板１の硬質化
に寄与せず、最低でも５μ扉は必要であご。また、第１
の陽極酸化膜１ｂは、硬質化のために低温浴、高電圧で
電解処理したものが好ましい。
電解浴などの電解浴を用い、陽極酸化処理することによ
り素地１ａ上にこれに一体に形成されたもので、その厚
さが１０〜２０μ瓦程度のものである。この第１の陽極
酸化膜１ｂは、基板１をｉ質化するためのものであり、
したがってその厚さが１０μｍ未満では基板１の硬質化
に寄与せず、最低でも５μ扉は必要であご。また、第１
の陽極酸化膜１ｂは、硬質化のために低温浴、高電圧で
電解処理したものが好ましい。
この硬質基板１の第１の陽極酸化膜１ｂ上にはアルミニ
ウム膜またはアルミニウム合金膜２が設けられている。
ウム膜またはアルミニウム合金膜２が設けられている。
このアルミニウム膜またはアルミニウム合金膜２は、真
空蒸着法、スパッタ法、イオンブレーティング法、ＣＶ
Ｄ法などの薄膜形成法や薄箔を圧接することにより得ら
れるもので、これの上に設けられる第２の陽極酸化膜の
素地になるとともに陽極酸化処理時および磁性体析出時
の給電部材となるもので、第２の陽極酸化膜を化成後の
残余の厚さが０．１〜２μｍとなるようにその厚さが調
節される。この残余の厚さが０．１μｍ未満であれば上
記給電時の電気抵抗が大きくなって不都合であり、２μ
ｍを越えると第２の陽極酸化膜の見掛けの機械的強度、
表面硬度が低下して不都合である。第２図のグラフは、
このアルミニウム膜またはアルミニウム合金膜の残余の
厚さとこの上に化成された第２の陽極酸化膜の硬度（ビ
ッカース硬さ〉との関係を、第２の陽極酸化膜の厚さを
パラメータとして示したものであり、陽極酸化膜本来の
硬度を得るには、アルミニウム膜またはアルミニウム合
金膜の残余の厚さは０．５μｍ以下とする必要がわかり
、また第２の陽極酸化膜の厚さが薄いほど、残余の厚さ
の影響を大きく受けることがわかる。
空蒸着法、スパッタ法、イオンブレーティング法、ＣＶ
Ｄ法などの薄膜形成法や薄箔を圧接することにより得ら
れるもので、これの上に設けられる第２の陽極酸化膜の
素地になるとともに陽極酸化処理時および磁性体析出時
の給電部材となるもので、第２の陽極酸化膜を化成後の
残余の厚さが０．１〜２μｍとなるようにその厚さが調
節される。この残余の厚さが０．１μｍ未満であれば上
記給電時の電気抵抗が大きくなって不都合であり、２μ
ｍを越えると第２の陽極酸化膜の見掛けの機械的強度、
表面硬度が低下して不都合である。第２図のグラフは、
このアルミニウム膜またはアルミニウム合金膜の残余の
厚さとこの上に化成された第２の陽極酸化膜の硬度（ビ
ッカース硬さ〉との関係を、第２の陽極酸化膜の厚さを
パラメータとして示したものであり、陽極酸化膜本来の
硬度を得るには、アルミニウム膜またはアルミニウム合
金膜の残余の厚さは０．５μｍ以下とする必要がわかり
、また第２の陽極酸化膜の厚さが薄いほど、残余の厚さ
の影響を大きく受けることがわかる。
このアルミニウム膜またはアルミニウム合金膜２の上に
は磁性膜３が一体に設けられている。この磁性膜３は、
アルミニウム膜またはアルミニウム合金膜２を先と同様
に陽極酸化処理して第２の陽極酸化膜を化成し、この第
２の陽極酸化膜の微細孔に鉄（Ｆｃ）、ニッケル（Ｎｉ
） 、コバルト（Ｇｏ）やこれらの合金などの磁性体を
電解析出させて充填し、その表面を研削してなるもので
、その厚さが０．５〜１．５μｍの範囲のものである。
は磁性膜３が一体に設けられている。この磁性膜３は、
アルミニウム膜またはアルミニウム合金膜２を先と同様
に陽極酸化処理して第２の陽極酸化膜を化成し、この第
２の陽極酸化膜の微細孔に鉄（Ｆｃ）、ニッケル（Ｎｉ
） 、コバルト（Ｇｏ）やこれらの合金などの磁性体を
電解析出させて充填し、その表面を研削してなるもので
、その厚さが０．５〜１．５μｍの範囲のものである。
この陽極酸化処理および磁性体析出は、基板１の内周端
縁あるいは外周端縁に給電電極を接続し、上記アルミニ
ウム膜またはアルミニウム合金膜２を介して給電して行
う方法等によって実施される。
縁あるいは外周端縁に給電電極を接続し、上記アルミニ
ウム膜またはアルミニウム合金膜２を介して給電して行
う方法等によって実施される。
この磁性膜３の上には、必要に応じ、シリカ、グラフフ
ィトなどからなる保護膜、フロロカーボン系潤滑剤など
からなる潤滑膜等を適宜設けることもできる。
ィトなどからなる保護膜、フロロカーボン系潤滑剤など
からなる潤滑膜等を適宜設けることもできる。
このような磁気記録体にあっては、基板１の表面部が硬
い第１の陽極酸化膜１ｂより形成され、アルミニウム膜
またはアルミニウム合金膜２の厚さが給電に必要最低限
の厚さとされているので、磁性膜３の下地は、実質的に
十分な厚さを有する硬質材料となり、磁性Ｍ１３の厚さ
を薄くしてもその機械的強度、表面硬度を高く維持する
ことができ、よって磁性膜３の厚さを十分薄くすること
ができ、良好な磁気記録特性を有するものとなる。
い第１の陽極酸化膜１ｂより形成され、アルミニウム膜
またはアルミニウム合金膜２の厚さが給電に必要最低限
の厚さとされているので、磁性膜３の下地は、実質的に
十分な厚さを有する硬質材料となり、磁性Ｍ１３の厚さ
を薄くしてもその機械的強度、表面硬度を高く維持する
ことができ、よって磁性膜３の厚さを十分薄くすること
ができ、良好な磁気記録特性を有するものとなる。
また、磁気記録体全体がアルミニウム系材料で作られて
おり、この記録体を実装する磁気ディスク装置の大部分
の部材がやはりアルミニウム系材料で作られていること
から、両者の熱膨張率の差が小さく、温度変化に起因す
るトラッキングエラー等を補償するサーボ機構を設ける
必要がない。
おり、この記録体を実装する磁気ディスク装置の大部分
の部材がやはりアルミニウム系材料で作られていること
から、両者の熱膨張率の差が小さく、温度変化に起因す
るトラッキングエラー等を補償するサーボ機構を設ける
必要がない。
第３図は、この発明の磁気記録体の第２の例を示すもの
である。この例では、硬￥１基板１仝体が硬質ガラス、
セラミックスなどの無機非金属系硬質材料からなってい
る。この硬質基板１上には先の例と同様に厚さ０．１〜
２μｍのアルミニウム膜またはアルミニウム合金ｗｉ２
が設けられ、さらに磁性膜３が同様に設けられている。
である。この例では、硬￥１基板１仝体が硬質ガラス、
セラミックスなどの無機非金属系硬質材料からなってい
る。この硬質基板１上には先の例と同様に厚さ０．１〜
２μｍのアルミニウム膜またはアルミニウム合金ｗｉ２
が設けられ、さらに磁性膜３が同様に設けられている。
この例のものでは、硬質基板１全体が硬質材料で構成さ
れているので、同様に磁性ｌＳ３の下地は十分な硬さを
有するものとなり、磁性膜３の機械的強度、表面硬度を
十分高めることができ、ひいては磁性ＷＡ３の厚さを十
分薄膜化することができる。
れているので、同様に磁性ｌＳ３の下地は十分な硬さを
有するものとなり、磁性膜３の機械的強度、表面硬度を
十分高めることができ、ひいては磁性ＷＡ３の厚さを十
分薄膜化することができる。
Ｍ−４％１合金からなり厚さ１．９ａｌｌｌ！、内径２
４顛、外径９５ＩＩ１１のディスク状基材（サブストレ
ート）表面を清浄化処理したのち、３％蓚Ｈ電解浴中で
、１０℃、２０Ｖで陽極酸化処理し、表面に厚さ２０μ
卯の第１の陽極酸化膜を形成したのち、研摩して厚さ１
０μｍとして、硬質基板とした。
４顛、外径９５ＩＩ１１のディスク状基材（サブストレ
ート）表面を清浄化処理したのち、３％蓚Ｈ電解浴中で
、１０℃、２０Ｖで陽極酸化処理し、表面に厚さ２０μ
卯の第１の陽極酸化膜を形成したのち、研摩して厚さ１
０μｍとして、硬質基板とした。
ついで、この硬質基板の第１の陽極酸化膜上に真空蒸着
法により厚さ５０μｍのアルミニウム膜を形成した。こ
の基板の内周端縁およ び外周端縁に給電端子を接続して上記アルミニウム膜を
３％蓚Ｍ電解浴中、直流４５Ｖ、浴温１０℃で陽極酸化
処理し、厚さ３．５μ卯の第２の陽極酸化膜を形成した
。次に、これを硫酸第１鉄アンモニウム電解浴中で電解
し、第２の陽極酸化膜の微細孔中に鉄を電解析出し、厚
さ３．５μｍの磁性膜とした。この磁性膜を表面から研
削し、磁性膜の厚さを１．０μｍとした。この磁性膜上
に厚さ２５μｍのグラファイト膜をスパッタ法により形
成し、保護膜とした。
法により厚さ５０μｍのアルミニウム膜を形成した。こ
の基板の内周端縁およ び外周端縁に給電端子を接続して上記アルミニウム膜を
３％蓚Ｍ電解浴中、直流４５Ｖ、浴温１０℃で陽極酸化
処理し、厚さ３．５μ卯の第２の陽極酸化膜を形成した
。次に、これを硫酸第１鉄アンモニウム電解浴中で電解
し、第２の陽極酸化膜の微細孔中に鉄を電解析出し、厚
さ３．５μｍの磁性膜とした。この磁性膜を表面から研
削し、磁性膜の厚さを１．０μｍとした。この磁性膜上
に厚さ２５μｍのグラファイト膜をスパッタ法により形
成し、保護膜とした。
この磁気記録体のコンタクトスタートストップ性（Ｃ８
Ｓ性）を測定したところ、３０Ｘ１０３回であった。ま
た、ギャップ０．６μｍのフェライトリングヘッドで測
定した磁気記録密度（Ｄ５ｏ）は２８ｋＢＰＩであり、
オーバライド特性は３０ｄＢであった。
Ｓ性）を測定したところ、３０Ｘ１０３回であった。ま
た、ギャップ０．６μｍのフェライトリングヘッドで測
定した磁気記録密度（Ｄ５ｏ）は２８ｋＢＰＩであり、
オーバライド特性は３０ｄＢであった。
比較のため、同一のディスク状基材を３％蓚酸電解浴中
直流４５Ｖ１浴温１０℃で陽極酸化処理し、厚さ３μｍ
の第２の陽極酸化膜を形成し、同様に処理して鉄を電解
析出し、厚さ３μｍの磁性膜を形成した。ついで、この
磁性膜を表面から研削し、磁性膜の厚さを１．０μｍと
した。さらに、この磁性膜上に厚さ２５ｎＩ！ｌのグラ
ファイトからなる保護膜をスパッタ法によって設け、磁
気記録体とした。このもののＣ８Ｓ性を測定したところ
、１０３回以下でヘッドクラシュを起した。Ｄ５０は２
８ｋＢＰＩ、Ｏ／Ｗは３０（Ｂであったがヘッドにゴミ
が付着したことによりヘッドクラシュを起した。これは
合金中の介在物によるものである。
直流４５Ｖ１浴温１０℃で陽極酸化処理し、厚さ３μｍ
の第２の陽極酸化膜を形成し、同様に処理して鉄を電解
析出し、厚さ３μｍの磁性膜を形成した。ついで、この
磁性膜を表面から研削し、磁性膜の厚さを１．０μｍと
した。さらに、この磁性膜上に厚さ２５ｎＩ！ｌのグラ
ファイトからなる保護膜をスパッタ法によって設け、磁
気記録体とした。このもののＣ８Ｓ性を測定したところ
、１０３回以下でヘッドクラシュを起した。Ｄ５０は２
８ｋＢＰＩ、Ｏ／Ｗは３０（Ｂであったがヘッドにゴミ
が付着したことによりヘッドクラシュを起した。これは
合金中の介在物によるものである。
以上より、この発明の磁気記録体は、耐久性が良好で長
寿命であるとともに、良好な磁気記録特性を有すること
がわかる。
寿命であるとともに、良好な磁気記録特性を有すること
がわかる。
以上説明したように、この発明の磁気記録体は、硬質基
板上に厚さ０．１〜２μｍのアルミニウム膜またはアル
ミニウム合金膜を設け、この上に陽極酸化膜を設けこの
陽極酸化膜の微細孔内に磁性体を充填したものであるの
で、磁性膜の厚さを薄くしても下地が実質的に硬質材料
となるるため機械的強度や表面硬度が低下することがな
くなり、磁性膜の厚さを十分に薄くして良好な磁気特性
を持つものとすることができる。よって、この磁気記録
体は、長寿命と高い磁気記録特性とを兼ね備えたものと
なる。
板上に厚さ０．１〜２μｍのアルミニウム膜またはアル
ミニウム合金膜を設け、この上に陽極酸化膜を設けこの
陽極酸化膜の微細孔内に磁性体を充填したものであるの
で、磁性膜の厚さを薄くしても下地が実質的に硬質材料
となるるため機械的強度や表面硬度が低下することがな
くなり、磁性膜の厚さを十分に薄くして良好な磁気特性
を持つものとすることができる。よって、この磁気記録
体は、長寿命と高い磁気記録特性とを兼ね備えたものと
なる。
第１図および第３図はいずれもこの発明の磁気記録体の
例を示す概略断面図、 第２図はこの発明の磁気記録体におけるアルミニウム膜
またはアルミニウム合金膜の厚さとこの膜上の陽ｔｉｉ
ｌ （を膜の硬度との関係を示すグラフ、第４図は磁
気記録体における磁性膜の厚さと磁気記録密度およびオ
ーバライド特性との関係を示すグラフである。 １・・・・・・硬質基板、 ２・・・・・・アルミニウム膜またはアルミニウム合金
膜、３・・・・・・磁性膜。 出願人 日本楽器製造株式会社 了ルミ＝ウー合金Ｒ東 第１図 第３図 アルミ；ラム繰φ厚Ｊ （μｍ） 第２＠
例を示す概略断面図、 第２図はこの発明の磁気記録体におけるアルミニウム膜
またはアルミニウム合金膜の厚さとこの膜上の陽ｔｉｉ
ｌ （を膜の硬度との関係を示すグラフ、第４図は磁
気記録体における磁性膜の厚さと磁気記録密度およびオ
ーバライド特性との関係を示すグラフである。 １・・・・・・硬質基板、 ２・・・・・・アルミニウム膜またはアルミニウム合金
膜、３・・・・・・磁性膜。 出願人 日本楽器製造株式会社 了ルミ＝ウー合金Ｒ東 第１図 第３図 アルミ；ラム繰φ厚Ｊ （μｍ） 第２＠
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 硬質基板上にアルミニウム膜またはアルミニウム合金膜
が設けられ、この膜上に陽極酸化膜が設けられ、この陽
極酸化膜の微細孔内に磁性体が充填されてなる磁気記録
体において、 上記アルミニウム膜またはアルミニウム合金膜の厚さが
０．１〜２μｍであることを特徴とする磁気記録体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61313399A JPS63167409A (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | 磁気記録体 |
| US07/132,929 US4895762A (en) | 1986-01-27 | 1987-12-15 | Magnetic recording material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61313399A JPS63167409A (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | 磁気記録体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63167409A true JPS63167409A (ja) | 1988-07-11 |
Family
ID=18040800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61313399A Pending JPS63167409A (ja) | 1986-01-27 | 1986-12-27 | 磁気記録体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4895762A (ja) |
| JP (1) | JPS63167409A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080096900A1 (en) | 2006-06-26 | 2008-04-24 | Amgen Inc. | Methods for treating atherosclerosis |
| ES2449483T3 (es) | 2007-07-26 | 2014-03-19 | Amgen, Inc | Enzimas lecitina-colesterol aciltransferasa modificadas |
| EP2788384B1 (en) | 2011-12-08 | 2017-08-09 | Amgen Inc. | Agonistic human lcat antigen binding proteins and their use in therapy |
| KR102132028B1 (ko) * | 2012-11-07 | 2020-08-05 | 현대자동차(주) | 차량 휠너트 및 그 제조방법 |
| KR102085982B1 (ko) * | 2019-05-24 | 2020-03-06 | 현대자동차(주) | 차량 휠너트 및 그 제조방법 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4109287A (en) * | 1972-04-14 | 1978-08-22 | Pilot Man-Nun-Hitsu Kabushiki Kaisha | Process for recording information or sound and process for preparation of recording materials used therefor |
| US4650708A (en) * | 1983-05-28 | 1987-03-17 | Toshiro Takahashi | Magnetic recording material and a method for producing the same |
| DE3421442A1 (de) * | 1983-06-10 | 1984-12-13 | Nippon Light Metal Co. Ltd., Tokio/Tokyo | Verfahren zur herstellung eines magnetischen aufzeichnungsmediums |
| JPS6063731A (ja) * | 1983-09-19 | 1985-04-12 | Pilot Pen Co Ltd:The | 磁気記録材料の製造方法 |
| JPS60229233A (ja) * | 1984-04-27 | 1985-11-14 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 磁気ディスク用基板の製造方法 |
-
1986
- 1986-12-27 JP JP61313399A patent/JPS63167409A/ja active Pending
-
1987
- 1987-12-15 US US07/132,929 patent/US4895762A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4895762A (en) | 1990-01-23 |
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