JPS61243916A - 磁気ヘツド用基板 - Google Patents
磁気ヘツド用基板Info
- Publication number
- JPS61243916A JPS61243916A JP8565985A JP8565985A JPS61243916A JP S61243916 A JPS61243916 A JP S61243916A JP 8565985 A JP8565985 A JP 8565985A JP 8565985 A JP8565985 A JP 8565985A JP S61243916 A JPS61243916 A JP S61243916A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic head
- substrate
- alumite
- insulating film
- aluminum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ヘッド用基板に関する。
本発明は磁気ヘッド用基板に於て、狭面にアルミニウム
が堆積され、かつ前記アルミニウムが陽＆［化法により
アルマイト化されていることにより基板と上部導体ｒ−
の絶縁をはかりかつ研暦、切断等の強度ｔ−はかるもの
である。
が堆積され、かつ前記アルミニウムが陽＆［化法により
アルマイト化されていることにより基板と上部導体ｒ−
の絶縁をはかりかつ研暦、切断等の強度ｔ−はかるもの
である。
従来の磁気ヘッド用基板はアルミナチタンカーバイトが
加工性や耐摩耗性が良好なことから多く用いられている
が、この材料は導電性を有することから、スパッタ法に
より酸化物の絶縁層ｔ−衣表面一層設け、かつ前記絶縁
層は研磨、切断等に耐えうるため一数十μｍ堆積させて
いた。
加工性や耐摩耗性が良好なことから多く用いられている
が、この材料は導電性を有することから、スパッタ法に
より酸化物の絶縁層ｔ−衣表面一層設け、かつ前記絶縁
層は研磨、切断等に耐えうるため一数十μｍ堆積させて
いた。
〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕しかし、前
述の従来技術では酸ｆヒ物を表面に堆積することはスパ
ッタ速度が遅いため多大な時間を要するばかりか、表面
性も良好でなｉという問題点を有する。そζで本発明け
この様な問題点を解決するもので、その目的とするとこ
ろは酸化物の堆積時間を短縮し、かつ表面性も、良好な
絶縁層材の磁気ヘッド用基板を提供するところにある。
述の従来技術では酸ｆヒ物を表面に堆積することはスパ
ッタ速度が遅いため多大な時間を要するばかりか、表面
性も良好でなｉという問題点を有する。そζで本発明け
この様な問題点を解決するもので、その目的とするとこ
ろは酸化物の堆積時間を短縮し、かつ表面性も、良好な
絶縁層材の磁気ヘッド用基板を提供するところにある。
本発明の磁気ヘッド用基板は、基板表１ＩＦｃＡｉ膜を
堆積させ、そのＡＪ膜を酸化処理することを４！微とす
る。
堆積させ、そのＡＪ膜を酸化処理することを４！微とす
る。
本発明の上記の構成によれば、Ａ７はスバツタや蒸着で
１分間ＶＣ０，５μｍ〜１μｍの速度で堆積することは
容易であるため、数十μｍ堆積させても、１時間程度で
行なえるもので、かつ陽極酸化にもわずかな時間で地理
が可能である。
１分間ＶＣ０，５μｍ〜１μｍの速度で堆積することは
容易であるため、数十μｍ堆積させても、１時間程度で
行なえるもので、かつ陽極酸化にもわずかな時間で地理
が可能である。
第１図は本発明の実施例における磁気ヘッド用基板の製
造工程図であって、鏡面研磨がされたアルミナチタンカ
ーバイト上にＡＪをスパッタ法により加μｍ堆積させ、
陽極酸化法によりＡＪを処理しアルマイト化した。この
時の電解質は、 Ｈ２ＢＯ３（ＣＯＯＨ）１ 、 Ｈｓ
ＰＯａ 、 Ｃ１”Ｏｓ （ＤＩＡずれでも可能であり
、ＡＪ膜は前浮性陽極皮膜となる。この前浮性陽極皮膜
はミクロ的にみると多孔性であるがホール径は８００オ
ングストロウム程度であり、上部にくる磁性膜の磁気特
性劣化に特に問題はない。
造工程図であって、鏡面研磨がされたアルミナチタンカ
ーバイト上にＡＪをスパッタ法により加μｍ堆積させ、
陽極酸化法によりＡＪを処理しアルマイト化した。この
時の電解質は、 Ｈ２ＢＯ３（ＣＯＯＨ）１ 、 Ｈｓ
ＰＯａ 、 Ｃ１”Ｏｓ （ＤＩＡずれでも可能であり
、ＡＪ膜は前浮性陽極皮膜となる。この前浮性陽極皮膜
はミクロ的にみると多孔性であるがホール径は８００オ
ングストロウム程度であり、上部にくる磁性膜の磁気特
性劣化に特に問題はない。
更に絶縁性は良好で研磨、切断においても特に間覇はな
かった。
かった。
以上述べたように発明によれば、アルミナチタンカーバ
イト上ＶＣＡＪを堆積させ、前記Ａ Ｊｌ ｆ陽甑酸化
することにより短時間で良好な絶縁膜付の基板が作製で
きるという効果を有する０例えば。
イト上ＶＣＡＪを堆積させ、前記Ａ Ｊｌ ｆ陽甑酸化
することにより短時間で良好な絶縁膜付の基板が作製で
きるという効果を有する０例えば。
スパッタ法でＡＪ、０３を基板面にＩμｍ堆積する場合
、スパッタ速度は１時間１ｃ２μｍ程度しか堆積できな
いため１０時間以上処理がかかる。しかし本発明におい
ては、Ａｉを堆積する時間がＩ分程度でアルマイト化が
２〜８時間で可能となるため。
、スパッタ速度は１時間１ｃ２μｍ程度しか堆積できな
いため１０時間以上処理がかかる。しかし本発明におい
ては、Ａｉを堆積する時間がＩ分程度でアルマイト化が
２〜８時間で可能となるため。
従来の８分の一程度に時間短縮ができる。更によりよい
基板面を得るためにアルマイト面を研磨した場合でも時
間的には従来の８分の２の時間で行なえるものである。
基板面を得るためにアルマイト面を研磨した場合でも時
間的には従来の８分の２の時間で行なえるものである。
ＩＩ １ ｔ５４（ｃ）（６）は本発明の磁気ヘッド用
基板の一実施例における工程断面図。 ｌ・・・アルミ ２・・・アルミナチタンカーバイト
８・・・アルマイト 以上
基板の一実施例における工程断面図。 ｌ・・・アルミ ２・・・アルミナチタンカーバイト
８・・・アルマイト 以上
Claims (1)
- コイル導体層、層間絶縁膜層、磁性層、保護層からなる
磁気ヘッドに於て、前記磁気ヘッド用基板の表面がアル
マイト加工されていることを特徴とする磁気ヘッド用基
板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8565985A JPS61243916A (ja) | 1985-04-22 | 1985-04-22 | 磁気ヘツド用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8565985A JPS61243916A (ja) | 1985-04-22 | 1985-04-22 | 磁気ヘツド用基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61243916A true JPS61243916A (ja) | 1986-10-30 |
Family
ID=13864950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8565985A Pending JPS61243916A (ja) | 1985-04-22 | 1985-04-22 | 磁気ヘツド用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61243916A (ja) |
-
1985
- 1985-04-22 JP JP8565985A patent/JPS61243916A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0362535B1 (en) | Aluminum plating substance for anodizing | |
| US6136704A (en) | Method for forming porous platinum films | |
| JPS60231921A (ja) | 磁気デイスク用基盤の表面処理方法 | |
| JPH02765B2 (ja) | ||
| JPS6222247B2 (ja) | ||
| JPS61243916A (ja) | 磁気ヘツド用基板 | |
| EP0196093A1 (en) | A process for treating an article made of metal selectec from tantalum, niobium and tantalum-niobium alloy | |
| JP2003520380A (ja) | 窒化能動素子及びその製造方法 | |
| JPH01237927A (ja) | 磁気記録媒体および陽極酸化用材料 | |
| JPS60198782A (ja) | 非晶質薄膜太陽電池 | |
| JPH01271908A (ja) | 磁気記憶体及び磁気記憶装置及び製造方法 | |
| JPS63249380A (ja) | 薄膜太陽電池用基板の製造方法 | |
| JPS6358707A (ja) | 誘電記録体の製造方法 | |
| JPH01133218A (ja) | 磁気ディスク用アルミニウム基板の製造方法 | |
| JPS62137724A (ja) | 磁気記録用アルマイト基板の製造方法 | |
| JPH02267286A (ja) | ホーロ基板 | |
| JPS5887077A (ja) | サ−マルヘツド | |
| JPH05225523A (ja) | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| US3190819A (en) | Forming voltage | |
| JPS5935439B2 (ja) | 電解用不溶性陽極の製造方法 | |
| Tsuya et al. | Alumite Disk Using Anodic Oxidation | |
| JPS6220127A (ja) | 磁気デイスク用基板 | |
| JPH0896542A (ja) | バンプディスクの製造法 | |
| JPS6035332A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH04356720A (ja) | 磁気記録媒体 |