JPS63166793A - シリコン単結晶引上装置 - Google Patents
シリコン単結晶引上装置Info
- Publication number
- JPS63166793A JPS63166793A JP31559886A JP31559886A JPS63166793A JP S63166793 A JPS63166793 A JP S63166793A JP 31559886 A JP31559886 A JP 31559886A JP 31559886 A JP31559886 A JP 31559886A JP S63166793 A JPS63166793 A JP S63166793A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat
- single crystal
- heater
- crucible
- cylinder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims description 37
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims description 37
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 35
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 10
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 abstract description 6
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 6
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 4
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000001012 protector Effects 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はシリコン単結晶引上装置の改良に関する。
半導体デバイスの基板として用いられるシリコン単結晶
は、主にチョクラルスキー法(cZ法)により製造され
ている。このCZ法は、原理的には、チャンバー内にル
ツボを回転自在に支持し、このルツボにシリコン原料を
装填し、ルツボ外周に設けられたカーボンヒータでルツ
ボ内のシリコン原料を溶融し、シリコン融液に上方から
回転自在に吊下された種結晶を浸してこれを引上げるこ
とによりシリコン単結晶インゴットを引上げるものであ
る。
は、主にチョクラルスキー法(cZ法)により製造され
ている。このCZ法は、原理的には、チャンバー内にル
ツボを回転自在に支持し、このルツボにシリコン原料を
装填し、ルツボ外周に設けられたカーボンヒータでルツ
ボ内のシリコン原料を溶融し、シリコン融液に上方から
回転自在に吊下された種結晶を浸してこれを引上げるこ
とによりシリコン単結晶インゴットを引上げるものであ
る。
従来、カーボンヒータの外周には、保温筒としてカーボ
ン繊維の織布(フェルト)を炭素質円筒板の外周に多層
巻つけたもののみが使用されている。
ン繊維の織布(フェルト)を炭素質円筒板の外周に多層
巻つけたもののみが使用されている。
ところが、保温筒としてカーボン繊維の織布を円筒状に
巻つけたもののみを用いた場合には、ヒータから発生す
る熱を保温する効果が少ないためヒータ出力が増大する
。また、長期間の使用に際しカーボン繊維が酸化されて
劣化し剥落しゃすくなってルツボ内へのカーボン粉の巻
込みによる汚染を引起したり、織布の縮小が発生し、し
かもチャンバーに伝達される熱を断熱する効果も少なく
なるためチャンバーの冷却水の流量も太きくなる。こう
したことは、シリコン単結晶インゴットの大口径化に伴
ってルツボも大口径化し、シリコン原料を溶融するため
にヒータ出力を増大しなければならない傾向の下では特
に大きな問題となる。
巻つけたもののみを用いた場合には、ヒータから発生す
る熱を保温する効果が少ないためヒータ出力が増大する
。また、長期間の使用に際しカーボン繊維が酸化されて
劣化し剥落しゃすくなってルツボ内へのカーボン粉の巻
込みによる汚染を引起したり、織布の縮小が発生し、し
かもチャンバーに伝達される熱を断熱する効果も少なく
なるためチャンバーの冷却水の流量も太きくなる。こう
したことは、シリコン単結晶インゴットの大口径化に伴
ってルツボも大口径化し、シリコン原料を溶融するため
にヒータ出力を増大しなければならない傾向の下では特
に大きな問題となる。
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
り、保温・断熱効果が高く、ヒータ出力及び冷却水流量
を減少させることができるシリコン結晶引上装置を提供
することを目的とする。
り、保温・断熱効果が高く、ヒータ出力及び冷却水流量
を減少させることができるシリコン結晶引上装置を提供
することを目的とする。
本発明のシリコン単結晶引上装置は、チャンバー内にル
ツボを回転自在に支持して該ルツボ内にシリコン原料を
装填し、該ルツボ外周に設けられたヒータにより加熱し
てルツボ内のシリコン原料を溶融し、シリコン融液に上
方から回転自在に吊下された種結晶を浸してこれを引上
げることによりシリコン単結晶を引上げる装置において
、上記ヒータ外周に多数の板状部材を組み合わせて円筒
状とした断熱筒と、該断熱筒の外周に保温筒とを設置し
たことを特徴とするものである。
ツボを回転自在に支持して該ルツボ内にシリコン原料を
装填し、該ルツボ外周に設けられたヒータにより加熱し
てルツボ内のシリコン原料を溶融し、シリコン融液に上
方から回転自在に吊下された種結晶を浸してこれを引上
げることによりシリコン単結晶を引上げる装置において
、上記ヒータ外周に多数の板状部材を組み合わせて円筒
状とした断熱筒と、該断熱筒の外周に保温筒とを設置し
たことを特徴とするものである。
本発明において、多数の板状部材を組み合わせて円筒状
とした断熱筒の外周に設けられる保温筒としては、上記
断熱筒と同質のものでもよいし、炭素質セラミックフオ
ームや多数の石英ガラス管を立設して円筒状にしたもの
でもよい。また、従来のカーボン繊維の織布を円筒状に
巻つけた保温筒を併用してもよい。
とした断熱筒の外周に設けられる保温筒としては、上記
断熱筒と同質のものでもよいし、炭素質セラミックフオ
ームや多数の石英ガラス管を立設して円筒状にしたもの
でもよい。また、従来のカーボン繊維の織布を円筒状に
巻つけた保温筒を併用してもよい。
本発明において、板状部材は炭化珪素又はカーボンから
なるものが好ましい。また、板状部材の形状は、例えば
円筒を複数部分に分割した形状でもよいし、パイプを縦
に2分割したものでもよい。
なるものが好ましい。また、板状部材の形状は、例えば
円筒を複数部分に分割した形状でもよいし、パイプを縦
に2分割したものでもよい。
上述したようなシリコン単結晶引上装置によれば、板状
部材を多数組み合わせて円筒状とした断熱筒と保温筒と
を設けたことにより、保温会所熱効果が高くなり、ヒー
タ出力及び冷却水流量を減少させることができる。
部材を多数組み合わせて円筒状とした断熱筒と保温筒と
を設けたことにより、保温会所熱効果が高くなり、ヒー
タ出力及び冷却水流量を減少させることができる。
以下、本発明の実施例を第1図及び第2図を参照して説
明する。
明する。
第1図において、チャンバ−1上部にはプルチャンバー
2が設けられている。チャンバー1の下部開口からは回
転軸3が挿入され、この回転軸3上端にはカーボン製の
保護体4が固定され、内部の石英ガラス製のルツボ5を
保護している。上記保護体4の外周には円筒状のカーボ
ンヒータ6が設けられ、チャンバ−1下部から挿入され
た電極7.7に接続されている。また、カーボンヒータ
ー6の外周には多数の板状部材を組み合わせて円筒状と
した断熱筒8が設けられ、更にその外周には同様に多数
の板状部材を組み合わせて円筒状にした保温筒9が設け
られている。第2図に示すように、この断熱筒8を構成
するカーボン製の板状部材10a、・・・は、隣接する
ものどうしが互いに嵌合しあうようにその両端に凹凸を
形成した形状を有している。なお、図示しないが、板状
部材の上下をレール状のリングで固定すると組み立てが
容易になる。
2が設けられている。チャンバー1の下部開口からは回
転軸3が挿入され、この回転軸3上端にはカーボン製の
保護体4が固定され、内部の石英ガラス製のルツボ5を
保護している。上記保護体4の外周には円筒状のカーボ
ンヒータ6が設けられ、チャンバ−1下部から挿入され
た電極7.7に接続されている。また、カーボンヒータ
ー6の外周には多数の板状部材を組み合わせて円筒状と
した断熱筒8が設けられ、更にその外周には同様に多数
の板状部材を組み合わせて円筒状にした保温筒9が設け
られている。第2図に示すように、この断熱筒8を構成
するカーボン製の板状部材10a、・・・は、隣接する
ものどうしが互いに嵌合しあうようにその両端に凹凸を
形成した形状を有している。なお、図示しないが、板状
部材の上下をレール状のリングで固定すると組み立てが
容易になる。
このシリコン単結晶引上装置を用い、以下のようにして
シリコン単結晶インゴットの引上げが行なわれる。すな
わち、ルツボ5内に多結晶シリコン原料を装填した後、
カーボンヒーター6に通電することによりルツボ5内の
シリコン原料を溶融し、シリコン融液11にプルチャン
バー2″l:方から吊下された引上軸12下端のシード
チャック13に取付けられた種結晶14を浸し、これを
引上げることによりシリコン単結晶インゴット15を引
上げる。
シリコン単結晶インゴットの引上げが行なわれる。すな
わち、ルツボ5内に多結晶シリコン原料を装填した後、
カーボンヒーター6に通電することによりルツボ5内の
シリコン原料を溶融し、シリコン融液11にプルチャン
バー2″l:方から吊下された引上軸12下端のシード
チャック13に取付けられた種結晶14を浸し、これを
引上げることによりシリコン単結晶インゴット15を引
上げる。
このようなシリコン単結晶引上装置によれば、板状部材
10a、・・・を多数組み合わせて円筒状とした断熱筒
8及び保温筒9による保温・断熱効果が高いので、ヒー
タ出力及び冷却水流量を減少させることができる。また
、断熱筒8及び保温筒9は純化処理が容易で高純度にす
ることができるので、シリコン単結晶の特性も良好とな
る。更に、ヒータの直射熱にさらされても割れにくいと
いう利点があり、このことは大口径になるにつれ有利な
条件となる。
10a、・・・を多数組み合わせて円筒状とした断熱筒
8及び保温筒9による保温・断熱効果が高いので、ヒー
タ出力及び冷却水流量を減少させることができる。また
、断熱筒8及び保温筒9は純化処理が容易で高純度にす
ることができるので、シリコン単結晶の特性も良好とな
る。更に、ヒータの直射熱にさらされても割れにくいと
いう利点があり、このことは大口径になるにつれ有利な
条件となる。
なお、本発明のシリコン単結晶引上装置に用いられる断
熱筒8は第2図に示したものに限らず、例えば第3図に
示すように、炭化珪素製のパイプを2分割した板状部材
10b、・・・を交互に組み合わせて円筒状としたもの
でもよい。
熱筒8は第2図に示したものに限らず、例えば第3図に
示すように、炭化珪素製のパイプを2分割した板状部材
10b、・・・を交互に組み合わせて円筒状としたもの
でもよい。
以上詳述したように本発明のシリコン単結晶引上装置に
よれば、ヒータの直射熱にさらされる箇所に、板状部材
を多数組み合わせて円筒状とした断熱筒を用いることに
よりヒータ出力及び冷却水流量を減少させることができ
、シリコン単結晶の特性の改善にも有利である等顕著な
効果を奏するものである。
よれば、ヒータの直射熱にさらされる箇所に、板状部材
を多数組み合わせて円筒状とした断熱筒を用いることに
よりヒータ出力及び冷却水流量を減少させることができ
、シリコン単結晶の特性の改善にも有利である等顕著な
効果を奏するものである。
第1図は本発明の実施例におけるシリコン単結晶引上装
置の断面図、第2図は同シリコン単結晶引上装置に用い
られる保温筒の平面図、第3図は本発明の他の実施例の
シリコン単結晶引上装置に用いられる保温筒の平面図で
ある。 l・・・チャンバー、2・・・プルチャンバー、3・・
・回転軸、4・・・保護体、5・・・ルツボ、6・・・
カーボンヒータ、7・・・電極、8・・・断熱筒、9・
・・保温筒、10a、10b・・・板状部材、11・・
・シリコン融液、12・・・引上軸、13・・・シード
チャック、14・・・種結晶、15・・・シリコン単結
晶インゴット。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第2図 第3図
置の断面図、第2図は同シリコン単結晶引上装置に用い
られる保温筒の平面図、第3図は本発明の他の実施例の
シリコン単結晶引上装置に用いられる保温筒の平面図で
ある。 l・・・チャンバー、2・・・プルチャンバー、3・・
・回転軸、4・・・保護体、5・・・ルツボ、6・・・
カーボンヒータ、7・・・電極、8・・・断熱筒、9・
・・保温筒、10a、10b・・・板状部材、11・・
・シリコン融液、12・・・引上軸、13・・・シード
チャック、14・・・種結晶、15・・・シリコン単結
晶インゴット。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第2図 第3図
Claims (2)
- (1)チャンバー内にルツボを回転自在に支持して該ル
ツボ内にシリコン原料を装填し、該ルツボ外周に設けら
れたヒータにより加熱してルツボ内のシリコン原料を溶
融し、シリコン融液に上方から回転自在に吊下された種
結晶を浸してこれを引上げることによりシリコン単結晶
を引上げる装置において、上記ヒータ外周に多数の板状
部材を組み合わせて円筒状とした断熱筒と、該断熱筒の
外周に保温筒とを設置したことを特徴とするシリコン単
結晶引上装置。 - (2)板状部材が炭化珪素又はカーボンからなることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のシリコン単結晶
引上装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31559886A JPS63166793A (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | シリコン単結晶引上装置 |
DE19873743951 DE3743951A1 (de) | 1986-12-26 | 1987-12-23 | Einrichtung zum ziehen von siliziumeinkristallen mit einem waermeisolierzylinder und verfahren zur herstellung des materials desselben |
KR1019870015146A KR910009130B1 (ko) | 1986-12-26 | 1987-12-26 | 실리콘 단결정 성장(Pull-up)장치 |
US07/464,957 US5098675A (en) | 1986-12-26 | 1990-01-16 | Silicon single crystal pull-up apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31559886A JPS63166793A (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | シリコン単結晶引上装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63166793A true JPS63166793A (ja) | 1988-07-09 |
Family
ID=18067277
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31559886A Pending JPS63166793A (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | シリコン単結晶引上装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63166793A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020143892A (ja) * | 2019-03-07 | 2020-09-10 | トゥ, フン‐チTu, Hung‐Chi | 不活性雰囲気保護下の高温プロセスに用いられる組立式保護筒 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56129696A (en) * | 1980-03-12 | 1981-10-09 | Toshiba Corp | Crystal growing apparatus |
JPS58181797A (ja) * | 1982-04-19 | 1983-10-24 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 単結晶シリコン引上装置 |
-
1986
- 1986-12-26 JP JP31559886A patent/JPS63166793A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56129696A (en) * | 1980-03-12 | 1981-10-09 | Toshiba Corp | Crystal growing apparatus |
JPS58181797A (ja) * | 1982-04-19 | 1983-10-24 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 単結晶シリコン引上装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020143892A (ja) * | 2019-03-07 | 2020-09-10 | トゥ, フン‐チTu, Hung‐Chi | 不活性雰囲気保護下の高温プロセスに用いられる組立式保護筒 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110983429A (zh) | 单晶炉及单晶硅制备方法 | |
JPH06227891A (ja) | シリコン単結晶引上げ用ルツボ | |
JPS63166793A (ja) | シリコン単結晶引上装置 | |
US5840120A (en) | Apparatus for controlling nucleation of oxygen precipitates in silicon crystals | |
JPS63166795A (ja) | シリコン単結晶引上装置 | |
KR920003612B1 (ko) | 실리콘 단결정 성장(Pulling-up)장치 | |
JP2005529045A (ja) | 単結晶引き上げ装置 | |
JPS63166794A (ja) | シリコン単結晶引上装置 | |
JPS63222091A (ja) | シリコン単結晶引上げ用ルツボ | |
JPS6027684A (ja) | 単結晶製造装置 | |
JPH092892A (ja) | 半導体単結晶引き上げ装置 | |
JPS5950627B2 (ja) | 単結晶シリコン引上装置 | |
JP2000247780A (ja) | 単結晶引き上げ装置 | |
JPS6126593A (ja) | シリコン単結晶引上用カ−ボンルツボ | |
JP3101219B2 (ja) | シリコン単結晶引上げ装置の分割した保温筒 | |
JPH03193694A (ja) | 結晶成長装置 | |
JPH05279170A (ja) | シリコン単結晶の引上げ装置 | |
JPS63166792A (ja) | シリコン単結晶引上装置 | |
JPH026382A (ja) | 単結晶引上げ装置 | |
JPS63166787A (ja) | シリコン単結晶引上装置 | |
KR910009131B1 (ko) | 실리콘 단결정 성장(Pull-up)장치 | |
JPH03265593A (ja) | 結晶成長装置 | |
JPS6033297A (ja) | 単結晶半導体引上装置 | |
JPS63159286A (ja) | シリコン単結晶引上装置 | |
JPH0218375A (ja) | 半導体単結晶引上げ装置 |