JPS63161517A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 80
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 claims abstract description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims abstract description 4
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- -1 phosphorus compound Chemical class 0.000 claims description 23
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 abstract description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 abstract 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract 3
- 239000002585 base Substances 0.000 abstract 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 25
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 25
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 24
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 24
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 20
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 20
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 13
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 10
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 239000004970 Chain extender Substances 0.000 description 8
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 231100000987 absorbed dose Toxicity 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940035437 1,3-propanediol Drugs 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical class CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 2
- QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(O)=O)=C1 QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N dipicolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=N1 WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 2
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N picolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=N1 SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 2
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N -2,3-Dihydroxypropanoic acid Natural products OCC(O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(CC)C(CC)=CC=C3SC2=C1 GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGHSXKTVMPXHNG-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC(N=C=O)=C1 VGHSXKTVMPXHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=C(CN=C=O)C=C1 OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NCCCCN=C=O OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 1-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKTUQAYCCLMNOA-UHFFFAOYSA-N 2,3-diaminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=CC(C(O)=O)=C1N KKTUQAYCCLMNOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLJZUKLGAWYGIF-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxybenzenesulfonic acid;sodium Chemical compound [Na].OC1=CC=C(O)C(S(O)(=O)=O)=C1 SLJZUKLGAWYGIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXOZTUMCVTYUNS-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylheptan-4-one;2-hydroxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C.C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 RXOZTUMCVTYUNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRPKEUVFESZUKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)benzoic acid Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1C(O)=O ZRPKEUVFESZUKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGDCJKDZZUALAO-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoxypropane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)OCC=C IGDCJKDZZUALAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXGYBSJAZFGIPX-UHFFFAOYSA-N 2-pyridin-2-ylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=N1 BXGYBSJAZFGIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZTJKOLMWJNVFH-UHFFFAOYSA-N 2-sulfobenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1S(O)(=O)=O YZTJKOLMWJNVFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 2-undecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZWKEPYTBWZJJA-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1=C(N=C=O)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N=C=O)=CC=2)=C1 QZWKEPYTBWZJJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTSFNCCQCOEPKF-UHFFFAOYSA-N 3-amino-1h-pyridin-2-one Chemical compound NC1=CC=CN=C1O VTSFNCCQCOEPKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PECYZEOJVXMISF-UHFFFAOYSA-N 3-aminoalanine Chemical compound [NH3+]CC(N)C([O-])=O PECYZEOJVXMISF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLIQIXIBZLTPGQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-hydroxyethoxy)benzoic acid Chemical compound OCCOC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 QLIQIXIBZLTPGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPSWDCBWMRJJED-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol;oxirane Chemical class C1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 WPSWDCBWMRJJED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical class NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N D-glyceric acid Chemical compound OC[C@@H](O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 241000872198 Serjania polyphylla Species 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003927 aminopyridines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- BUZRUIZTMOKRPB-UHFFFAOYSA-N carboxycarbamic acid Chemical compound OC(=O)NC(O)=O BUZRUIZTMOKRPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N cyclohexylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C1CCCCC1 WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- AJCDFVKYMIUXCR-UHFFFAOYSA-N oxobarium;oxo(oxoferriooxy)iron Chemical compound [Ba]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O.O=[Fe]O[Fe]=O AJCDFVKYMIUXCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229940081066 picolinic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol Chemical compound CCC(O)O ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMLSEBHVDVAYOL-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol;pyridine Chemical compound CCC(O)O.C1=CC=NC=C1 NMLSEBHVDVAYOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAIDIRVMPHBRLT-UHFFFAOYSA-N propane-1,2,3-triol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(O)CO FAIDIRVMPHBRLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBQKCCHYAOITMY-UHFFFAOYSA-N pyridin-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=N1 UBQKCCHYAOITMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZYXNRREDYWPLN-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,3-diamine Chemical compound NC1=CC=CN=C1N ZZYXNRREDYWPLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGOZGYRTNQBSSA-UHFFFAOYSA-N pyridine-2,3-diol Chemical compound OC1=CC=CN=C1O GGOZGYRTNQBSSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- RTVVXRKGQRRXFJ-UHFFFAOYSA-N sodium;2-sulfobutanedioic acid Chemical compound [Na].OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O RTVVXRKGQRRXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005497 tetraalkylphosphonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- UJJLJRQIPMGXEZ-UHFFFAOYSA-N tetrahydro-2-furoic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCO1 UJJLJRQIPMGXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004072 triols Chemical class 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006297 γ-Fe2O3 Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は磁気記録媒体に関し、特に磁性層と非磁性支持
体との間に下塗り層を設けた磁気特性及び機械特性の優
れた磁気記録媒体に関する。
体との間に下塗り層を設けた磁気特性及び機械特性の優
れた磁気記録媒体に関する。
(従来の技術)
高密度記録用磁気記録媒体においては、磁性層の表面平
滑性を向上させることが要求されている。
滑性を向上させることが要求されている。
このため磁性層と非磁性支持体との間に下塗り層を設け
、磁性層の表面平滑性を向上させる工夫が特開昭6O−
1335jl!9号、同60−154327号、同61
−13430号、同61−73236号等に記載されて
いる。しかしながらこれらにおいては耐溶剤性が低い、
耐久性が低い、磁性層、特に強磁性金属薄膜からなる磁
性層と非磁性支持体との接着性が充分ではない、下塗り
層に帯電防止等の目的で非磁性微粒子を含有させた場合
、分散性が悪いため表面平滑性が低下する等の問題があ
った。また、下塗り層中に非磁性微粒子を良好に分散さ
せるために、親水性極性基を有する化合物からなる樹脂
材料を下塗り層に用いる工夫が特開昭60−20316
号に記載されており、分子内にホスホン酸等の燐化合物
の金属塩を含有する樹脂材料が非磁性微粒子を良好に分
散させ、がっ磁性層と非磁性支持体との接着性に優れる
ことが示されている。
、磁性層の表面平滑性を向上させる工夫が特開昭6O−
1335jl!9号、同60−154327号、同61
−13430号、同61−73236号等に記載されて
いる。しかしながらこれらにおいては耐溶剤性が低い、
耐久性が低い、磁性層、特に強磁性金属薄膜からなる磁
性層と非磁性支持体との接着性が充分ではない、下塗り
層に帯電防止等の目的で非磁性微粒子を含有させた場合
、分散性が悪いため表面平滑性が低下する等の問題があ
った。また、下塗り層中に非磁性微粒子を良好に分散さ
せるために、親水性極性基を有する化合物からなる樹脂
材料を下塗り層に用いる工夫が特開昭60−20316
号に記載されており、分子内にホスホン酸等の燐化合物
の金属塩を含有する樹脂材料が非磁性微粒子を良好に分
散させ、がっ磁性層と非磁性支持体との接着性に優れる
ことが示されている。
しかしながら、分子内にホスホン酸等の燐化合物の金属
塩を含有する樹脂はホスホン酸等の燐化合物の金属塩の
無機性が大きいため、汎用溶剤中あるいは無溶剤中の反
応で樹脂中に導入することが難しく、また耐加水分解性
に劣るため耐久性が低いという問題があった。
塩を含有する樹脂はホスホン酸等の燐化合物の金属塩の
無機性が大きいため、汎用溶剤中あるいは無溶剤中の反
応で樹脂中に導入することが難しく、また耐加水分解性
に劣るため耐久性が低いという問題があった。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は、磁性層と非磁性支持体との間に前記問題点を
解消した下塗り層、即ち耐溶剤性、耐久性に優れ、磁性
層と非磁性支持体を良好に接着し1非磁性微粒子を含有
させる場合はこれを良好に分散させ、表面平滑性に優れ
た下塗り層を設けた磁気記録媒体を提供するものである
。
解消した下塗り層、即ち耐溶剤性、耐久性に優れ、磁性
層と非磁性支持体を良好に接着し1非磁性微粒子を含有
させる場合はこれを良好に分散させ、表面平滑性に優れ
た下塗り層を設けた磁気記録媒体を提供するものである
。
(問題点を解決するための手段)
本発明者等は前記の問題に鑑み鋭意検討した結果、磁性
層と非磁性支持体との間に下塗り層を設けた磁気記録媒
体において、該下塗り層が放射線硬化されており、かつ
、放射線硬化前の下塗り層を形成する熱可塑性樹脂が、
分子内に少なくとも1個の二重結合を有し、下記式(1
)〜(ff)で示される燐化合物の少なくとも1種また
は前記燐化合物の少なくとも1種および燐原子以外の親
水性極性基含有化合物の少なくとも1種を構成成分とす
ることを特徴とする磁気記録媒体が、磁性層の表面平滑
性に優れ、磁性層と非磁性支持体との接着性が良好であ
り、耐久性に優れたものであることを見い出した。
層と非磁性支持体との間に下塗り層を設けた磁気記録媒
体において、該下塗り層が放射線硬化されており、かつ
、放射線硬化前の下塗り層を形成する熱可塑性樹脂が、
分子内に少なくとも1個の二重結合を有し、下記式(1
)〜(ff)で示される燐化合物の少なくとも1種また
は前記燐化合物の少なくとも1種および燐原子以外の親
水性極性基含有化合物の少なくとも1種を構成成分とす
ることを特徴とする磁気記録媒体が、磁性層の表面平滑
性に優れ、磁性層と非磁性支持体との接着性が良好であ
り、耐久性に優れたものであることを見い出した。
(X、Yはエステル形成性官能基、R1は炭素数3〜1
0の3価の炭化水素基、R2は炭素数1〜12のアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基。
0の3価の炭化水素基、R2は炭素数1〜12のアルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基。
R3s Ra’ti m 素’Ik 1〜12のアルキ
レン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、次式:
+0H2−ORs+mで表される基(Rsは炭素数1〜
12のアルキレン基を示す。mはl−4の任意の数値を
とることができる。)Mは水素、アルカリ金属原子、1
価の炭化水素、又はアミノ基を示す。〕 本発明において下塗り層形成のために使用される熱可塑
性樹脂は、分子内に二重結合と極性基を有し、極性基の
少なくとも1種は前記式(1)〜(ト)に示される燐系
極性基を有する化合物によって導入された極性基である
熱可塑性樹脂である。具体的にはアクリル系二重結合含
有化合物(A)とウレタン結合、エステル結合、エーテ
ル結合、アミド結合のうち少なくとも1種の結合を介し
て結合している熱可塑性樹脂、例えばポリウレタンアク
リレート樹脂、ポリエステルアクリレート樹脂、エポキ
シアクリレート樹脂、種々のアクリレート化合物等が挙
げられる。
レン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、次式:
+0H2−ORs+mで表される基(Rsは炭素数1〜
12のアルキレン基を示す。mはl−4の任意の数値を
とることができる。)Mは水素、アルカリ金属原子、1
価の炭化水素、又はアミノ基を示す。〕 本発明において下塗り層形成のために使用される熱可塑
性樹脂は、分子内に二重結合と極性基を有し、極性基の
少なくとも1種は前記式(1)〜(ト)に示される燐系
極性基を有する化合物によって導入された極性基である
熱可塑性樹脂である。具体的にはアクリル系二重結合含
有化合物(A)とウレタン結合、エステル結合、エーテ
ル結合、アミド結合のうち少なくとも1種の結合を介し
て結合している熱可塑性樹脂、例えばポリウレタンアク
リレート樹脂、ポリエステルアクリレート樹脂、エポキ
シアクリレート樹脂、種々のアクリレート化合物等が挙
げられる。
本発明の熱可塑性樹脂に含まれるアクリル系二重結合と
はアクリル酸、アクリル酸エステル、アクリル酸アミド
、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、メタクリル酸
アミド等の残基(アクリロイル基又はメタクリロイル基
)をいう。
はアクリル酸、アクリル酸エステル、アクリル酸アミド
、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、メタクリル酸
アミド等の残基(アクリロイル基又はメタクリロイル基
)をいう。
アクリル系二重結合含有化合物(A)としては(メタ)
アクリル酸などのカルボキシル基含有アクリル系化合物
(A −1) 、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、ヘキサメチレングリコール等のグリコールのモ
ノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン、グ
リセリン、トリメチロールエタン等のトリオール化合物
のモノ(メタ)アクリレートおよびジ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール
等の4価以上のポリオールのモノ(メタ)アクリレート
、ジ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アクリレート
、グリセリンモノアリルエーテル、グリセリンジアリル
エーテル等のヒドロキシル基含有アクリル系化合物(A
−2)、グリシジル(メタ)アクリレートなどのグリシ
ジ、ル基含有アクリル系化合物(A−3)、(メタ)ア
クリルアミド、モノメチロール(メタ)アクリルアミド
等のアミン基含有アクリル系化合物(A −a ) 、
シフ y エチル(メタ)アクリレートなどのイソシア
ネート基含有アクリル系化合物(A−5>などがある。
アクリル酸などのカルボキシル基含有アクリル系化合物
(A −1) 、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、ヘキサメチレングリコール等のグリコールのモ
ノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン、グ
リセリン、トリメチロールエタン等のトリオール化合物
のモノ(メタ)アクリレートおよびジ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール
等の4価以上のポリオールのモノ(メタ)アクリレート
、ジ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)アクリレート
、グリセリンモノアリルエーテル、グリセリンジアリル
エーテル等のヒドロキシル基含有アクリル系化合物(A
−2)、グリシジル(メタ)アクリレートなどのグリシ
ジ、ル基含有アクリル系化合物(A−3)、(メタ)ア
クリルアミド、モノメチロール(メタ)アクリルアミド
等のアミン基含有アクリル系化合物(A −a ) 、
シフ y エチル(メタ)アクリレートなどのイソシア
ネート基含有アクリル系化合物(A−5>などがある。
これらのアクリル糸二重結合は結合剤の分子内に少なく
とも1個以上存在する必要がある。1個に満たない場合
は、充分に架橋密度が高くならず、機械的強度の劣った
皮膜となり、好ましくない。
とも1個以上存在する必要がある。1個に満たない場合
は、充分に架橋密度が高くならず、機械的強度の劣った
皮膜となり、好ましくない。
ポリウレタンアクリレート樹脂とは一般に、ヒドロキシ
ル基含有樹脂およびヒドロキシル基含有アクリル系化合
物(A−2)とポリイソシアネート含有化合物との反応
により得られるものである。
ル基含有樹脂およびヒドロキシル基含有アクリル系化合
物(A−2)とポリイソシアネート含有化合物との反応
により得られるものである。
ヒドロキシル基含有樹脂としてはポリエチレングリコー
ル1ポリブチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ルなどのポリアルキレングリコール1ビスフエノールA
のアルキレンオキサイド付加物、各種のグリフールおよ
びヒドロギシル基を分子鎖末端に有するポリエステルポ
リオール(B)などがあげられる。これらの中でもポリ
エステルポリオール(B)を1成分として得られるポリ
ウレタンアクリレート樹脂が好ましい。
ル1ポリブチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ルなどのポリアルキレングリコール1ビスフエノールA
のアルキレンオキサイド付加物、各種のグリフールおよ
びヒドロギシル基を分子鎖末端に有するポリエステルポ
リオール(B)などがあげられる。これらの中でもポリ
エステルポリオール(B)を1成分として得られるポリ
ウレタンアクリレート樹脂が好ましい。
ポリニスデルポリオール(B)のカルボン酸成分として
は、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、1
.5−ナフタル酸などの芳香族ジカルボン酸、p−オキ
シ安息香酸、p−(ヒドロキシエトキシ)安息香酸など
の芳香族オキシカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、ア
ゼライン酸、セパシン酸、ドデカンジカルボン酸などの
脂肪族ジカルボン酸、フマール版、マレイン酸1イタフ
ン酸、テトラヒドロフ、タル酸1ヘキサヒドロフタル酸
等の不飽脂肪族および脂環族ジカルボン酸、トリメリッ
ト酸、トリメシン酸、ピロメリット酸などのトリおよび
テトラカルボン酸などを挙げることができる。
は、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、1
.5−ナフタル酸などの芳香族ジカルボン酸、p−オキ
シ安息香酸、p−(ヒドロキシエトキシ)安息香酸など
の芳香族オキシカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、ア
ゼライン酸、セパシン酸、ドデカンジカルボン酸などの
脂肪族ジカルボン酸、フマール版、マレイン酸1イタフ
ン酸、テトラヒドロフ、タル酸1ヘキサヒドロフタル酸
等の不飽脂肪族および脂環族ジカルボン酸、トリメリッ
ト酸、トリメシン酸、ピロメリット酸などのトリおよび
テトラカルボン酸などを挙げることができる。
またポリエステルポリオール(B)のグリコール成分と
してはエチレングリフール、プロパンジオ−ル、1,3
−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1.5
−ベンタンジオール、工、6−ヘキサンジオール、ネス
ヘンチルグリコール、ジエチレングリコール、ジプロピ
レングリコール、2,2.4−トリメチル−1,3−ベ
ンタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタツール
、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物および
プロピレンオキサイド付加物、水素化ビスフェノールA
のエチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド付加
物、ポリエチレンクリコール、ポリプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコールなどがある。またト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセ
リン、ペンタエリスリトールなどのトリおよびテトラオ
ールを併用してもよい。ポリエステルポリオールとして
は他にε−カブ四ラうトン等のラクトン類を開環重合し
て得られるラクトン系ポリエステルジオール類があげら
れる。
してはエチレングリフール、プロパンジオ−ル、1,3
−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1.5
−ベンタンジオール、工、6−ヘキサンジオール、ネス
ヘンチルグリコール、ジエチレングリコール、ジプロピ
レングリコール、2,2.4−トリメチル−1,3−ベ
ンタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタツール
、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物および
プロピレンオキサイド付加物、水素化ビスフェノールA
のエチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド付加
物、ポリエチレンクリコール、ポリプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコールなどがある。またト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセ
リン、ペンタエリスリトールなどのトリおよびテトラオ
ールを併用してもよい。ポリエステルポリオールとして
は他にε−カブ四ラうトン等のラクトン類を開環重合し
て得られるラクトン系ポリエステルジオール類があげら
れる。
本発明で使用されるポリイソシアネート(C)としては
2.4−)リレンジイソシアネート、2.6−ドリレン
ジイソシアネート1p−7二二レンジイソシアネート、
ビフェニルメタンジイソシアネート、m−フェニレンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、テ
トラメチレンジイソシアネート、3,3′−ジメトキシ
−4,4゛−ビフエニレンジイソシアネー)、2.4−
す7タレンジイソシアネート、3 、3’−ジメチル−
44+−ビフェニレンジイソシアネート、4.4’−ジ
フェニレンジイソシアネート、4.4’−ジイソシフ*
−)−ジフェニルエーテル、工、5′−ナフタレンジイ
ソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m〜
ルキシリレンジイソシアネート1.3−ジイソシアネー
トメチルシクロヘキサン11.4−ジイソシアネートメ
チルシクロヘキサン、4.41−ジイソシアネートジシ
クロヘキサン、4.4′−ジイソシアネートシクロヘキ
シルメタン1イソホロンジイソシアネート等のジイソシ
アネート化合物、あるいは全イソシアネート基のうち7
モル%以下の2,4−トリレンジイソシアネートの三量
体、ヘキサメチレンジイソシアネートの三量体等のトリ
イソシアネート化合物があげられる。
2.4−)リレンジイソシアネート、2.6−ドリレン
ジイソシアネート1p−7二二レンジイソシアネート、
ビフェニルメタンジイソシアネート、m−フェニレンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、テ
トラメチレンジイソシアネート、3,3′−ジメトキシ
−4,4゛−ビフエニレンジイソシアネー)、2.4−
す7タレンジイソシアネート、3 、3’−ジメチル−
44+−ビフェニレンジイソシアネート、4.4’−ジ
フェニレンジイソシアネート、4.4’−ジイソシフ*
−)−ジフェニルエーテル、工、5′−ナフタレンジイ
ソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m〜
ルキシリレンジイソシアネート1.3−ジイソシアネー
トメチルシクロヘキサン11.4−ジイソシアネートメ
チルシクロヘキサン、4.41−ジイソシアネートジシ
クロヘキサン、4.4′−ジイソシアネートシクロヘキ
シルメタン1イソホロンジイソシアネート等のジイソシ
アネート化合物、あるいは全イソシアネート基のうち7
モル%以下の2,4−トリレンジイソシアネートの三量
体、ヘキサメチレンジイソシアネートの三量体等のトリ
イソシアネート化合物があげられる。
ポリエステルアクリレート樹脂とはヒドロキシル基を含
有するポリエステルポリ、オール(B)と、または該ポ
リエステルポリオール(B)の゛製造時に前記のアクリ
ル系化合物(A−1)〜(A−4)とを反応させて得ら
れるものである。
有するポリエステルポリ、オール(B)と、または該ポ
リエステルポリオール(B)の゛製造時に前記のアクリ
ル系化合物(A−1)〜(A−4)とを反応させて得ら
れるものである。
エポキシアクリレート樹脂としてはグリシジル基を含有
するエピビス型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹
脂等と前記アクリル系化合物(A−1)−(A−5)と
を反応させることにより得られるものである。
するエピビス型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹
脂等と前記アクリル系化合物(A−1)−(A−5)と
を反応させることにより得られるものである。
種々のアクリレート化合物とはエチレングリコール、ネ
オペンチルグリコ−/I/1ジエチレングリコール、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等のグリ
フール類とアクリル系化合物(A−1)〜(A−4)と
の反応などにより得られるものである。
オペンチルグリコ−/I/1ジエチレングリコール、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等のグリ
フール類とアクリル系化合物(A−1)〜(A−4)と
の反応などにより得られるものである。
本発明の熱可塑性樹脂の形成性成分の1つは前記式(1
)〜([V)で示される燐化合物である。
)〜([V)で示される燐化合物である。
これらの燐化合物の代表例の構造式を以下に示す。
式(1)の例
弐〇)の例
式(1)の例
PC山01叩−鴇0H)z (24)Na
Na
Na
?N&
mocn6aPr2oc@−p−a4oazazon
(27)式α)の例 !I P(OH20H20H20H20H)2(43)奪 OH ON& uoaI(2aa2oaH2−p−aH2oaH2oH
2oa (R6)Na HooaaH2叩四夷oa4−p −oH2oo2oz
aooH(48)+1 OH H00H2GH200B2−P−OH200H20%O
H(49)0cI2穐 H00H20H200H2−P−OH200H20H2
0H(1)金属、テトラアルキルアンモニウム、テトラ
アルキルホスホニウムを表わし、R1−R3は水素原子
炭411〜8のアルキル、アリール1アラルキルを表わ
す。)を挙げることができる。
(27)式α)の例 !I P(OH20H20H20H20H)2(43)奪 OH ON& uoaI(2aa2oaH2−p−aH2oaH2oH
2oa (R6)Na HooaaH2叩四夷oa4−p −oH2oo2oz
aooH(48)+1 OH H00H2GH200B2−P−OH200H20%O
H(49)0cI2穐 H00H20H200H2−P−OH200H20H2
0H(1)金属、テトラアルキルアンモニウム、テトラ
アルキルホスホニウムを表わし、R1−R3は水素原子
炭411〜8のアルキル、アリール1アラルキルを表わ
す。)を挙げることができる。
これらの親水性極性基を含有させるために用いられる具
体的な化合物としては下記の通りである。
体的な化合物としては下記の通りである。
(1) −000M
前記のポリエステルポリオール(B)の酸成分であるポ
リカルボン徹、グリセリン酸、ジメチロールプロピオン
bit、Hp N−ジェタノールグリシン、ヒドロキシ
エチルオキシ安息香I!111i等のオキシカルボン酸
、ジアミノプロピオン酸、ジアミノ安息香酸等のアミノ
カルボン酸及びその誘導体。
リカルボン徹、グリセリン酸、ジメチロールプロピオン
bit、Hp N−ジェタノールグリシン、ヒドロキシ
エチルオキシ安息香I!111i等のオキシカルボン酸
、ジアミノプロピオン酸、ジアミノ安息香酸等のアミノ
カルボン酸及びその誘導体。
R。
N−メチルジェタノールアミン、2−メチル−2−ジメ
チルアミノメチルーユ、3−プロパツール、2−メチル
−2−ジメチルアミン−1,3−プロパンジオール等の
含窒素アルコール及びその誘導体。
チルアミノメチルーユ、3−プロパツール、2−メチル
−2−ジメチルアミン−1,3−プロパンジオール等の
含窒素アルコール及びその誘導体。
ピコリン酸、ジピコリン酸、アミノピリジン、ジアミノ
ピリジン、ヒドロキシピリジン、ジヒドロキシピリジン
、アミノヒドロキシピリジン、ピリジンジメタツール、
ピリジンプロパンジオール、ピリジンエタノール等のピ
リジン環含有化合物及びその誘導体。
ピリジン、ヒドロキシピリジン、ジヒドロキシピリジン
、アミノヒドロキシピリジン、ピリジンジメタツール、
ピリジンプロパンジオール、ピリジンエタノール等のピ
リジン環含有化合物及びその誘導体。
(4)−3o3M
5−ナトリウムスルホイソフタル酸、5−テトラブチル
ホスホニウム、スルホイソフタル酸、ナトリウムスルホ
コハク酸、等のポリカルボン酸及び誘導体、ナトリウム
スルホハイドロキノンおよびアルキレンオキサイド付加
物、ナトリウムスルホビスフェノールAおよびアルキレ
ンオキサイド付加物等。
ホスホニウム、スルホイソフタル酸、ナトリウムスルホ
コハク酸、等のポリカルボン酸及び誘導体、ナトリウム
スルホハイドロキノンおよびアルキレンオキサイド付加
物、ナトリウムスルホビスフェノールAおよびアルキレ
ンオキサイド付加物等。
これら特定の燐化合物は種々の過程を経て反応させるこ
とができる。例えば、ポリエステルポリオール(B)、
ポリアルキレングリコール、エボキシ樹脂等の原料樹脂
を製造する際に、そのl成分として用いられることがで
きる。特に、ポリエステルポリオ−A/(E)を製造す
る際、上記式(1)〜(IV)で表わされる燐化合物を
ポリエステルポリオール(B)の重合完結前の任意の段
階で添加し、反応させることができる。製造時の操業上
の点からエステル交換反応後またはエステル化反応後の
段階で添加するのが好ましい。
とができる。例えば、ポリエステルポリオール(B)、
ポリアルキレングリコール、エボキシ樹脂等の原料樹脂
を製造する際に、そのl成分として用いられることがで
きる。特に、ポリエステルポリオ−A/(E)を製造す
る際、上記式(1)〜(IV)で表わされる燐化合物を
ポリエステルポリオール(B)の重合完結前の任意の段
階で添加し、反応させることができる。製造時の操業上
の点からエステル交換反応後またはエステル化反応後の
段階で添加するのが好ましい。
また、これらの特定の燐化合物はポリウレタンアクリレ
ート射脂、ポリエステルアクリレート樹脂、エポキシア
クリレート樹脂1.アクリレート化合物等の放射線硬化
型樹脂の原料の1成分として用いられることができる。
ート射脂、ポリエステルアクリレート樹脂、エポキシア
クリレート樹脂1.アクリレート化合物等の放射線硬化
型樹脂の原料の1成分として用いられることができる。
例えば、ヒドロキシル基を含有する燐化合物は直接イソ
シアネート化合物(O)、ポリエステルポリオール(B
)やアクリレート化合物(A)と反応させることにより
、ポリウレタンアクリレート樹脂を製造することができ
る。
シアネート化合物(O)、ポリエステルポリオール(B
)やアクリレート化合物(A)と反応させることにより
、ポリウレタンアクリレート樹脂を製造することができ
る。
さらに本発明の特定の燐化合物のうちジオールをポリウ
レタンアクリレート樹脂の鎖延長剤として、ジカルボン
酸をエポキシアクリレート樹脂の鎖延長剤として、ジオ
ール、ジカルボン酸をポリエステルアクリレ−)f&脂
の鎖延長剤として使用してもよい。またこれらの特定の
燐化合物のうち、ジオールのモノ(メタ)アクリレート
をポリウレタンアクリレート樹脂の鎖延長剤として、ジ
カルボン酸のモノエチルオキシ(メタ)アクリレートを
エポキシアクリレート樹脂の末端停止剤として使用して
もよい。さらに特定の燐化合物のポリ(メタ)アクリレ
ートをアクリル系化合物として使用してもよい。
レタンアクリレート樹脂の鎖延長剤として、ジカルボン
酸をエポキシアクリレート樹脂の鎖延長剤として、ジオ
ール、ジカルボン酸をポリエステルアクリレ−)f&脂
の鎖延長剤として使用してもよい。またこれらの特定の
燐化合物のうち、ジオールのモノ(メタ)アクリレート
をポリウレタンアクリレート樹脂の鎖延長剤として、ジ
カルボン酸のモノエチルオキシ(メタ)アクリレートを
エポキシアクリレート樹脂の末端停止剤として使用して
もよい。さらに特定の燐化合物のポリ(メタ)アクリレ
ートをアクリル系化合物として使用してもよい。
本発明の熱可塑性樹脂は公知の方法により、アクリル系
二重結合含有化合物(A)と特定の燐系化合物および/
または特定の燐系化合物と反応させた原料樹脂などを含
む原料とを溶剤中、または無溶剤中で反応させることに
より得られる。得られる樹脂の分子社は500〜l O
O,000であることが望ましい。
二重結合含有化合物(A)と特定の燐系化合物および/
または特定の燐系化合物と反応させた原料樹脂などを含
む原料とを溶剤中、または無溶剤中で反応させることに
より得られる。得られる樹脂の分子社は500〜l O
O,000であることが望ましい。
上記一般式(1)〜(IVIで示される燐化合物は、樹
脂中に燐原子として200 ppm〜50000 pp
m 含まれるように使用するのが適当であり、上記範
囲より小さくなれば、下塗り層の磁性層に対する密着性
が低下し、また、非磁性粒子を加えた場合、非磁性微粒
子に対する分散性が低下する。一方、上記範囲より大き
くなれば吸湿性の増大、物理的特性の低下、非磁性支持
体に対する密着性の低下等を生じ、実用性が少なくなる
。
脂中に燐原子として200 ppm〜50000 pp
m 含まれるように使用するのが適当であり、上記範
囲より小さくなれば、下塗り層の磁性層に対する密着性
が低下し、また、非磁性粒子を加えた場合、非磁性微粒
子に対する分散性が低下する。一方、上記範囲より大き
くなれば吸湿性の増大、物理的特性の低下、非磁性支持
体に対する密着性の低下等を生じ、実用性が少なくなる
。
これら特定の燐化合物以外の親水性極性基を含有する化
合物は、特定の燐化合物と同様にして原料樹脂製造の際
、1成分として反応させることが可能である。特に鎖延
長剤又は末端停止剤として、用いることが好ましい。ポ
リウレタンアクリレート樹脂では、鎖延長剤としてジオ
ール等を、又は゛ 末端停止剤として、HOOH20
H2SO3N&、後記第2表のグリコ−lL/(1)の
モノアクリレート等を使用してもよい。エポキシアクリ
レート樹脂では鎖延長剤としてジカルボン酸等を、又は
末端停止剤としてジカルボキシアミン等を使用してもよ
い。ポリエステルアクリレート樹脂としては上記ポリウ
レタンアクリレート樹脂およびエポキシ樹脂の鎖延長剤
又は末端停止剤が使用できる。
合物は、特定の燐化合物と同様にして原料樹脂製造の際
、1成分として反応させることが可能である。特に鎖延
長剤又は末端停止剤として、用いることが好ましい。ポ
リウレタンアクリレート樹脂では、鎖延長剤としてジオ
ール等を、又は゛ 末端停止剤として、HOOH20
H2SO3N&、後記第2表のグリコ−lL/(1)の
モノアクリレート等を使用してもよい。エポキシアクリ
レート樹脂では鎖延長剤としてジカルボン酸等を、又は
末端停止剤としてジカルボキシアミン等を使用してもよ
い。ポリエステルアクリレート樹脂としては上記ポリウ
レタンアクリレート樹脂およびエポキシ樹脂の鎖延長剤
又は末端停止剤が使用できる。
本発明の熱可塑性樹脂は無溶剤あるいは溶剤を混合し、
必要に応じて非磁性微粒子を加え、非磁性支持体上に塗
布する。使用する溶剤としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類、メタノールなどのアルコール類島酢酸エ
チル、酪酸エチルなどのエステル類、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジオキサンなどのグリコール、エーテル類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、
ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素類またはこれ
らの混合物などが使用できる。
必要に応じて非磁性微粒子を加え、非磁性支持体上に塗
布する。使用する溶剤としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類、メタノールなどのアルコール類島酢酸エ
チル、酪酸エチルなどのエステル類、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジオキサンなどのグリコール、エーテル類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、
ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素類またはこれ
らの混合物などが使用できる。
非磁性微粒子としては、カーボンブラック、グラファイ
ト、カーボンブラックグラフトポリマー等の導電性微粉
末が帯電防止、剤として使用できる。
ト、カーボンブラックグラフトポリマー等の導電性微粉
末が帯電防止、剤として使用できる。
非磁性支持体としては、例えばポリエチレンテレフタレ
ートなどのポリエステル、ポリプロピレンなどのポリオ
レフィン、セルローストリアセテートやセルロースジア
セテートなどのセルロース誘導体、ポリカーボネート、
ポリ塩化ビニル、ポリイミド、アルミニウムや銅などの
金属、紙などが使用できる。
ートなどのポリエステル、ポリプロピレンなどのポリオ
レフィン、セルローストリアセテートやセルロースジア
セテートなどのセルロース誘導体、ポリカーボネート、
ポリ塩化ビニル、ポリイミド、アルミニウムや銅などの
金属、紙などが使用できる。
熱可塑性樹脂及び必要に応じて加えた非磁性微粒子を非
磁性支持体上にアプリケータを用いて乾燥後の厚みが0
.1〜2g+μになるように塗布し、乾燥させた後放射
線を照射する。本発明において使用する放射梅は紫外線
、電子線、r線中性子線等である。紫外線を使用する場
合には前記の混合物に光開始剤を添加することが望まし
い。光開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノ
ン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケター
ル、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケ
トン、ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロ
キシシクロへキシルフェニルケトン、2−2ジエトキシ
アセトフエノン、ミヒラーケトン、2−ヒドロキシ−2
メチルプロピオフエノン、ベンジル、ジエチルチオキサ
ンソン、2−クロロチオキサンソン、ベンゾイルジェト
キシホスフィンオキサイド、1−トリメチルベンゾイル
ジフェニルホスフィンオキサイド等が使用できる。また
必要に応じてn−ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン
、トリエチルアミン等の光増感剤を加えても良い。
磁性支持体上にアプリケータを用いて乾燥後の厚みが0
.1〜2g+μになるように塗布し、乾燥させた後放射
線を照射する。本発明において使用する放射梅は紫外線
、電子線、r線中性子線等である。紫外線を使用する場
合には前記の混合物に光開始剤を添加することが望まし
い。光開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノ
ン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケター
ル、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケ
トン、ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロ
キシシクロへキシルフェニルケトン、2−2ジエトキシ
アセトフエノン、ミヒラーケトン、2−ヒドロキシ−2
メチルプロピオフエノン、ベンジル、ジエチルチオキサ
ンソン、2−クロロチオキサンソン、ベンゾイルジェト
キシホスフィンオキサイド、1−トリメチルベンゾイル
ジフェニルホスフィンオキサイド等が使用できる。また
必要に応じてn−ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン
、トリエチルアミン等の光増感剤を加えても良い。
電子線照射機としてはスキャニング方式あるいはカーテ
ンビーム方式が採用でき、吸収線量は1〜20メガラン
ド好ましくは2〜1oメガランドが良い。吸収線量が1
メガランド以下では硬化反応が不充分であり、20メガ
ラツドを越えると硬化に使用されるエネルギー効率が低
下したり、支持体が変形及び劣化するので好ましくない
。
ンビーム方式が採用でき、吸収線量は1〜20メガラン
ド好ましくは2〜1oメガランドが良い。吸収線量が1
メガランド以下では硬化反応が不充分であり、20メガ
ラツドを越えると硬化に使用されるエネルギー効率が低
下したり、支持体が変形及び劣化するので好ましくない
。
本発明の放射m硬化した下塗り層の上に設けられる磁性
層は強磁性粒子と結合剤とを主成分とするものであって
も、強磁性金属薄膜であっても良い。強磁性粒子として
はγ−Fθ203、γ−Fe2O3とFe304の混晶
、0r02.00含有γ−yθ203、バリウムフェラ
イト、lFe−0o、Fa−Ni、Fe−0o−Ni等
の強磁性粉末などが使用できる。結合剤としては特開昭
57−92422号等に開示された熱硬化型結合剤、特
開昭56−129741号、同57−92421号等に
開示された放射線硬化型結合剤が使用できる。
層は強磁性粒子と結合剤とを主成分とするものであって
も、強磁性金属薄膜であっても良い。強磁性粒子として
はγ−Fθ203、γ−Fe2O3とFe304の混晶
、0r02.00含有γ−yθ203、バリウムフェラ
イト、lFe−0o、Fa−Ni、Fe−0o−Ni等
の強磁性粉末などが使用できる。結合剤としては特開昭
57−92422号等に開示された熱硬化型結合剤、特
開昭56−129741号、同57−92421号等に
開示された放射線硬化型結合剤が使用できる。
本発明に適用される強磁性金属薄膜の形成法は真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンブレーティング法、化学
気相メッキ法によればよく、鉄、コバルト、ニッケルそ
の他の強磁性金属あるいはFe−00、Fe−Ni、0
o−Ni、Fe−8i、lFe−Rh、 0o−P%、
0o−Bs 0o−8i、0o−Vs 0o−YSO
o−na、0O−Oe。
法、スパッタリング法、イオンブレーティング法、化学
気相メッキ法によればよく、鉄、コバルト、ニッケルそ
の他の強磁性金属あるいはFe−00、Fe−Ni、0
o−Ni、Fe−8i、lFe−Rh、 0o−P%、
0o−Bs 0o−8i、0o−Vs 0o−YSO
o−na、0O−Oe。
Go−Pr、 0o−8rns (lo−Ft、 Oo
−Mns Ire−Oo−2JisOo−Ni−Plo
o−Ni−Bs Oo−Ni−Ags 0o−Ni−N
&%0o−Ni−Oeq 0o−Ni−Zn、 0o−
Ni−OnSOo−Ni−WSOo−Ni−Re、 O
o−8m−On等の強磁性合金が使用できる。
−Mns Ire−Oo−2JisOo−Ni−Plo
o−Ni−Bs Oo−Ni−Ags 0o−Ni−N
&%0o−Ni−Oeq 0o−Ni−Zn、 0o−
Ni−OnSOo−Ni−WSOo−Ni−Re、 O
o−8m−On等の強磁性合金が使用できる。
(作用)
本発明では磁性層と非磁性支持体との間に下塗り層を設
け、該下塗り層が特定の燐系極性基を有し、かつπ射線
硬化されているため、特に磁性層と非磁性支持体が良好
に接着され、磁性層の表面平滑性に優れた、耐久性の高
い磁気記録媒体が得られる。
け、該下塗り層が特定の燐系極性基を有し、かつπ射線
硬化されているため、特に磁性層と非磁性支持体が良好
に接着され、磁性層の表面平滑性に優れた、耐久性の高
い磁気記録媒体が得られる。
(実施例)
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。実施
例中、単に部とあるのは重歓部を示す。
例中、単に部とあるのは重歓部を示す。
(ポリエステルジオールの製造例)
温度計、攪拌機、蒸留頭、コンデンサー、減圧装置を具
備した反応容器中にアジピン酸100部エチレングリフ
ール61s%ネオペンチルグリコール52W)、前記燐
化合物IJ3)5.4部を仕込み220〜230°Cで
工時間常圧で反応を行なった後、10ss Hgに減圧
し30分間で250°Cまで昇温しで反応を行ない、ポ
リエステルジオールAを得た。ポリエステルジオールA
の分子量は2,400、燐含有率は1,500ppmで
あった。同様の製造方法により得られたポリエステルジ
オールB−Dを第1表に示した。樹脂組成はNMRより
分析した。
備した反応容器中にアジピン酸100部エチレングリフ
ール61s%ネオペンチルグリコール52W)、前記燐
化合物IJ3)5.4部を仕込み220〜230°Cで
工時間常圧で反応を行なった後、10ss Hgに減圧
し30分間で250°Cまで昇温しで反応を行ない、ポ
リエステルジオールAを得た。ポリエステルジオールA
の分子量は2,400、燐含有率は1,500ppmで
あった。同様の製造方法により得られたポリエステルジ
オールB−Dを第1表に示した。樹脂組成はNMRより
分析した。
第 1 表
(ポリウレタンアクリレート樹脂の製造例)温度計、攪
拌機、還流式冷却器を具備した反応容器中にトルエン7
2部、メチルエチルケトン72部、ポリエステルジオー
ルA100部を溶解as 4 e 4’−ジフェニルメ
タンジイソシアネート27部及びジプチル錫ジラウレー
)0.05部を仕込み、フO〜80’Qで2時間反応さ
せた後、更にグリセリンジアクリレート3.0部を加え
7〜80°Cで2時間反応させ、更にジメチロールプロ
ピオン酸6.4部を加え更に5時間反応させてポリウレ
タンアクリレート樹脂(イ)を得た。ポリウレタンアク
リレート樹脂(その分子量は15 、000であり燐含
有量は2.looppmであった。同様の製造方法によ
り1ポリウレタンアクリレート樹脂(→〜(→を得た。
拌機、還流式冷却器を具備した反応容器中にトルエン7
2部、メチルエチルケトン72部、ポリエステルジオー
ルA100部を溶解as 4 e 4’−ジフェニルメ
タンジイソシアネート27部及びジプチル錫ジラウレー
)0.05部を仕込み、フO〜80’Qで2時間反応さ
せた後、更にグリセリンジアクリレート3.0部を加え
7〜80°Cで2時間反応させ、更にジメチロールプロ
ピオン酸6.4部を加え更に5時間反応させてポリウレ
タンアクリレート樹脂(イ)を得た。ポリウレタンアク
リレート樹脂(その分子量は15 、000であり燐含
有量は2.looppmであった。同様の製造方法によ
り1ポリウレタンアクリレート樹脂(→〜(→を得た。
得られたポリウレタンアクリレート樹脂を第2表に示す
。
。
第 2 表
(実施例1〜3、比較例1〜4)
L 下塗り層の形成
第1表に示したポリウレタンアクリレート樹脂(づ−(
ホ)100部、トルエン200部、MIK 200部か
らなる下塗り用の塗料を25μ属のポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に乾燥後の層厚力0.5μ燻となる
ように塗布した。次い”IQ I OO°C11分間熱
風乾燥した後加速電圧165 KVs電流2.5!II
A%吸収線量5 Mradの電子線照射を行なった。
ホ)100部、トルエン200部、MIK 200部か
らなる下塗り用の塗料を25μ属のポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に乾燥後の層厚力0.5μ燻となる
ように塗布した。次い”IQ I OO°C11分間熱
風乾燥した後加速電圧165 KVs電流2.5!II
A%吸収線量5 Mradの電子線照射を行なった。
2 磁性層の形成
下記組成の磁性塗液をメールミルで10時間混線分散し
た。
た。
次いで、イソシアネート化合物、コロネートgo3o(
日本ポリウレタン工業株製)を硬化剤として5部加えさ
らに1時間混合して磁性塗料を得た。これを下塗り層を
設けたポリエチレンテレフタレートフィルム上に乾燥後
の厚みが5μmになるように塗布した。次いで、2,0
00ガウスの磁場中で配向処理を行ない、50°Cで2
日間放置後iインチ巾にスリットし、磁気テープを得た
。得られた磁気テープについて、下塗り層の表面あらさ
、耐溶剤性、磁性層と非磁性支持体との接着強度を測定
した結果を第3表に示す。比較のために、下塗り層がな
い場合(比較例2)および下塗り層が放射線硬化されて
いない場合(比較例8)についても示す。
日本ポリウレタン工業株製)を硬化剤として5部加えさ
らに1時間混合して磁性塗料を得た。これを下塗り層を
設けたポリエチレンテレフタレートフィルム上に乾燥後
の厚みが5μmになるように塗布した。次いで、2,0
00ガウスの磁場中で配向処理を行ない、50°Cで2
日間放置後iインチ巾にスリットし、磁気テープを得た
。得られた磁気テープについて、下塗り層の表面あらさ
、耐溶剤性、磁性層と非磁性支持体との接着強度を測定
した結果を第3表に示す。比較のために、下塗り層がな
い場合(比較例2)および下塗り層が放射線硬化されて
いない場合(比較例8)についても示す。
また、非磁性微粉末として比表面積50 *79のカー
ボンブラックをウレタンアクリレート耐層((イ)、(
→または(ホ))100部に対して100部配合した下
塗り層を設けた磁気テープを得た(実施例2および比較
例4)。得られた磁気テープについて同様に測定した結
果を第3表に示す。
ボンブラックをウレタンアクリレート耐層((イ)、(
→または(ホ))100部に対して100部配合した下
塗り層を設けた磁気テープを得た(実施例2および比較
例4)。得られた磁気テープについて同様に測定した結
果を第3表に示す。
第 3 表
表面あらさ:J工3140601 5−項に定義される
中心線平均あらさを表面あらさ計(東京 精密■製 SURFOOM)により測定した0 耐溶剤性:下塗り層上にメチルエチルケトンをスポイト
で1滴落とし、乾燥後跡が残る かどうかを観察した。
中心線平均あらさを表面あらさ計(東京 精密■製 SURFOOM)により測定した0 耐溶剤性:下塗り層上にメチルエチルケトンをスポイト
で1滴落とし、乾燥後跡が残る かどうかを観察した。
○・・・・跡が残らない
X・・・・ 〃 残る
接着強度:J工5K6854に準する。試験片巾禍イン
チ。磁性面にセロハンテープを貼 りつけ180°剥離した場合の磁性層と非磁性支持体と
の接着強度をテンシロ ン引張試験機で測定した。
チ。磁性面にセロハンテープを貼 りつけ180°剥離した場合の磁性層と非磁性支持体と
の接着強度をテンシロ ン引張試験機で測定した。
(実施例 &)
実施例1において、下塗り層にポリウレタンアクリレー
ト樹脂(→、(1)を用いた磁気テープを温度50°C
1湿度90%の恒温恒湿槽中に入れ3日間放置した後、
磁性層と非磁性支持体との接着強度を測定した。その結
果を第4表に示す。
ト樹脂(→、(1)を用いた磁気テープを温度50°C
1湿度90%の恒温恒湿槽中に入れ3日間放置した後、
磁性層と非磁性支持体との接着強度を測定した。その結
果を第4表に示す。
(比較例 翫)
下塗り層にポリウレタンアクリレート樹脂(→を用いた
磁気テープについて実施例8と同様の処理を行ない、磁
性層と非磁性支持体との接着強度を測定した結果を第4
表に示す。
磁気テープについて実施例8と同様の処理を行ない、磁
性層と非磁性支持体との接着強度を測定した結果を第4
表に示す。
第 4 表
第2表より、下塗り層に特定の燐化合物からなる極性基
を有するポリウレタンアクリレート樹脂を用いた磁気テ
ープが、下塗り層に極性基を有しないポリウレタンアク
リレート樹脂を使用した磁気テープに比較して磁性層と
非磁性支持体との接着強度が高いことが明らかである。
を有するポリウレタンアクリレート樹脂を用いた磁気テ
ープが、下塗り層に極性基を有しないポリウレタンアク
リレート樹脂を使用した磁気テープに比較して磁性層と
非磁性支持体との接着強度が高いことが明らかである。
また、特に下塗り層に非磁性微粉末を含有させた場合、
4下塗り層に特定の燐化合物からなる極性基を有するポ
リウレタンアクリレート樹脂を用いた方が下塗り層に極
性基を有しないポリウレタンアクリレート樹脂を用いた
場合と比較して非磁性微粉末の分散性が良いため下塗り
層の表面平滑剤が良いことが明らかである。
4下塗り層に特定の燐化合物からなる極性基を有するポ
リウレタンアクリレート樹脂を用いた方が下塗り層に極
性基を有しないポリウレタンアクリレート樹脂を用いた
場合と比較して非磁性微粉末の分散性が良いため下塗り
層の表面平滑剤が良いことが明らかである。
また、第3表より、特定の燐化合物からなる極性基を有
するポリウレタンアクリレート樹脂が、通常のホスホン
酸金属塩を極性基として有するポリウレタンアクリレー
ト樹脂に比較して、耐加水分解性、耐久性に優れている
ことが明らかである。
するポリウレタンアクリレート樹脂が、通常のホスホン
酸金属塩を極性基として有するポリウレタンアクリレー
ト樹脂に比較して、耐加水分解性、耐久性に優れている
ことが明らかである。
(発明の効果)
本発明により得られた磁気記録媒体は表面平滑性に優れ
るために各種磁気特性に優れるとともに、磁性層と非磁
性支持体との接着性が特に優れ、かつ耐加水分解性が良
好なことから、耐久性が極めて良好であり、有用な磁気
記録媒体を提供することができる。
るために各種磁気特性に優れるとともに、磁性層と非磁
性支持体との接着性が特に優れ、かつ耐加水分解性が良
好なことから、耐久性が極めて良好であり、有用な磁気
記録媒体を提供することができる。
Claims (2)
- (1)磁性層と非磁性支持体との間に下塗り層を設けた
磁気記録媒体において、該下塗り層が放射線硬化されて
おり、かつ、放射線硬化前の下塗り層を形成する熱可塑
性樹脂が分子内に少なくとも1個の二重結合を有し、下
記式( I )〜(IV)で示される燐化合物の少なくとも
1種または前記燐化合物の少なくとも1種および燐原子
以外の親水性極性基含有化合物の少なくとも1種を構成
成分とすることを特徴とする磁気記録媒体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I )▲数式、化
学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III)▲数式、化
学式、表等があります▼(IV) 〔X、Yはエステル形成性官能基、R_1は炭素数3〜
10の3価の炭化水素基、R_2は炭素数1〜12のア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基。R_3、R
_4は炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレ
ン基、アリーレン基、次式:−(OH_2−OR_5)
−_mで表される基(R_5は炭素数1〜12のアルキ
レン基を示す。mは1〜4の任意の数値をとることがで
きる。)Mは水素、アルカリ金属原子、1価の炭化水素
、又はアミノ基を示す。〕 - (2)上記下塗り層が非磁性微粒子を含有してなる特許
請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30997186A JPS63161517A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30997186A JPS63161517A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63161517A true JPS63161517A (ja) | 1988-07-05 |
Family
ID=17999569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30997186A Pending JPS63161517A (ja) | 1986-12-25 | 1986-12-25 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63161517A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0215413A (ja) * | 1988-07-01 | 1990-01-19 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
JPH0373408A (ja) * | 1989-05-12 | 1991-03-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 強磁性薄膜型磁気記録媒体 |
EP0798701A1 (en) * | 1992-01-08 | 1997-10-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
JP2002360321A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-17 | Etsuzo Fukuda | 杖の支持装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6038723A (ja) * | 1983-08-09 | 1985-02-28 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
JPS6177134A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-19 | Toyobo Co Ltd | 放射線硬化型磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-12-25 JP JP30997186A patent/JPS63161517A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6038723A (ja) * | 1983-08-09 | 1985-02-28 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
JPS6177134A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-19 | Toyobo Co Ltd | 放射線硬化型磁気記録媒体 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0215413A (ja) * | 1988-07-01 | 1990-01-19 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
JPH0373408A (ja) * | 1989-05-12 | 1991-03-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 強磁性薄膜型磁気記録媒体 |
EP0798701A1 (en) * | 1992-01-08 | 1997-10-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
JP2002360321A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-17 | Etsuzo Fukuda | 杖の支持装置 |
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