JPS63161114A - 仕切弁装置 - Google Patents
仕切弁装置Info
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- JPS63161114A JPS63161114A JP30952186A JP30952186A JPS63161114A JP S63161114 A JPS63161114 A JP S63161114A JP 30952186 A JP30952186 A JP 30952186A JP 30952186 A JP30952186 A JP 30952186A JP S63161114 A JPS63161114 A JP S63161114A
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- chamber
- pressure
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- processing chamber
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000011282 treatment Methods 0.000 abstract description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
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- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本願発明は次に述べる問題点の解決を目的とする。
（産業上の利用分野） この発明は真空炉、各種熱処理
炉などの処理室の開口部に設ける密封用の仕切弁装置に
関するもので、更に詳しくは、上記処理内の圧力値の如
何に拘らず、完全な密封が達成されるようにした仕切弁
装置に関するものである。
炉などの処理室の開口部に設ける密封用の仕切弁装置に
関するもので、更に詳しくは、上記処理内の圧力値の如
何に拘らず、完全な密封が達成されるようにした仕切弁
装置に関するものである。
（従来の技術） 種々の処理を連続的に実施する連続炉
系においては、処理室を単に真空に保つのみならず、こ
れにガス雰囲気を充填して処理を行なうこと等が増加す
る傾向にある。このばあい、処理室内の圧力が室外の圧
力よりも必ず低ければ、処理室開口部に従来の真空弁を
利用して何ら問題はない。しかしながら、逆に処理室内
圧力がより高いばあいには、その圧力差が開口部を開く
向きに働く。この圧力差による力は、圧力差１気圧につ
き１０ （Ｔｏｎ／ｍ）と大きく、仕切弁開閉駆動機構
がこの力にも抗するように構成されるばあいには、駆動
機構および支持金具類は強固なものである必要があり、
その結果非常に大きな設置スペースを要するという問題
点が生じる。
系においては、処理室を単に真空に保つのみならず、こ
れにガス雰囲気を充填して処理を行なうこと等が増加す
る傾向にある。このばあい、処理室内の圧力が室外の圧
力よりも必ず低ければ、処理室開口部に従来の真空弁を
利用して何ら問題はない。しかしながら、逆に処理室内
圧力がより高いばあいには、その圧力差が開口部を開く
向きに働く。この圧力差による力は、圧力差１気圧につ
き１０ （Ｔｏｎ／ｍ）と大きく、仕切弁開閉駆動機構
がこの力にも抗するように構成されるばあいには、駆動
機構および支持金具類は強固なものである必要があり、
その結果非常に大きな設置スペースを要するという問題
点が生じる。
この問題点を除くために、一般には、上記駆動機構とは
別体の、例えば、油圧あるいは空圧シリンダー操作によ
るクランプ装置を設け、これが上記圧力差に抗するよう
にすることが考えられる。
別体の、例えば、油圧あるいは空圧シリンダー操作によ
るクランプ装置を設け、これが上記圧力差に抗するよう
にすることが考えられる。
しかしながら、このばあいには、炉構造が複雑となり、
密封個所が増加して、気密漏れの原因となるという新た
な問題点が生じる。
密封個所が増加して、気密漏れの原因となるという新た
な問題点が生じる。
（発明が解決しようとする問題点） この発明は上記従
来の問題点を除き、各種処理室内の圧力値の如何に拘ら
ず、その処理室の密封状態を安定維持でき、かつ処理室
内の圧力に抗する付加的なりランプ機構等を何ら必要と
しないようにした仕切弁装置を提供しようとするもので
ある。
来の問題点を除き、各種処理室内の圧力値の如何に拘ら
ず、その処理室の密封状態を安定維持でき、かつ処理室
内の圧力に抗する付加的なりランプ機構等を何ら必要と
しないようにした仕切弁装置を提供しようとするもので
ある。
本願発明の構成は次の通りである。
（問題点を解決する為の手段） 本願発明は前記請求の
範囲記載の通りの手段を講じたものであってその作用は
次の通りである。
範囲記載の通りの手段を講じたものであってその作用は
次の通りである。
（作用） 処理室開口部に設ける扉を取囲むように設け
た加圧室内の圧力を処理室内圧力以上に保つ。その結果
、処理室内外の圧力差は、上記扉を上記開口に同って閉
じる向きに作用し、処理室内圧力が大気圧より高いばあ
いであっても、処理室の密封状態は確実かつ自動的に維
持される。
た加圧室内の圧力を処理室内圧力以上に保つ。その結果
、処理室内外の圧力差は、上記扉を上記開口に同って閉
じる向きに作用し、処理室内圧力が大気圧より高いばあ
いであっても、処理室の密封状態は確実かつ自動的に維
持される。
（実施例）以下本願の実施例を示す第１図、第２図につ
いてその構成を説明する。ｌａ、 ｌｂ、 ｌｃはそれ
ぞれ中空の予熱室、加熱室、冷却室であり、これらは一
連の連続炉の各処理室を構成し、各被処理物は予熱室１
ａの左側から装入され、冷却室ＩＣの右側から取出され
るようになっている。なおｌａ。
いてその構成を説明する。ｌａ、 ｌｂ、 ｌｃはそれ
ぞれ中空の予熱室、加熱室、冷却室であり、これらは一
連の連続炉の各処理室を構成し、各被処理物は予熱室１
ａの左側から装入され、冷却室ＩＣの右側から取出され
るようになっている。なおｌａ。
ｌｂ、 ｌｃを総称して処理室Ｃと呼ぶ。２ａ、 ２ｂ
、 ２ｃは上記各室に連通している排気ポンプである。
、 ２ｃは上記各室に連通している排気ポンプである。
予熱室１ａは真空に保たれ、加熱室は真空に排気後例え
ば１１８あるいはＡｒガス雰囲気で充填され、冷却室１
ｃは同様に真空に排気後、圧力５〜７気圧の適当な冷却
ガスを圧入しである。なお予熱室１ａ、加熱室１ｂには
夫々任意の加熱手段が配置してあり、冷却室１ｃには冷
却用ファン４が設けである。また各処理室には雰囲気ガ
スを導入すべくガス導入管と、それに介設しであるガス
調節弁（２０８〜２０Ｃ）が設けられている。
ば１１８あるいはＡｒガス雰囲気で充填され、冷却室１
ｃは同様に真空に排気後、圧力５〜７気圧の適当な冷却
ガスを圧入しである。なお予熱室１ａ、加熱室１ｂには
夫々任意の加熱手段が配置してあり、冷却室１ｃには冷
却用ファン４が設けである。また各処理室には雰囲気ガ
スを導入すべくガス導入管と、それに介設しであるガス
調節弁（２０８〜２０Ｃ）が設けられている。
次に５ａ、 ５ｂ、 ５ｃはそれぞれ予熱室１ａと加熱
室１ｂの間、加熱室１ｂと冷却室ＩＣとの間および冷却
室ＩＣと大気との間に介在させている仕切弁装置である
。
室１ｂの間、加熱室１ｂと冷却室ＩＣとの間および冷却
室ＩＣと大気との間に介在させている仕切弁装置である
。
これらの仕切弁装置は何れも同一構成であるので、各仕
切弁装置における同一の部材には同じ符号を付す、６は
後述の扉９を取囲むよう気密に構成した加圧室である。
切弁装置における同一の部材には同じ符号を付す、６は
後述の扉９を取囲むよう気密に構成した加圧室である。
各加圧室６には、扉９が各処理室Ｃの開口部１′を閉じ
ているときに、各加圧室６に接する各処理室Ｃの圧力以
上あるいは大気圧以上の適当な動作ガスを圧入している
。 Ｔａ＋ ’７ｂ＋ ７ｃはそれぞれ仕切弁装置５ａ
＋ ５ｂ、５ｃの加圧室６にガスを供給するための圧力
調整弁で、バイブ８ａ、 ８ｂ。
ているときに、各加圧室６に接する各処理室Ｃの圧力以
上あるいは大気圧以上の適当な動作ガスを圧入している
。 Ｔａ＋ ’７ｂ＋ ７ｃはそれぞれ仕切弁装置５ａ
＋ ５ｂ、５ｃの加圧室６にガスを供給するための圧力
調整弁で、バイブ８ａ、 ８ｂ。
８ｃにより、各加圧室６に連通している。予熱室１ａ、
加熱室１ｂ、冷却室ＩＣの処理室内圧力は目的に応じて
上記圧力調節弁（２０８〜２０Ｃ）により夫々ガス圧の
増減、調整をする。
加熱室１ｂ、冷却室ＩＣの処理室内圧力は目的に応じて
上記圧力調節弁（２０８〜２０Ｃ）により夫々ガス圧の
増減、調整をする。
さらに、仕切弁装置５ａ＋ ５ｂ＋ ５ｃの可動機構部
の共通の構造を、第２図について説明する。９は加圧室
６内で、上記各処理室Ｃの開口部１”あるいは取出口１
”を密封し得る形状に構成した一対の扉である。扉９は
、これが密封すべき各処理室Ｃの圧力あるいは大気圧よ
りも高い圧力になっている。
の共通の構造を、第２図について説明する。９は加圧室
６内で、上記各処理室Ｃの開口部１”あるいは取出口１
”を密封し得る形状に構成した一対の扉である。扉９は
、これが密封すべき各処理室Ｃの圧力あるいは大気圧よ
りも高い圧力になっている。
加圧室６に向けて凸形のアーチ状に形成し、扉９に加わ
る圧力差に応力上容易に耐え得るようになっている。な
お第２図に示す仕切弁装置５ｂの可動部分は、加圧室６
の中心線に関して左右対称となっている。１０は扉９の
周縁部に設けたシール用押圧面である。１１は処理室Ｃ
の壁構造に具備させた受座で、前記シール用押圧面を受
は止めて両者の間に密封作用が達成されるように構成し
ている。
る圧力差に応力上容易に耐え得るようになっている。な
お第２図に示す仕切弁装置５ｂの可動部分は、加圧室６
の中心線に関して左右対称となっている。１０は扉９の
周縁部に設けたシール用押圧面である。１１は処理室Ｃ
の壁構造に具備させた受座で、前記シール用押圧面を受
は止めて両者の間に密封作用が達成されるように構成し
ている。
次に１２は処理室Ｃの上部に設けた昇降用シリンダー、
１３はそのピストンロッド、１５は連結具１４を介して
ロッド１３に連結した昇降枠で、図示外のガイドレール
に沿って昇降できるようになっている。
１３はそのピストンロッド、１５は連結具１４を介して
ロッド１３に連結した昇降枠で、図示外のガイドレール
に沿って昇降できるようになっている。
１６は昇降枠１５と一対の扉９の背面とを連結１する平
行リンク、１７は加圧室６の下部に設けた受止部材であ
る。扉９の下縁部が受止部材１７に受は止められる位置
で、扉９が開口部１′を閉じ、この位置からさらに昇降
枠１５が下降すると、ピストンロッド１３に作用する下
降力は平行リンク１６を介してシール用押圧面１０を受
座１１に押圧するような構造となっている。
行リンク、１７は加圧室６の下部に設けた受止部材であ
る。扉９の下縁部が受止部材１７に受は止められる位置
で、扉９が開口部１′を閉じ、この位置からさらに昇降
枠１５が下降すると、ピストンロッド１３に作用する下
降力は平行リンク１６を介してシール用押圧面１０を受
座１１に押圧するような構造となっている。
上記構成のものにあっては、今、図示外の装入手段によ
り、各処理室Ｃに被処理′＃Ｗが装入されているものと
する。仕切弁装置５ａ、 ５ｂ、 ５ｃの各扉９を第２
図実線の位置まで下降させ、扉９で各開口部ｌ゛または
出口１”を閉じ、シール用押圧面１０を受座１１に圧着
し、各処理室Ｃの間および冷却室１ｃと大気との間の密
封を行なう０次にポンプ２ａ、 ２ｂ。
り、各処理室Ｃに被処理′＃Ｗが装入されているものと
する。仕切弁装置５ａ、 ５ｂ、 ５ｃの各扉９を第２
図実線の位置まで下降させ、扉９で各開口部ｌ゛または
出口１”を閉じ、シール用押圧面１０を受座１１に圧着
し、各処理室Ｃの間および冷却室１ｃと大気との間の密
封を行なう０次にポンプ２ａ、 ２ｂ。
２ｃを作動させて、各処理室Ｃ内を排気する。つづいて
、圧力調整弁７ａ、 ７ｂ、 ７ｃを操作して、各加圧
室６内に動作ガスを任意の圧力を維持できるように圧入
する。このばあい、仕切弁装置５ａの加圧室６には、予
熱室１ａにガス導入管よりＨ８あるいはＡｒ雰囲気ガス
を封入する圧力または加熱室１ｂの雰囲気圧力のいずれ
か高い方の圧力以上の圧力の動作ガスを、また仕切弁装
置５ｂ、においては加熱室１ｂの雰囲気の圧力と冷却室
内の圧力のいずれか高い方の圧力、また５ｃの加圧室６
には冷却室１ｃに圧入すべき冷却用加圧ガスよりも高い
圧力の動作ガスを圧入する。この状態で加熱室１ｂ、冷
却室ＩＣに前記各ガスを供給し、それぞれの処理を実行
する。
、圧力調整弁７ａ、 ７ｂ、 ７ｃを操作して、各加圧
室６内に動作ガスを任意の圧力を維持できるように圧入
する。このばあい、仕切弁装置５ａの加圧室６には、予
熱室１ａにガス導入管よりＨ８あるいはＡｒ雰囲気ガス
を封入する圧力または加熱室１ｂの雰囲気圧力のいずれ
か高い方の圧力以上の圧力の動作ガスを、また仕切弁装
置５ｂ、においては加熱室１ｂの雰囲気の圧力と冷却室
内の圧力のいずれか高い方の圧力、また５ｃの加圧室６
には冷却室１ｃに圧入すべき冷却用加圧ガスよりも高い
圧力の動作ガスを圧入する。この状態で加熱室１ｂ、冷
却室ＩＣに前記各ガスを供給し、それぞれの処理を実行
する。
各処理室Ｃでそれぞれの処理作業が行なわれている状態
では、上述の構成から明らかなように、各加圧室６中の
気圧は、それに隣接する処理室Ｃの圧力以上あるいは大
気圧以上になっており、ピストンロッド１３を介して加
えられる力に加えて、この圧力差による力が扉９のシー
ル用押圧面１０を受座１１に押圧して、開口部１′の密
封が理想的に行なわれる。
では、上述の構成から明らかなように、各加圧室６中の
気圧は、それに隣接する処理室Ｃの圧力以上あるいは大
気圧以上になっており、ピストンロッド１３を介して加
えられる力に加えて、この圧力差による力が扉９のシー
ル用押圧面１０を受座１１に押圧して、開口部１′の密
封が理想的に行なわれる。
この段階での処理が終った後は、必要に応じて各処理室
Ｃに対して空気の導入あるいは加圧ガスの排出を行ない
、同室内の気圧を大気圧程度（ま７ｃ （または真空ポ
ンプ２８〜２ｃ）を操作して加圧室６内の圧力も大気圧
（または真空）程度に調整する。昇降用シリンダー１２
を操作して、各仕切弁装置５ａ、 ５ｂ、 ５ｃの扉９
を第２図の一点鎖線の位置まで上昇させ、一対の扉９を
開口部１゛から引き上げる。これによって各処理室Ｃに
またがる被処理物の装入、装出が可能になる。
Ｃに対して空気の導入あるいは加圧ガスの排出を行ない
、同室内の気圧を大気圧程度（ま７ｃ （または真空ポ
ンプ２８〜２ｃ）を操作して加圧室６内の圧力も大気圧
（または真空）程度に調整する。昇降用シリンダー１２
を操作して、各仕切弁装置５ａ、 ５ｂ、 ５ｃの扉９
を第２図の一点鎖線の位置まで上昇させ、一対の扉９を
開口部１゛から引き上げる。これによって各処理室Ｃに
またがる被処理物の装入、装出が可能になる。
なお、上記の説明では、隣接する二つの処理室Ｃを仕切
る弁装置に関して主に説明したが、本発明による仕切弁
装置は、基本的には単一の処理室Ｃの開口部１゛を密封
する目的にも向けられるものである。
る弁装置に関して主に説明したが、本発明による仕切弁
装置は、基本的には単一の処理室Ｃの開口部１゛を密封
する目的にも向けられるものである。
（発明の効果ン 以上のように本発明にあっては、各種
処理室Ｃの開口部１”に設ける扉９を取囲むよう加圧室
６を形成し、この加圧室６の圧力を上記扉９が仕切るべ
き処理室Ｃ内の圧力以上に保つように構成しているので
、処理室Ｃの圧力値如何に拘らず、扉９に加わる圧力差
が、必ず扉９を開口部１′に押圧する向きに働くことに
なり、他の処理室あるいは大気との間に圧力差を伴なう
処理室Ｃの密封を確実にかつ自動的に行ない得るという
利点がある。また開口部１′の密封を処理室Ｃ内圧力と
加圧室６内圧力との差により行なうようにしたものであ
るから、扉９を開口部１′に押圧するための機械的なり
ランプ機構を設ける必要がなく、そのため典型的な処理
室である熱処理炉の構造を簡単なものに保つことができ
、密封個所の減少、扉９の円滑な開閉操作などと言った
効果ももたらす。
処理室Ｃの開口部１”に設ける扉９を取囲むよう加圧室
６を形成し、この加圧室６の圧力を上記扉９が仕切るべ
き処理室Ｃ内の圧力以上に保つように構成しているので
、処理室Ｃの圧力値如何に拘らず、扉９に加わる圧力差
が、必ず扉９を開口部１′に押圧する向きに働くことに
なり、他の処理室あるいは大気との間に圧力差を伴なう
処理室Ｃの密封を確実にかつ自動的に行ない得るという
利点がある。また開口部１′の密封を処理室Ｃ内圧力と
加圧室６内圧力との差により行なうようにしたものであ
るから、扉９を開口部１′に押圧するための機械的なり
ランプ機構を設ける必要がなく、そのため典型的な処理
室である熱処理炉の構造を簡単なものに保つことができ
、密封個所の減少、扉９の円滑な開閉操作などと言った
効果ももたらす。
図面は本願の実施例を示すもので、第１図は仕切弁装置
を設けている複数の処理室からなる系の略示断面図、第
２図は第１図の仕切弁装置の縦断面図。 Ｃ・・・処理室、１゛・・・開口部、９・・・扉、５ａ
、 ５ｂ、 ５ｃ・・・仕切弁装置、６・・・加圧室。
を設けている複数の処理室からなる系の略示断面図、第
２図は第１図の仕切弁装置の縦断面図。 Ｃ・・・処理室、１゛・・・開口部、９・・・扉、５ａ
、 ５ｂ、 ５ｃ・・・仕切弁装置、６・・・加圧室。
Claims (1)
- 熱処理炉などの処理室の開口部に対して、密封用の扉を
その室外から開閉自在に当付けるように構成している仕
切弁装置において、上記扉を取囲むよう加圧室を設け、
その加圧室内の圧力を上記処理室の圧力以上に保つよう
に構成していることを特徴とする仕切弁装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61309521A JPH0826394B2 (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | 仕切弁装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61309521A JPH0826394B2 (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | 仕切弁装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63161114A true JPS63161114A (ja) | 1988-07-04 |
| JPH0826394B2 JPH0826394B2 (ja) | 1996-03-13 |
Family
ID=17994005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61309521A Expired - Lifetime JPH0826394B2 (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | 仕切弁装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0826394B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001289400A (ja) * | 2000-04-10 | 2001-10-19 | Ulvac Japan Ltd | 水素処理装置 |
| JP2008280077A (ja) * | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Furubayashi Shiko Co Ltd | 包装容器及びその製造方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6294995B2 (ja) * | 2017-04-28 | 2018-03-14 | エスペック株式会社 | 乾燥装置 |
| JP6294996B2 (ja) * | 2017-04-28 | 2018-03-14 | エスペック株式会社 | 乾燥装置 |
| JP6300986B2 (ja) * | 2017-04-28 | 2018-03-28 | エスペック株式会社 | 乾燥装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59113119A (ja) * | 1982-12-16 | 1984-06-29 | シ−・アイ・ヘイズ・インコ−ポレイテツド | 連続熱処理真空炉中で、高圧下に被加工物をガス冷却する方法および装置 |
-
1986
- 1986-12-24 JP JP61309521A patent/JPH0826394B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59113119A (ja) * | 1982-12-16 | 1984-06-29 | シ−・アイ・ヘイズ・インコ−ポレイテツド | 連続熱処理真空炉中で、高圧下に被加工物をガス冷却する方法および装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001289400A (ja) * | 2000-04-10 | 2001-10-19 | Ulvac Japan Ltd | 水素処理装置 |
| JP4674776B2 (ja) * | 2000-04-10 | 2011-04-20 | 株式会社アルバック | 水素処理方法 |
| JP2008280077A (ja) * | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Furubayashi Shiko Co Ltd | 包装容器及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0826394B2 (ja) | 1996-03-13 |
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