JPH0826394B2 - 仕切弁装置 - Google Patents

仕切弁装置

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JPH0826394B2
JPH0826394B2 JP61309521A JP30952186A JPH0826394B2 JP H0826394 B2 JPH0826394 B2 JP H0826394B2 JP 61309521 A JP61309521 A JP 61309521A JP 30952186 A JP30952186 A JP 30952186A JP H0826394 B2 JPH0826394 B2 JP H0826394B2
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JP
Japan
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chamber
pressure
processing
processing chambers
chambers
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JP61309521A
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JPS63161114A (ja
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洋一 中西
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Daido Steel Co Ltd
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Daido Steel Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野)この発明は真空炉、各種熱処理炉
などの処理室の開口部に設ける密封用の仕切弁装置に関
するもので、更に詳しくは、上記処理室が複数ある場
合、それらの処理室内の圧力差の如何に拘らず、夫々完
全な密封が達成されるようにした仕切弁装置に関するも
のである。
(従来の技術)処理室を高低又は真空に保つのみなら
ず、これにガス雰囲気を充填して処理を行なうばあい、
処理室内の圧力が室外の圧力よりも必ず高ければ、特開
昭59-113119号公報で知られているように処理室開口部
の内側に開閉扉を当付けるようにすると、内外の圧力差
によって扉を密封させることができる。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、処理室内圧力が外部より高い場合のみ
ならず、低くなる状態でも使用するばあいには、その圧
力差が開口部を開く向きに働く。この圧力差による力
は、圧力差1気圧につき10〔Ton/m2〕と大きく、仕切弁
開閉駆動機構がこの力にも抗するように構成されるばあ
いには、駆動機構および支持金具類は強固なものである
必要があり、その結果貴重な処理室内に、処理とは無関
係な駆動機構等の大きな設置スペースを要するという問
題点が生じる。
また処理室内の処理温度を高温化する場合は、駆動機
構を水冷する等の保護手段を講じなければ、利用できな
くなる等の大きな問題点もあった。
この発明は上記従来の問題点を除き、二つの処理室内
の圧力値の高低差等、圧力の働きの如何に拘らず、それ
ら二つの処理室の密封状態を安定維持でき、かつ二つの
処理室内の夫々の圧力に抗する為の付加的な大型クラン
プ機構等を必要としないようにした仕切弁装置を提供し
ようとするものである。
(問題点を解決する為の手段)本願発明は、二つの熱処
理炉などの処理室が並設されていて、それら処理室の隣
接開口部に対して、夫々密封用の扉を室外から開閉自在
に当付けるようにしている仕切弁装置において、上記二
つの処理室間には、上記の二つの扉を取囲むよう加圧室
を介設し、その加圧室内の圧力を上記二つの処理室の各
圧力以上に保つように構成したのである。
(作用)隣接する二つの処理室の隣接開口部に夫々外側
から扉が設けられ、それらを取囲むように二つの処理室
間に加圧室が介設されているので、これの内部圧力を両
処理室内の圧力以上に保つ。その結果、各処理室内外の
圧力差は、上記各扉を夫々開口部に向って閉じる向きに
作用し、処理室内圧が大気圧より低くなっても、また高
くなった場合であっても、さらに両処理室間に圧力差が
あっても、処理室扉の密封状態は確実に維持される。
(実施例)以下本願の実施例を示す第1図、第2図につ
いてその構成を説明する。1a,1b,1cはそれぞれ中空の予
熱室、加熱室、冷却室であり、これらは一連の連続炉の
各処理室を構成し、各被処理物は予熱室1aの左側から装
入され、冷却室1cの右側から取出されるようになってい
る。なお1a,1b,1cを総称して処理室Cと呼ぶ。2a,2b,2c
は上記各室に連通している排気ポンプである。予熱室1a
は真空に保たれ、加熱室は真空に排気後例えばH2あるい
はArガス雰囲気で充填され、冷却室1cは同様に真空に排
気後、圧力5〜7気圧の適当な冷却ガスを圧入してあ
る。なお予熱室1a、加熱室1bには夫々任意の加熱手段が
配置してあり、冷却室1cには冷却用ファン4が設けてあ
る。また各処理室には雰囲気ガスを導入すべくガス導入
管と、それに介設してあるガス調節弁(20a〜20c)が設
けられている。
次に5a,5b,5cはそれぞれ予熱室1aと加熱室1bの間、加
熱室1bと冷却室1cとの間および冷却室1cと大気との間に
介在させている仕切弁装置である。これらの仕切弁装置
は何れも同一構成であるので、各仕切弁装置における同
一の部材には同じ符号を付す。6は後述の扉9を取囲む
よう気密に構成した加圧室である。各加圧室6には、扉
9が各処理室Cの開口部1′を閉じているときに、各加
圧室6に接する各処理室Cの圧力以上あるいは大気圧以
上の適当な動作ガスを圧入している。7a,7b,7cはそれぞ
れ仕切弁装置5a,5b,5cの加圧室6にガスを供給するため
の圧力調整弁で、パイプ8a,8b,8cにより、各加圧室6に
連通している。予熱室1a、加熱室1b、冷却室1cの処理室
内圧力は目的に応じて上記圧力調節弁(20a〜20c)によ
り夫々ガス圧の増減、調整をする。
さらに、仕切弁装置5a,5b,5cの可動機構部の共通の構
造を、第2図について説明する。9は加圧室6内で、上
記各処理室Cの開口部1′あるいは取出口1″を密封し
得る形状に構成した一対の扉である。扉9にかかる圧力
は、これが密封すべき各処理室Cの圧力あるいは大気圧
よりも高い圧力になっている。加圧室6に向けて凸形の
アーチ状に形成し、扉9に加わる圧力差に応力上容易に
耐え得るようになっている。なお第2図に示す仕切弁装
置5bの可動部分は、加圧室6の中心線に関して左右対称
となっている。10は扉9の周縁部に設けたシール用押圧
面である。11は処理室Cの壁構造に具備させた受座で、
前記シール用押圧面を受け止めて両者の間に密封作用が
達成されるように構成している。次に12は処理室Cの上
部に設けた扉操作手段としての昇降用シリンダー、13は
そのピストンロッド、15は連結具14を介してロッド13に
連結した昇降枠で、図示外のガイドレールに沿って昇降
できるようになっている。16は昇降枠15と一対の扉9の
背面とを連結する平行リンク、17は加圧室6の下部に設
けた受止部材である。扉9の下縁部が受止部材17に受け
止められる位置で、扉9が開口部1′を閉じ、この位置
からさらに昇降枠15が下降すると、ピストンロッド13に
作用する下降力は平行リンク16を介してシール用押圧面
10を受座11に押圧するような構造となっている。
上記構成のものにあっては、今、図示外の装入手段に
より、各処理室Cに被処理物Wが装入されているものと
する。仕切弁装置5a,5b,5cの各扉9を第2図実線の位置
まで下降させ、扉9で各開口部1′または取出口1″を
閉じ、シール用押圧面10を受座11に圧着し、各処理室C
の間および冷却室1cと大気との間の密封を行なう。次に
ポンプ2a,2b,2cを作動させて、各処理室C内を排気す
る。つづいて、圧力調整弁7a,7b,7cを操作して、各加圧
室6内に動作ガスを任意の圧力を維持できるように圧入
する。このばあい、仕切弁装置5aの加圧室6には、予熱
室1aにガス導入管よりH2あるいはAr雰囲気ガスを封入す
る圧力または加熱室1bの雰囲気圧力のいずれか高い方の
圧力以上の圧力の動作ガスを、また仕切弁装置5b,にお
いては加熱室1bの雰囲気の圧力と冷却室内の圧力のいず
れか高い方の圧力、また5cの加圧室6には冷却室1cに圧
入すべき冷却用加圧ガスよりも高い圧力の動作ガスを圧
入する。この状態で加熱室1b、冷却室1cに前記各ガスを
供給し、それぞれの処理を実行する。各処理室Cでそれ
ぞれの処理作業が行なわれている状態では、上述の構成
から明らかなように、各加圧室6中の気圧は、それに隣
接する処理室Cの圧力以上あるいは大気圧以上になって
おり、ピストンロッド13を介して加えられる力に加え
て、この圧力差による力が扉9のシール用押圧面10を受
座11に押圧して、開口部1′の密封が理想的に行なわれ
る。
この段階での処理が終った後は、必要に応じて各処理
室Cに対して空気の導入あるいは加圧ガスの排出を行な
い、同室内の気圧を大気圧程度(または真空)にする。
つづいて各圧力調整器7a,7b,7c(または真空ポンプ2a〜
2c)を操作して加圧室6内の圧力も大気圧(または真
空)程度に調整する。昇降用シリンダー12を操作して、
各仕切弁装置5a,5b,5cの扉9を第2図の一点鎖線の位置
まで上昇させ、一対の扉9を開口部1′から引き上げ
る。これによって各処理室Cにまたがる被処理物の装
入、装出が可能になる。
(発明の効果)以上のように本発明にあっては、処理室
C、Cの各開口部1′、1′に設ける各扉9、9を取囲
むように上記二つの処理室C、C間に加圧室6を形成
し、この加圧室6の圧力を上記扉9、9が仕切るべき二
つの処理室C、C内の各圧力以上に高く保つように構成
しているので、二つの処理室C、Cの圧力値如何に拘ら
ず、各扉9に加わる圧力差が、必ず扉9を開口部1′に
押圧する向きに働くことになり、他の処理室との間、あ
るいは大気との間に圧力差を伴なう二つの処理室C、C
の夫々の密封を確実に行ない得るという利点がある。
また各開口部1′の密封を、二つの処理室Cの間に介
設する加圧室6内の圧力を高めることにより行なうよう
にしたものであるから、扉9を開口部1′に押圧するた
めの大嵩な機械的なクランプ機構を設ける必要がないの
は勿論のこと、両側の処理室C、Cのいずれに対して
も、扉を操作する為の手段を処理室C、C内に配置する
必要性をなくして、処理室内の構造を簡易化し、貴重な
内部を有効利用できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
図面は本願の実施例を示すもので、第1図は仕切弁装置
を設けている複数の処理室からなる系の略示断面図、第
2図は第1図の仕切弁装置の縦断面図。 C……処理室、1′……開口部、9……扉、5a,5b,5c…
…仕切弁装置、6……加圧室。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】二つの熱処理炉などの処理室が並設されて
    いて、それら処理室の隣接開口部に対して、夫々密封用
    の扉を室外から開閉自在に当付けるようにしている仕切
    弁装置において、上記二つの処理室間には、上記の二つ
    の扉を取囲むよう加圧室を介設し、その加圧室内の圧力
    を上記二つの処理室の各圧力以上に保つように構成して
    いることを特徴とする仕切弁装置。
JP61309521A 1986-12-24 1986-12-24 仕切弁装置 Expired - Lifetime JPH0826394B2 (ja)

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JP61309521A JPH0826394B2 (ja) 1986-12-24 1986-12-24 仕切弁装置

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JP61309521A JPH0826394B2 (ja) 1986-12-24 1986-12-24 仕切弁装置

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JPS63161114A JPS63161114A (ja) 1988-07-04
JPH0826394B2 true JPH0826394B2 (ja) 1996-03-13

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