JP2000146453A - 熱処理炉における扉装置 - Google Patents
熱処理炉における扉装置Info
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- JP2000146453A JP2000146453A JP10325483A JP32548398A JP2000146453A JP 2000146453 A JP2000146453 A JP 2000146453A JP 10325483 A JP10325483 A JP 10325483A JP 32548398 A JP32548398 A JP 32548398A JP 2000146453 A JP2000146453 A JP 2000146453A
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Abstract
体が小型であって、加圧用ガスの必要量が小さい熱処理
炉における扉装置を提供する。 【解決手段】熱処理炉における処理室の開口部を密閉す
るための扉装置であって、該開口部に対し昇降可能に装
備された第1仕切弁と、該第1仕切弁との間のシール性
を保ちつつ該第1仕切弁に対し進退可能に係合された第
2仕切弁と、双方の仕切弁で囲まれる密閉室に接続され
た加圧手段及び/又は減圧手段とを備え、該加圧手段及
び/又は該減圧手段で該密閉室内の圧力を変えることに
より該双方の仕切弁で形成される扉の厚みを可変とし
た。
Description
装置に関する。金属材料やセラミックス材料等の被処理
材の熱処理に、雰囲気炉、真空炉、これらのバッチ炉或
は連続炉等、各種の熱処理炉が使用されている。これら
の熱処理炉には、被処理材を熱処理するための一つ或は
二つ以上の処理室が形成されており、該処理室には被処
理材を装入、装出或は移送するための開口部が設けられ
ていて、該開口部にはこれを密閉して処理室を所定の雰
囲気ガス、圧力或は温度下に保持するための扉装置が装
備されている。本発明はかかる扉装置の改良に関する。
ンダと、そのシリンダロッド端にリンク機構を介して取
り付けられた第1仕切弁及び第2仕切弁と、これらの第
1仕切弁及び第2仕切弁を収容する加圧室とを備えて成
るものが提案されている(特開昭63−16111
4)。この扉装置は、シリンダロッドを下降させて第1
仕切弁及び第2仕切弁を処理室の開口部よりも下部に設
けられたストッパに当接するまで下降させた後、更にシ
リンダロッドを下降させてリンク機構を介し第1仕切弁
及び第2仕切弁を左右に押し広げて処理室の開口部周縁
に当接させ、この状態で加圧室に加圧用ガスを送入して
該加圧室の圧力を処理室の圧力よりも高くすることによ
り、第1仕切弁及び第2仕切弁を処理室の開口部周縁に
密着させて該開口部を密閉するというものである。とこ
ろが、かかる従来の扉装置には、シリンダ機構により単
に第1仕切弁及び第2仕切弁を昇降させるだけでなく、
これらをリンク機構を介し左右に押し広げて処理室の開
口部周縁に当接させるため、構造が複雑で、動作不良を
生じ易く、シリンダも含めて装置全体が大型であり、ま
た第1仕切弁及び第2仕切弁を収容する加圧室に加圧用
ガスを送入して該加圧室の圧力を処理室の圧力よりも高
くするため、大量の加圧用ガスが必要である等、多くの
問題がある。
する課題は、従来の扉装置では、構造が複雑である、動
作不良を生じ易い、全体が大型である、大量の加圧用ガ
スが必要である、という点である。
発明は、熱処理炉における処理室の開口部を密閉するた
めの扉装置であって、該開口部に対し昇降可能に装備さ
れた第1仕切弁と、該第1仕切弁との間のシール性を保
ちつつ該第1仕切弁に対し進退可能に係合された第2仕
切弁と、双方の仕切弁で囲まれる密閉室に接続された加
圧手段及び/又は減圧手段とを備え、該加圧手段及び/
又は該減圧手段で該密閉室内の圧力を変えることにより
該双方の仕切弁で形成される扉の厚みを可変としたこと
を特徴とする熱処理炉における扉装置に係る。
理室の開口部を密閉するためのもので、その扉は、処理
室の開口部が被処理材を該処理室へ装入するための装入
口である場合には装入扉として、また処理室の開口部が
処理材を該処理室から装出するための装出口である場合
には装出扉として、更に処理室の開口部が被処理材を一
つの処理室からこれに隣接する他の処理室へ移送するた
めの移送口である場合には中間扉として使用される。
対し昇降可能に装備された第1仕切弁と、該第1仕切弁
との間のシール性を保ちつつ該第1仕切弁に対し進退可
能に係合された第2仕切弁と、双方の仕切弁で囲まれる
密閉室に接続された加圧手段及び/又は減圧手段とを備
えており、該加圧手段及び/又は該減圧手段で該密閉室
内の圧力を変えることにより該双方の仕切弁で形成され
る扉の厚みを可変としたものである。
ンダ機構を採用できる。この場合、シリンダロッド端に
第1仕切弁を吊下げる。第1仕切弁と第2仕切弁との間
のシール性を保つ手段としては例えばオーリング、蛇腹
を採用できる。第1仕切弁と第2仕切弁とで囲まれる密
閉室内の加圧手段としては例えばコンプレッサを採用で
き、また減圧手段としては例えば真空ポンプを採用でき
る。第1仕切弁に対し第2仕切弁は進退可能に係合され
ているため、双方の仕切弁で囲まれる密閉室内を加圧手
段で加圧すると、双方の仕切弁が広がって、双方の仕切
弁で形成される扉の厚みが厚くなる。逆に、双方の仕切
弁で囲まれる密閉室内を減圧手段で減圧すると、双方の
仕切弁が狭まって、双方の仕切弁で形成される扉の厚み
が薄くなる。
係合する手段としては、双方の仕切弁を相対する平底容
器状に形成し、第1仕切弁の側面に対し第2仕切弁の側
面をシール材としての例えばオーリングを介し摺動可能
に係合する手段を採用できる。また別の手段として、第
1仕切弁に第2仕切弁をシール材としての筒状の伸縮部
材、例えば蛇腹を介して取り付ける手段を採用できる。
これらの係合手段において、第1仕切弁と第2仕切弁と
の間にスプリングを介装し、このスプリングの復元力に
より、双方の仕切弁で形成される扉の厚みを復元させる
ようにすることもできる。したがってスプリングを介装
する場合には、双方の仕切弁で囲まれる加圧室内の加圧
手段及び減圧手段のうちでいずれか一方を省略できる。
における処理室の装入口を密閉するための装入扉として
使用する場合には、双方の仕切弁で形成される扉を装入
口を臨む位置まで下降させた後、前述したようにその厚
みを厚くして、いずれか一方の仕切弁を装入口周縁に密
着させ、装入口を密閉する。双方の仕切弁で形成される
扉を、熱処理炉における処理室の装出口を密閉するため
の装出扉として使用する場合も同様である。双方の仕切
弁で形成される扉を、熱処理炉における一つの処理室の
移送口及びこれに隣接する他の処理室の移送口を密閉す
るための中間扉として使用する場合には、双方の仕切弁
で形成される扉をこれらの移送口を臨む位置まで下降さ
せた後、前述したようにその厚みを厚くして、第1仕切
弁を一つの処理室の移送口周縁に密着させると同時に第
2仕切弁を他の処理室の移送口周縁に密着させ、これら
の移送口を密閉する。
に双方の仕切弁を左右に押し広げるためのリンク機構は
必要でなく、双方の仕切弁の昇降手段は双方の仕切弁を
昇降させるためにのみ機能すればよいので、構造が簡単
であり、動作不良を生ぜず、昇降手段も含めて装置全体
が小型である。また本発明に係る扉装置では、従来装置
のようにその昇降時を含めて双方の仕切弁を収容する大
きな加圧室を設け、これに加圧用ガスを送入してその圧
力を処理室の圧力よりも高くする必要はなく、双方の仕
切弁で囲まれる小さな密閉室を加圧及び/又は減圧すれ
ばよいので、加圧用ガスは小量ですむ。
する炉長方向の縦断面図である。ここでは、双方の仕切
弁で形成される扉を中間扉として使用する場合を示して
いる。全体は図示しない熱処理炉11の炉内に、炉殻2
1に内張りされた断熱材31,32で囲まれて、処理室
41,42が形成されている。処理室41と処理室42
は連設されており、これらには相対して移送口51,5
2が開設されている。処理室41と処理室42との中間
にて立ち上げられた炉殻21にはシリンダ筒61が取り
付けられており、シリンダ筒61のシリンダロッド61
aは炉殻21内に挿入されている。
器状の第1仕切弁71が吊下げられており、第1仕切弁
71の外底面にはオーリング81が取り付けられてい
る。第1仕切弁71にはこれと相対して平底容器状の第
2仕切弁72が係合されており、第2仕切弁72の外底
面にはオーリング82が取り付けられている。第2仕切
弁72の外側面にはオーリング91が取り付けられてお
り、第2仕切弁72の外側面はオーリング91を介して
第1仕切弁71の内側面に対し摺動可能になっていて、
かかる第1仕切弁71と第2仕切弁72とで囲まれて密
閉室101が形成されている。
と連通する給排気口71aが設けられており、給排気口
71aには撓みを持たせた耐圧ホース111が接続され
ていて、耐圧ホース111の基端側はバルブ131,1
32を介してコンプレッサ121及び真空ポンプ122
へと分岐して接続されている。
1仕切弁71及び第2仕切弁72を移送口51,52を
臨む位置まで下降させた後、バルブ131を開いてコン
プレッサ121から耐圧ホース111を介して密閉室1
01内へ所定の雰囲気ガスを送入し、密閉室101内を
加圧することにより第1仕切弁71及び第2仕切弁72
を左右に広げ、これらで形成される扉の厚みを厚くし
て、第1仕切弁71の外底面に取り付けたオーリング8
1を移送口51の周縁部に密着させると同時に第2仕切
弁72の外底面に取り付けたオーリング82を移送口5
2の周縁部に密着させ、移送口51,52を密閉した状
態を示している。移送口51,52を開くときは、バル
ブ131を閉じ、コンプレッサ121を止め、次にバル
ブ132を開き、真空ポンプ122を作動させて密閉室
101内の雰囲気ガスを排気し、密閉室101内を減圧
することにより第1仕切弁71及び第2仕切弁72を中
央寄りに狭め、これらで形成される扉の厚みを薄くした
後、シリンダロッド61aを介して第1仕切弁71及び
第2仕切弁72を上昇させる。
炉長方向の縦断面図である。ここでも、双方の仕切弁で
形成される扉を中間扉として使用する場合を示してい
る。全体は図示しない熱処理炉12の炉内に、炉殻22
に内張りされた断熱材33,34で囲まれて、処理室4
3,44が形成されている。処理室43と処理室44は
連設されており、これらには相対して移送口53,54
が開設されている。処理室43と処理室44との中間に
て立ち上げられた炉殻22にはシリンダ筒62が取り付
けられており、シリンダ筒62のシリンダロッド62a
は炉殻22内に挿入されている。
器状の第1仕切弁73が吊下げられており、第1仕切弁
73の外底面にはオーリング83が取り付けられてい
る。第1仕切弁73にはこれと相対して平底容器状の第
2仕切弁74が係合されており、第2仕切弁74の外底
面にはオーリング84が取り付けられている。第2仕切
弁74の外側面にはオーリング92が取り付けられてお
り、第2仕切弁74の外側面はオーリング92を介して
第1仕切弁73の内側面に対し摺動可能になっている。
第1仕切弁73と第2仕切弁74との間にはスプリング
73bが介装されており、かかる第1仕切弁73と第2
仕切弁74とで囲まれて密閉室102が形成されてい
る。
と連通する給排気口73aが設けられており、給排気口
73aには撓みを持たせた耐圧ホース112が接続され
ている。耐圧ホース112の基端側はバルブ133を介
してコンプレッサ123へと接続されており、また排気
用のバルブ134へと分岐して接続されている。
1仕切弁73及び第2仕切弁74を移送口53,54を
臨む位置まで下降させた後、バルブ133を開いてコン
プレッサ123から耐圧ホース112を介して密閉室1
02内へ所定の雰囲気ガスを送入し、密閉室102内を
加圧することにより第1仕切弁73及び第2仕切弁74
を左右に広げ、これらで形成される扉の厚みを厚くし
て、第1仕切弁73の外底面に取り付けたオーリング8
3を移送口53の周縁部に密着させると同時に第2仕切
弁74の外底面に取り付けたオーリング84を移送口5
4の周縁部に密着させ、移送口53,54を密閉した状
態を示している。移送口53,54を開くときは、バル
ブ133を閉じ、コンプレッサ123を止め、次に排気
用バルブ134を開いて密閉室102内の雰囲気ガスを
排気する一方で、スプリング73bの復元力により第1
仕切弁73及び第2仕切弁74を中央寄りに狭め、これ
らで形成される扉の厚みを薄くした後、シリンダロッド
62aを介して第1仕切弁73及び第2仕切弁74を上
昇させる。
する炉長方向の縦断面図である。ここでも、双方の仕切
弁で形成される扉を中間扉として使用する場合を示して
いる。全体は図示しない熱処理炉13の炉内に、炉殻2
3に内張りされた断熱材35,36で囲まれて、処理室
45,46が形成されている。処理室45と処理室46
は連設されており、これらには相対して移送口55,5
6が開設されている。処理室45と処理室46との中間
にて立ち上げられた炉殻23にはシリンダ筒63が取り
付けられており、シリンダ筒63のシリンダロッド63
aは炉殻23内に挿入されている。
器状の第1仕切弁75が吊下げられており、第1仕切弁
75の外底面にはオーリング85が取り付けられてい
る。第1仕切弁75にはこれと相対して平底容器状の第
2仕切弁76が係合されており、第2仕切弁76の外底
面にはオーリング86が取り付けられている。第1仕切
弁75の側面と第2仕切弁76の側面との間には筒状の
蛇腹75bが取り付けられており、かかる第1仕切弁7
5と第2仕切弁76と蛇腹75bとで囲まれて密閉室1
03が形成されている。
と連通する給排気口75aが設けられており、給排気口
75aには撓みを持たせた耐圧ホース113が接続され
ていて、耐圧ホース113の基端側はバルブ135,1
36を介してコンプレッサ124及び真空ポンプ125
へと分岐して接続されている。
1仕切弁75及び第2仕切弁76を移送口55,56を
臨む位置まで下降させた後、バルブ135を開いてコン
プレッサ124から耐圧ホース113を介して密閉室1
03内へ所定の雰囲気ガスを送入し、密閉室103内を
加圧することにより第1仕切弁75及び第2仕切弁76
を左右に広げ、これらで形成される扉の厚みを厚くし
て、第1仕切弁75の外底面に取り付けたオーリング8
5を移送口55の周縁部に密着させると同時に第2仕切
弁76の外底面に取り付けたオーリング86を移送口5
6の周縁部に密着させ、移送口55,56を密閉した状
態を示している。移送口55,56を開くときは、バル
ブ135を閉じ、コンプレッサ124を止め、次にバル
ブ136を開き、真空ポンプ125を作動させて密閉室
103内の雰囲気ガスを排気し、密閉室103内を減圧
することにより第1仕切弁75及び第2仕切弁76を中
央寄りに狭め、これらで形成される扉の厚みを薄くした
後、シリンダロッド63aを介して第1仕切弁75及び
第2仕切弁76を上昇させる。
例示する炉長方向の縦断面図である。ここでは、双方の
仕切弁で形成される扉を装出扉として使用する場合を示
している。全体は図示しない熱処理炉14の炉内に、炉
殻24に内張りされた断熱材37で囲まれて、処理室4
7が形成されている。処理室47には装出口57が開設
されている。炉殻24は処理室47の装出口57側へ立
ち上げて延設されており、その端部には支持板24aが
取り付けられていて、支持板24aには装出口57と相
対する抽出口57aが開設されている。処理室47の装
出口57側にて立ち上げられた炉殻24にはシリンダ筒
64が取り付けられており、シリンダ筒64のシリンダ
ロッド64aは炉殻24内に挿入されている。
器状の第1仕切弁77が吊下げられており、第1仕切弁
77の外底面にはオーリング87が取り付けられてい
る。第1仕切弁77にはこれと相対して平底容器状の第
2仕切弁78が係合されており、第2仕切弁78の外底
面にはオーリング88が取り付けられている。第2仕切
弁78の外側面にはオーリング93が取り付けられてお
り、第2仕切弁78の外側面はオーリング93を介して
第1仕切弁77の内側面に対し摺動可能になっていて、
かかる第1仕切弁77と第2仕切弁78とで囲まれて密
閉室104が形成されている。
と連通する給排気口77aが設けられており、給排気口
77aには撓みを持たせた耐圧ホース114が接続され
ていて、耐圧ホース114の基端側はバルブ137,1
38を介してコンプレッサ126及び真空ポンプ127
へと分岐して接続されている。
1仕切弁77及び第2仕切弁78を装出口57及び抽出
口57aを臨む位置まで下降させた後、バルブ137を
開いてコンプレッサ126から耐圧ホース114を介し
て密閉室104内へ所定の雰囲気ガスを送入し、密閉室
104内を加圧することにより第1仕切弁77及び第2
仕切弁78を左右に広げ、これらで形成される扉の厚み
を厚くして、第1仕切弁77の外底面に取り付けたオー
リング87を装出口57の周縁部に密着させると同時に
第2仕切弁78の外底面に取り付けたオーリング88を
抽出口57aの周縁部に密着させ、装出口57を密閉し
た状態を示している。装出口57を開くときは、バルブ
137を閉じ、コンプレッサ126を止め、次にバルブ
138を開き、真空ポンプ127を作動させて密閉室1
04内の雰囲気ガスを排気し、密閉室104内を減圧す
ることにより第1仕切弁77及び第2仕切弁78を中央
寄りに狭め、これらで形成される扉の厚みを薄くした
後、シリンダロッド64aを介して第1仕切弁77及び
第2仕切弁78を上昇させる。
明には、構造が簡単であり、動作不良を生ぜず、装置全
体が小型であって、加圧用ガスの必要量が小さい、とい
う効果がある。
面図。
縦断面図。
向の縦断面図。
長方向の縦断面図。
〜56・・移送口、57・・装出口、61a〜64a・
・シリンダロッド、71,73,75,77・・第1仕
切弁、72,74,76,78・・第2仕切弁、73b
・・スプリング、75b・・蛇腹、81〜88,91〜
93・・オーリング、101〜104・・密閉室、12
1,123,124,126・・コンプレッサ、12
2,125,127・・真空ポンプ
Claims (4)
- 【請求項1】 熱処理炉における処理室の開口部を密閉
するための扉装置であって、該開口部に対し昇降可能に
装備された第1仕切弁と、該第1仕切弁との間のシール
性を保ちつつ該第1仕切弁に対し進退可能に係合された
第2仕切弁と、双方の仕切弁で囲まれる密閉室に接続さ
れた加圧手段及び/又は減圧手段とを備え、該加圧手段
及び/又は該減圧手段で該密閉室内の圧力を変えること
により該双方の仕切弁で形成される扉の厚みを可変とし
たことを特徴とする熱処理炉における扉装置。 - 【請求項2】 第1仕切弁及び第2仕切弁が相対する平
底容器状に形成されており、該第1仕切弁の側面に対し
該第2仕切弁の側面がシール材を介して摺動するように
した請求項1記載の熱処理炉における扉装置。 - 【請求項3】 第1仕切弁に第2仕切弁が筒状の伸縮部
材を介して取り付けられた請求項1記載の熱処理炉にお
ける扉装置。 - 【請求項4】 第1仕切弁と第2仕切弁との間にスプリ
ングが介装されており、該スプリングの復元力により双
方の仕切弁で形成される扉の厚みが復元されるようにし
た請求項2又は3記載の熱処理炉における扉装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32548398A JP4051694B2 (ja) | 1998-11-16 | 1998-11-16 | 熱処理炉における扉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32548398A JP4051694B2 (ja) | 1998-11-16 | 1998-11-16 | 熱処理炉における扉装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000146453A true JP2000146453A (ja) | 2000-05-26 |
JP4051694B2 JP4051694B2 (ja) | 2008-02-27 |
Family
ID=18177389
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32548398A Expired - Fee Related JP4051694B2 (ja) | 1998-11-16 | 1998-11-16 | 熱処理炉における扉装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4051694B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007138252A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Nachi Fujikoshi Corp | 真空浸炭炉の熱処理室の入口扉 |
TWI396223B (zh) * | 2005-04-12 | 2013-05-11 | Tokyo Electron Ltd | Gate valve device and processing system |
-
1998
- 1998-11-16 JP JP32548398A patent/JP4051694B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI396223B (zh) * | 2005-04-12 | 2013-05-11 | Tokyo Electron Ltd | Gate valve device and processing system |
JP2007138252A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Nachi Fujikoshi Corp | 真空浸炭炉の熱処理室の入口扉 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4051694B2 (ja) | 2008-02-27 |
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