JPS63154308A - レプリカ装置 - Google Patents

レプリカ装置

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Publication number
JPS63154308A
JPS63154308A JP30123286A JP30123286A JPS63154308A JP S63154308 A JPS63154308 A JP S63154308A JP 30123286 A JP30123286 A JP 30123286A JP 30123286 A JP30123286 A JP 30123286A JP S63154308 A JPS63154308 A JP S63154308A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stamper
jig
base plate
substrate
inner diameter
Prior art date
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Pending
Application number
JP30123286A
Other languages
English (en)
Inventor
Masabumi Kanetomo
正文 金友
Sumio Yamaguchi
山口 純男
Yoshinori Miyamura
宮村 芳徳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP30123286A priority Critical patent/JPS63154308A/ja
Publication of JPS63154308A publication Critical patent/JPS63154308A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、情報記録媒体作製の為のレプリカ装置に係シ
、特に偏心の少ない光デイスク用レプリカを製作するに
好適なレプリカ装置に関するものである。
〔従来の技術〕
従来のレプリカ装置は、基板とスタンパの心出しを上下
に配置した台形の中央治具を用いて行なっている。この
場合、下側忙位置するスタンパの心出しを行なう時、そ
の上下方向の位置を弾性体で行なっている。ところが、
実際には、弾性体の厚みを均一にするKは、困難である
ので、シャフトに対し、スタンパの心出しを心ずれ量で
20μm以下の高精度に行なうことは不可能であった。
すなわち基板とスタンパの心ずれを20μm以下にする
ことは、はとんどできなかった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記従来技術では1弾性体が均一なスペーサとならず、
シャフトに対しスタンパが傾いて取り付く結果、シャフ
トに対するスタンパの心出しを高精度に行なうことは、
不可能であった。すなわちスタンパの中心を心ずれて2
0μm以下とすることは、困難であった。
本発明の目的は、スタンパと基板の中心を合わせ、偏心
の少ないレプリカを作るレプリカ装置を提供することに
ある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的は、基板の位置決めをテーパを有する治具を用
いて、その内径で行なった後、この基板の固定に真空吸
着を利用し、真空吸着完了後、テーパ治具をとりはずし
、この上から断面が台形状の治具で、同様にスタンパを
位置決めすることで達成される。
〔作用〕
テーパ治具は、シャフトに対し、基板の内径で中心出し
を行なう様に作用する。基板の真空吸着は、中心出し終
了後に基板を固定保持する役目をする。固定完了後にテ
ーパ治具を取りはずし、断面が台形形状をした台形治具
を用いて、同様にシャフトに対し、スタンパの内径を中
心出しする。
従って、基板、スタンパの中心出しがシャフトを介して
行なわれ、スタンパ表面に加工されているパターンと基
板の内径が同心となる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。基板
1が固定台2上に真空ポンプ3で負圧となりた溝4で真
空吸着されて固定保持されている。
この上に表面に信号に応じた凹凸パターンを持つスタン
パ5が、その内径に断面形状が台形をした台形治具6が
押し込まれた状態で取り付いている。
スタンパ5と基板1の間には、光硬化性樹脂7が配置さ
れている。ここで1台形治具6によりスタンパ5は、固
定台2に取り付くシャフト8に対し。
同心で固定されている。ここで、スタンパ5の中央穴と
凹凸パターンは、同心に加工されている。
よって、基板1上に光硬化性樹脂を介して転写される凹
凸パターンは、基板1に対して同心となる。
また1台形治具6は、押えカラー9でバネ10を介して
上下方向に押し付けられている。
第2図により、基板1の固定方法を示す。固定台2上に
基板1が、置かれている。ここで、固定台2上に取り付
けたシャフト8にはめこんだテーパ治具11を基板1の
内径に押しあてて、中心出しを行なっている。中心出し
の位置決めが、完了した時点で、真空ポンプ3のスイッ
チを入れ、真空吸着で、固定台2に基板1を固定保持す
るわけである。つづいて、テーパ治具11を取りはずし
、第1図に示す様にスタンパを基板1上に光硬化性樹脂
7を介して固定し、凹凸パターンの転写を基板1上に行
なうわけである。
なお1本実施例においては、スタンパが基板の上方に位
置していたが、これにこだわることはなく、基板とスタ
ンパを入れ替えても、同様に心出しが可能である。
〔発明の効果〕
以上説明した如く、本発明によれば、偏心の少ない、光
デイスクレプリカを作製することが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は1本発明によるレプリカ装置の断面図を示す。 第2図は1本発明によるレプリカ装置の断面図を示す。 1・・・基板、2・・・固定台、3・・・真空ボ/プ、
4・・・溝5・・・スタンパ、6・・・台形治具、7・
・・光硬化性樹脂、8・・・シャフト、9・・・押えカ
ラー、10・・・バネ。 11・・・テーパ治具。 54/  凹 第20 II  テーバ59具

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、基板と凹凸パターンを構成する光硬化性樹脂、その
    表面に凹凸パターンを有するスタンパ、当該光硬化性樹
    脂を硬化させる光源とからなるレプリカ装置において、
    当基板の位置決めをテーパを有する治具を用いて当基板
    の内径で行ない、さらにその固定に真空吸着を用い、基
    板上方に配置するスタンパをその断面が台形状の治具を
    用いて、同様に当スタンパの内径で位置決めすることを
    特徴とするレプリカ装置。 2、特許請求の範囲第1項記載のレプリカ装置において
    、基板とスタンパを交換したことを特徴とするレプリカ
    装置。
JP30123286A 1986-12-19 1986-12-19 レプリカ装置 Pending JPS63154308A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0439823U (ja) * 1990-07-28 1992-04-03
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WO2003096333A1 (fr) * 2002-05-09 2003-11-20 Tdk Corporation Procede et dispositif de fabrication d'un support d'enregistrement multicouche et support d'enregistrement multicouche

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