JPS6315421A

JPS6315421A - 付着液体除去方法

Info

Publication number: JPS6315421A
Application number: JP16016186A
Authority: JP
Inventors: Shoji Tsuruta; 鶴田　捷二; Katsumitsu Oogaku; 大額　勝光
Original assignee: Mitsubishi Metal Corp; Japan Silicon Co Ltd
Current assignee: Mitsubishi Materials Silicon Corp; Mitsubishi Metal Corp
Priority date: 1986-07-08
Filing date: 1986-07-08
Publication date: 1988-01-22

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】「産業上の利用分野」この発明は、例えば半導体ウェハー製造工程において洗
浄されたウェハーの表面に付着した。水を除去する付着
液体除去方法に関するものである。

「従来の技術」一般に、ンリコンウェーハー等の製造工程においては、
まず、シリコン単結晶をスライスしてラップし、その後
洗浄を行う。そして、洗浄されたウェハーの表面に付着
している水を除去する。

従来、このウェハーに付着した水を除去する方法として
は、ウェハー表面にほぼ垂直に空気を吹き付け、表面に
付着した水を蒸発させる方法が行なわれている。

「発明が解決しようとする問題点」ところで、上記のような付着した水の除去方法にあって
は、水滴がウェハー表面に付着した状聾で水分が蒸発す
ることが多いため、水分が蒸発した後、水滴中の溶解成
分がつ上バー表面に残り、染みが発生するという問題点
があった。

「問題点を解決するための手段Ｊこの発明は、上記の問題点を解決するためになされた乙
ので、吹き付けられる空気流を帯状になすとともに、前
記空気流の吹き付け方向を、板状部材の移動方向の後方
へ向かうにしたがい前記板状部材の板面に接近する方向
としている。

「実施例」以下、この発明の一実施例について第１図ないし第６図
を参照して説明する。

第２図は、この発明に係る付着液体除去方法を採用した
ウェハー洗浄乾燥装置ＩＩを示す図である。このウェハ
ー洗浄乾燥装置ＩＩは、洗浄すすぎ室１３とこの洗浄す
すぎ室■３に隣接した乾燥室１５とを備えている。前記
洗浄すすぎ室１３の前記乾燥室Ｉ５と反対の側の室壁に
は、ウェハーを搬入する搬入口１７が設けられている。

また、前記洗浄すすぎ室１３と前記乾燥室１５との間の
室壁にはウェハーを洗浄すすぎ室１３から乾燥室１５に
通過さけるための通過口１９が設けられている。さらに
、前記乾燥室Ｉ５の前記洗浄すすぎ室Ｉ３と反対の側の
室壁には、ウェハーを搬出する搬出口２１が設けられて
いる。そして、これら搬入口１７、通過口１９、搬出口
２１をこの順に通過するウェハー搬送経路Ａが設定され
ている。

前記洗浄すすぎ室１３内には、前記ウェハー搬送経路Ａ
に沿って、前記搬入口１７から前記通過口１９に向って
第１の液体吸収装置２３、第２の液体吸収装置２５、第
３の液体吸収装置２７が設けられている。これら第１、
第２、第３の液体吸収装置２３．２５．２７は、同形同
大のらのであって、２つのスポンジ製のローラー２９．
２９を備えている。前記２つのローラー２９．２９は、
その２つの軸線を互いに平行になしかつその２つの軸線
を含む平面がウェハーの搬送方向に垂直になるように配
設されている。また、前記２つのローラー２９．２９は
、ウェハーを挾んだ状態で、スポンジのローラー２９．
２９が圧縮された状態になるように設定されている。

前記第１の液体吸収装置２３と前記第２の液体吸収装置
２５との間には、前記ウェハー搬送経路Ａの上方および
下方に、第１のスプレーノズル３１１３１が設けられて
おり、前記第２の液体吸収装置２５と前記第３の液体吸
収装置２７との間にも同様に、第２のスプレーノズル３
３．３３が設けられている。これら第１および第２のス
プレーノズル３！、３３は、前記ウェハー搬送経路Ａを
搬送されてくるウェハーに純水を吹き付け洗浄およびす
すぎをするようになっている。

また、前記第１のスプレーノズル３１と前記第２の液体
吸収装置２５との間には、前記ウェハー搬送経路Ａの上
側と下側とにナイロンブラシ３５．３５が設けられてお
り、前記ウェハー搬送経路Ａを搬送されてくるウェハー
の両面をブラッシングするようになっている。

なお、前記洗浄すすぎ室１３の下部には洗浄液をυ１出
する排出口３７か設けられている。

一方、前記乾燥室Ｉ５の内部には、前記ウェーハーの搬
送経路Ａに沿って、前記通過口Ｉ９から前記搬出口２１
に向って第１のＯリングローラー３９、第２の０リング
ローラー４１、第３の０リングローラー４３が設けられ
ている。この第１゜第２、第３の０リングローラー３９
．４１，４３は、同形同大になされており、第３図に示
すように、ローラー軸４５の外周に０リング・１７が装
着されてなるものである。また、この第１１第２、第３
の０リングローラー３９．４１、・１３は、そのローラ
ー軸、１５の両端部を転がり軸受４９．４９によって回
転自在に軸支されており、前記ローラー軸４５の一方の
側の端部にはスプロケット５１が固定されている。そし
て、前記Ｏリングローラー３９．４１，４３は、前記ス
プロケット５１を介して、動力源（図示せず）によって
回転され、その上に載置されたウェハーＷを館記通過口
１９から搬出口２１の向って搬送するようになっている
。

前記第１の０リングローラー３９と前記第２の０リング
ローラー４１との間で前記搬送経路Ａの上方および下方
には、それぞれエヤーナイフ５３．５３が設けられ、同
じく前記Ｏリングローラー・１１と前記Ｏリングローラ
ー４３との間で前記搬送経路Ａの上方および下方には、
エヤーナイフ５５．５５が設けられている。

前記エヤーナイフ５３．５５は、同形同大になされ、第
４図ないし第６図に示すように、本体５７を備えている
。この本体５７は、平面視略長方形状の厚板になされ、
その上面５９には凹部６１が設けられている。この凹部
６Ｉは、空気溜まりとされるものであって、平面視略長
方形状になされ、その長手方向を前記本体５７の長手方
向に一致させて形成されている。また、前記四部の底面
６３には、その底面６３から前記本体５７の底面６５に
至る貫通孔６７が形成されており、この貫通孔６７を通
して前記凹部６１に高圧空気を送り込むようになってい
る。

前記本体５７の上面５９には蓋板６９が設けられている
。この流民６つは、前記凹部６１の開口部を覆うように
設けられており、前記上面５９に、前記上面５９との間
にパツキン（図示せず）を介して、固定されている。前
記パツキンは、前記上面５９のうち前記凹部６１と前記
本体５７の前面７１との間の部分以外の部分に配設され
ており、前記凹部６１と前記前面７１との間の部分に配
設されていない。そして、前記前面７１と前記凹部６１
との間（第４図中符号Ｓで示す範囲）の上面５９と前記
Ｍｌとの間には、間隔２０μｍのスリットが形成されて
いる。

このような構成において、前記エヤーナイフ５３．５５
は、前記貫通孔６７から高圧空気を供給され、前記スリ
ットから高速の空気流を帯状に吹き出すようになってい
る。

このようなエヤーナイフ３３．３５は、Ｏリングローラ
ー３９．４１上に載置されたウェハーＷの上方および下
方７こ傾斜して配設されている。すなわち、前記エヤー
ナイフ３３は、第１図に示すように、そのスリットから
吹き出される空気流Ｆの流れ方向が、前記ウェハーＷの
搬送方向Ｂの後方へ向かうにしたがい前記ウェハーＷの
表面に接近するような方向になり、ｉｉη記ウェつ−Ｗ
の表面に垂直な方向に対してθ＝＋５°〜３０°の角度
をなすように配設されている。そして、前記スリットか
ら吹き出される高速の空気流Ｆによって、ウェハーＷの
表面の水を前記搬送方向Ｂの後方へ吹き飛ばすようにし
ている。また、前記エヤーナイフ５５と前記ウェハーＷ
との位置関係ら、前記エヤーナイフ５３と同様である。

なお、前記エヤーナイフから吹き出される空気は、常温
乾燥で２０℃〜３０℃が望ましく、乾燥を早める高温乾
燥においては５０℃〜８０℃程度が望ましい。

次に、このようなウェハー洗浄乾燥装置１１によってウ
ェハーの洗浄乾燥を行う方法について説明する。

まず、スライスおよびラッピングされたウェハーを搬入
口１７から挿入し、前記第１の液体吸収装置２３のロー
ラー２９．２９によって挾み込み前記通過口１９に向っ
て搬送するとともに、ウェハー表面に付着していた水を
吸収する。

次に、前記第１のスプレーノズル３１，３１によって、
ウェハーに純水を吹き付け、洗浄を行うとともに、ナイ
ロンブラシ３５．３５によってウェハー表面の付着物を
取り除く。その後、第２の液体吸収装置２５のローラー
２９．２９によってウェハーを前記通過口１９に向って
搬送するとともに、再びウェハー表面の水を吸収する。

次いで、前記第２のスプレーノズル３３．３３によって
ウェハーに純水を吹き付けすすぎを行い、その後第３の
液体吸収装置２７のローラー２９．２９によってウェハ
ーを前記通過口１９に向って搬送するとともに再びウェ
ハー表面の水を吸収する。

次に、ウェハーを乾燥室１５に送り込み、Ｏリングロー
ラー３９．４１，４３上を搬送させながら、エヤーナイ
フ５３．５５がら空気流Ｆを吹き付１する。すると、ウ
ェハーに付着していた水はウェハーの搬送方向後方に吹
き飛ばされる。そして、乾燥されたウェハーを、搬出口
２１から搬出する。

上記のように、ウェハー洗浄乾燥装置１１の板状部材の
付着液体除去方法にあっては、エヤーナイフ５３．５５
から吹き付けられる空気流Ｆを帯状になすとともに、前
記空気流Ｆの吹き付け方向を、前記ウェハーＷの搬送方
向の後方へ向かうにしたがい前記ウェハーＷの板面に接
近する方向としているから、ウェハーＷに付着している
水をウェハーの搬送方向の後方へ吹き飛ばずことかでき
る。

したがって、エヤーナイフよりウェハーの搬送方向前方
に位置するウェハーに水滴が付着するのを防止すること
ができる。それ故、ウェハー表面に付着した水が乾燥す
る際に、水滴中の溶解成分がウェハー表面に残ることが
なく、したがって、ウェハー表面に染みか発生ずるのを
防止することができる。

まｆこ、上記のウェハー洗浄乾燥装置１１にあっては、
ナイロンブラシ３５．３５でウェハー表面をブラッシン
グするようにしているから、ウェハー表面の微細な苛に
入り込んだ粒子まで除去することができる。

さらに、上記のウェハー洗浄乾燥装置１１にあっては、
ウェハーの洗浄すすぎおよび乾燥を自動的に行うことが
できるから、作業の省人化をはかることができるととも
に、作業時間を短縮することができる。

なお、上記実施例においては、洗浄および乾燥される乙
のとしてウェハーを採用しているが、これに限る必要は
なく、板状の部材であればどのようなものでもよく、ま
た板状の部材は剛体に限る必要はなく、弾性体および可
撓性の部材でもよい。

また、上記実施例においては、吸収除去されるものは、
水とされているが、これに限る必要はなく、液体であれ
ばどのようなものでもよく、例えば溶液、溶剤等でもよ
い。

「発明の効果Ｊ以上に説明したように、この発明によれば、吹き付けら
れる空気流を帯状になすとともに、前記空気流の吹き付
け方向を、板状部材の移動方向の後方へ向かうにしたが
い前記板状部材の板面に接近する方向としているから、
板面に付着している液体を板状部材の後方に吹き飛ばす
ことかで３、したがって、乾燥する際に板面に染みが発
生するのを防止することができるという効果かえられる
。

【図面の簡単な説明】

第１図ないし第６図は本発明の一実施例を示す図てあっ
て、第１図は第２図中矢印１部分の拡大図、第２図は本
発明の方法を採用しｆコウェハー洗浄乾燥装置を示す断
面図、第３図は第２図中■−■線に沿う矢視断面図、第
・１図ないし第６図はエヤーナイフを示す図であって、
第４図はその平面図、第５図は第２図中矢印■方向の矢
視図、第６図は第２図中矢印■方向の矢視図である。Ｗ・・・・・・ウェハー（板状の部材）、Ｆ・・・・・
・空気流。

Claims

【特許請求の範囲】

板面に平行な方向に移動している板状の部材に空気を吹
き付け、その表面の乾燥を行う付着液体除去方法におい
て、前記吹き付けられる空気流を帯状になすとともに、
前記空気流の吹き付け方向を、前記板状部材の移動方向
の後方へ向かうにしたがい前記板状部材の板面に接近す
る方向としたことを特徴とする付着液体除去方法。