JPS6314856A - 表面処理方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、流動層式炉を用いて被処理材の表面に、チタ
ン（Ｔｉ）、バナジウム（■）、ニオブ（Ｎｂ）ｌタン
タル（Ｔα）、クロム（Ｃｒ）まタハマンガン（Ｍｎ）
、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）等の元素の
炭化物、窒化物、炭窒化物またはこれらの元素と母材元
素との固溶体層を形成させる方法およびその装置に関す
るものである。

〔従来技術〕

流動層を丈用して被処理材の表面に炭化物または窒化物
層を形成させる技術としては１本出願人が先になした特
弁由ａ’ｒ７−２１３７４９　（特開開５９−１０７９
９０）、５９−１０８０５４（特開昭６０−２５１２７
４　）がある。

この方法は、アルミナ等の耐火物粉末（以下。

流動剤と称す）と、炭化物または窒化物形成元素を含む
金属またはそれらの合金粉末（以下、り形成剤と称す）
と、ハロゲン化アンモニウム塩まタハ処理温度以下で昇
華または蒸発する金属ハロゲン化物（以下、活性剤と称
す）粉末とからなる処理剤（以下、これらの混合物を処
理剤と称す）をアルゴン等の流動化ガスによって流動化
させ、この流動層中に被処理材を埋没し、この被処理材
の表面に炭化物または窒化物、炭窒化物を形成させるも
のである１、この灰化物は２層形成剤と活性剤のガスと
の反応によって発生した炭化物形成元素のハロゲン化物
のガスと被処理材中の戻素との反応によって、また、窒
化物は同様にして発生した窒化物形成元素のハロゲン化
物のガスと鋼中の窒素または流ｆＬＦＪ層に導入される
皇素ガスとの反応によって形成される。

この方法で用いられる活性剤は、処理中での処理剤の同
化を防止し、流動化を維持するため、処理温度以下で外
層、蒸発するものでなければならない。したがって、上
記無理剤を長時間、更用すると活性剤の一部が散逸して
表面１層形成１１旨カが徐々に低下してくる。それ故、
処理時間の経過とともに形成される炭化物または窒化物
層の厚さが薄くなるおそれがある。このような問題点を
解決する一つの手段として１本出願人は先に持←願″￥
′０−２２０９２５を出願した。すなわち、この出願に
おいてｆ’を層形成剤と活性剤の混合、粉末を多孔質体
からなる容器に充填し、流動剤からなる流動７す中に被
処理材とともに配置し、処理に供する。層形成剤と活性
剤の混合粉の層形成能力が低下した場合は、この容器を
炉外へ取り出し、＃Ｔしい層形成剤と活性剤の混合粉と
交換し、この容器を再び流動層中に返戻する。しかし、
この方法ではり形成能力が低下するごとに；層形成剤と
活性剤の湿分粉末を交換しなければならず１両粉末の混
合や。

能力の低下した粉末の容器からの除去等の操作が厄介で
あることおよびそのために被覆作業が中断されがちであ
る。

〔発明が解決しようとしている問題点〕本発明は流動層
を用いて被処理材の表面に前記炭化物７等の表面処理層
を形成させる方法において、処理剤の層形成能力の維持
あるいは低下した能力の回復を図り、経済訂蹴効率的に
連続処理を可能とした表面処理方法および装置を提供し
ようとするものである。

〔問題を解決するための手段〕

本発明の表面処理方法はアルミナ等の耐火物粉末と炭化
物、窒化物、炭窒化物または固溶体形成元素を含む金属
またはこれらの合金粉末とからなる処理剤を流動層式炉
中に配置し、アルゴンガス等の流動化ガスを導入してこ
れら処理剤を流動化させ、この流動層中に被処理材を配
置するとともに、該流動層中にハロゲン化物を随時供給
することにより、加熱下において、被処理材表面に表面
処理層を形成させることを特徴とするものである。

また１本発明の表面処理装置は、上記方法を実施するた
めのものであり、外表面にハロゲンガスを噴出する多数
の小孔を有する管を流動層内で被処理材下部かつガス分
散板上部あるいはガス分散板下に配置し、この管に上記
ハロゲン化物を供給するだめの管を連通してなることを
特徴とするものである。

層形成能力のａ特等のために流ｗＪＭ中に随時添加する
活性剤としては処理温度以下で昇華・蒸発するハロゲン
化アンモニウム４．金属ハロゲン化物およびアルカリ金
属またはアルカリ土類金属のハロゲン化物のうちの１種
またけ２種以上で用いる。これらの融点は処理１Ｍ１度
より高くても低くて４よい）活性剤は１通常粉末等固形
の状態でｊ唄欠広用していく。なお、最初圧活性剤が流
動剤に添カリ土類金属のハロゲン化物としてはＮ／ＬＣ
，ｌ　。

ＫＣｌ、　ＫＢＢ’４．　ＮａＢＦ、等がある。活性剤
の随時添加量は、充分な厚さの表面処理層を得るために
は、流動剤と層形成剤の合計全量に対し、０．０５〜２
０％であることが望ましく、１分〜４時間程度の間隔で
定期的にまたは不定期にこれらの量を添加する。（１０
５％以下では頻ばんに添加する必要が必り工朶的には添
加の自動化を必要とする。

２０％以上になると発生ガス量が増大して配管のつまり
等のトラブルが生じやすくなる。廃ガスの量を少なくシ
、廃ガス処理装置を小容ｉ、簡易なものとするためには
、一度に加える量を少なくしてα１〜Ｇ、２％程度をほ
ぼ連続的に添加していくのが望ましい。活性剤の形状は
、この活性剤が処理温度で昇華・蒸発あるいは溶融する
ため特に限定はない８１１通常取扱いの便を考慮してベ
レット。

円柱、ブロック状で用いる。

活性剤の添加は２例えば、第１図に示すようなＦ！Ａ７
７１］装置を用いて行う４．この装置は９例えば第２図
、第３図に示すように、活性剤供給用管６と数個の活性
剤ガス噴出用の管７とから成る。そして。

この装置は流動層４内に被処理材６の下部に配置する。

複数のガス噴出管７は、ガスの流れを均一にするため互
いに一定の角度をもたせる。管６および管７の同一平面
で、かつ、流動化ガスの流れに対して「垂直な断面積の
合計」の、「流動゛】の垂直断面積」に対する割合があ
まり大きいと均一な流動状態が維持されなくなる。実用
上、１／３以下が望ましい。この範囲内では管７の直径
を大きく、または管７の数を多くできる。管６および管
７の断面形状は円、楕円でも角状でもよい。管７の長さ
はできるだけ流動層の中心位置に対し点対象に選ぶこと
が望ましい。この管７の下面には活性剤噴出用の多数の
小孔を設ける。孔の数、径。

分布は流動層内でのガスの均一性が維持されるように決
定される。例えば、活性剤ガスの濃度が流動層断面で均
一になるように活性剤供給用管に近い部分の孔の径およ
び孔の数を鉄管に速い部分よりも小さく、かつ、少なく
するとよい。活性剤供給用管の端部は炉外にあり、活性
剤保持用ホンパー８が設けられている。ここに蓄えられ
た活性剤のベレット等１０は棒９によりブツシュされ活
性剤供給用管６を落下する。活性剤は昇華・蒸発温度以
上の部分に達すると！＋華・蒸発する。骸骨は密閉され
ており、活性剤ガスの外部への流出および外気の侵入を
防止する。送給された活性剤が供給用管の高温度誠に達
すると活性剤ガスは活性剤の昇華・蒸発による体積膨張
により活性剤ガス噴出用管７の下面に設けられた活性剤
ガス噴出用小孔７１から排出される。この場合、ガスの
流出を容易にするために管６に不活性ガス等のガスを送
入してもよい、、また、第４図に示すように活性剤ガス
噴出尾管ヲリング状にしてもよい。この場合。

活性剤ガス噴出用管をガス分散板１２の下部に。

また、これに連通ずる活性剤供給用管６を炉本体１の外
部に配置してもよい。また、活性剤供給用管６の炉外に
ある部分にヒーターをつけてブツシュされてきた活性剤
のベレット等を炉本体だ装入される前にガス化してもよ
い。

流動剤として用いる耐火物粉末は被処理材の構成金属と
反応しない不活性なものであり、アルミナ（Ａｇ２ｏ、
　）　、酸化ケイ素（ＳｉＯり）、酸化チタ７　（Ｔｉ
０１　）　、ジルコニア（ＺｒＯ，）等の通常の熱処理
で用いら几るものでよい。しかして、これら耐火物は１
種または２種以上で丈用する。その粒度は９通常の熱処
理で用いられる６０〜２００メツシユの範囲内が望まし
い。粒度が２００メツシユより細かいと耐火物粉末の取
扱いが難かしく。

流動化が不均一となる。逆に６０メツシユより粗いと流
動化ガスの量を多くしなければならず好ましくない。

層形成剤を構成する炭化物または窒化物形成元素の金属
とは、炭素、または窒素または炭素と窒素の両方と結合
して炭化物、窒化物または炭窒化物を形成しやすい金属
をいい、第■ａ族元素のチタン、第Ｖａ族尤素のバナジ
ウム、ニオブ、タンタル、そして第ｙ１ａ族元素のクロ
ム、及び第■ａ族元素のマンガンが代表的である。また
、固溶体を形成する金属とは、母材の元素と固溶体を形
成しやすい金属をいい、チタン、クロムが代表的である
。これらの元素を含む合金も層形成剤としては（資）用
可能で、その公金としては、Ｆｅ−Ｖ、Ｆｅ−Ｎｂ　、
　Ｆ　ｅ　−Ｃｒなどの合金鉄等がある。なお、複合あ
るいは二層以上の炭化物）―あるいは窒化物層混合して
使用してもよい。

耐火物粉末と伏化物等の形成元素の金属等の粉末の粒度
は、いずれも６０メツシユから５５０メソンユの範囲の
ものが好ましい。６０メツシユより粗いと、処理剤を流
動化させるために多量の流動化ガスを必要とする。６０
メツシユより粗いと流動化ガスの流速が大きくなりすぎ
る。その結果。

発生シたハロゲン化物のガスの流動層内の滞留時間が短
かくなり、ハロゲン化物のガスを流動層内に存在させる
に要する活性剤の量を多く必要とする。また、あまり流
速が大になるとハロゲン化物ガスが被処理材と十分に反
応する時間なく排出され１層形成が進まなくなる。逆に
３５０メツシユより細かくなると、粉末が浮遊しやすく
なり、取扱いが困難になるので、同様に好ましくない。

なお１条件によっては、処理剤粉末が流動化ガス導入口
に詰まって正常な流動化が阻害されることがあり、これ
を防止するため、ガス導入口と処理剤粉末との間に粗粒
（粒度５×２０メツンユ）のアルミナ等の１耐火物全置
いてもよい。

被処理材としては、炭化物または炭窒化物１層を形成す
る場合には、炭素を含有する鉄、ニッケル。

コバルト等の金属材料、超硬合金及び黒鉛を主体とした
炭素材料等がある。被処理材中に含まれる炭素と、処理
剤中の炭化物形成元素が結合して。

被処理材表面に炭化物が形成される。なお、被処理材中
には［ｌＬ２％以上の炭素を含むことが望ましい。炭素
含有量がＣＬ２％より少ないと、炭化物層の形成が困難
であったり、実用的な厚さの炭化物形成に長時間を要す
ることがある。また、被処理材が炭素を含まない金属で
ある場合にはこの被覆処理前に池の炉を用いて、あるい
は同一流動層炉を用いて浸炭を行い、ひきつづいて本被
覆処理を行うこともできる。後者の場合には、まず、メ
タノール等を添加した窒素ガスあるいはアルゴンガス等
を供給して２通常の浸炭処理を行い、その後。

アルゴンを流すとともに活性剤を添加する。

また、窒化物層を形成する場公、被処理材としては必ず
しも炭素を含有する必要はなく、鉄、ニッケル、コバル
ト等の各種金属材料、超硬合金。

アルミナ等の酸化物焼結体等の非金属材料等が使用でき
る。この場合、流動化ガスとして窒素含有ガスを使用し
、この窒素含有ガスと処理剤中の窒化物形成元素とが結
合して被処理材表面に窒化物が形成される。岐処理材中
に炭素が含有されていれば、炭窒化物層が形成される。

また、炭化物層を形成する場合でも、窒化物層を形成す
る場合でも鉄会合材料を予め窒化処理した材料を被処理
材として使用することもできる。

炭化物層形成の場合には窒素を含む炭化物層が形成され
、窒化物層形成の場合には流動化ガスとして窒素含有ガ
スを使用せずに窒化物層を形成することができる。

また、固溶体層を形成させる場合には、炭素を含有しな
い鉄、ステンレス等の金属材料を開用する。すでに多く
の文献から公知であるように、被処理材および供給ガス
中に炭素や窒素が十分に含まれていない場合には１層形
成剤中の一部の元素が被処理材中に拡散して固溶体層を
形成するからである。

流動化ガスとしては、炭化物または固溶体層を形成する
場合、アルゴン等の不活性ガスを使用し。

炭窒化物または窒化物層を形成する場廿、窒素やアンモ
ニウム等の窒素含有ガスあるいはこれらとアルゴンとの
混合ガスを使用する。なお、流動化ガス中に水素を少量
添加してもよい。またガスの純度は普通純度のものでよ
い。

流動化ガスの流動層炉内での流速は良好な流動化に十分
な範囲であればよい。流速が小さすぎると流動化が不十
分で流動層内の温度分布が不良となる。逆に、大きすぎ
るとガスの消費量が多くなり、また著しいバブリングが
生じ処理操作が困難になる。

流動化ガスが流動層式炉内に注入されると処理剤粉末は
、炉内に吹きとげられ、しかも引続き流入する流動化ガ
スの圧力により落下せず、浮遊状態で炉内を移動する流
動Ｘｄとなる。

本発明において用いる流動層式炉は、一般に乾燥、焼却
、還元等の目的で通常開用されている流動層式炉でよい
。例えば第１図に示すように炉本体１の下部に流動化ガ
スの導入口１１が開口しており、炉内の導入口側にガス
分散板１２が設けられたものでおる。そして、炉上部に
はガス排出口５１を有する蓋５が装着されている。また
、炉本体と上記蓋とが一体となった構造で、該炉本体に
活性剤ガス噴出用管等や被処理材を出し入れするだめの
開閉自在の扉を設けた炉でもよい、上記加熱工程は、熱
媒体である流に！Ｉ層を加熱することにより行なう。加
熱の具体的手段は、８ｇ１図のように流ｒｉｌＪ層を含
む流動層式炉１を電気炉等の外部加熱器２内に装入して
、外部から流動層を加熱する方式、あるいは流ｖＪ層式
炉内に設けられた加熱器により、直接流動層を加熱する
方式のいずれでもよい。

加熱温度は７００〜１２００°Ｃの範囲内で選択される
。７０　ＣＪ　’Ｏ木満では２層形収速度が著しく遅く
なジ、１２００°Ｃを超えると、被処理材母材の劣化を
生ずるおそれがらり、好ましくない。しかし、前述の鉄
合金材料を予め窒化処理したものを被処理材として用い
る場合には、窒化処理によって形成された鉄の窒化物（
炭素を含む鉄合金材料の場合には鉄の炭窒化物）中に処
理剤中の炭化物または窒化物形成元素が拡散し、該元素
が鉄と置換反応を起こし、該元素の窒化物（炭素を含む
鉄分金材料の場合には該元素の炭窒化物）が形成］ される。この場合、比較的低温でも表面−＃を形成する
ことができるが、７ＸＩ熱温度は４００〜１２００°Ｃ
の範囲が好ましい。

処理時間は被処理材の組成・形成する層の組成。

厚さなどを考慮して１１５〜５時間の範囲で選択する。

一般に、一定厚さの層を得るには、高い処理温度では比
較的短かい処理時間、低い処理温度で本発明においては
、活性剤としてのハロゲン化物を１表面処理工程中にお
いて、外部より随時流動層中に供給するので、従来のご
とく処理剤粉末の混合、容器からの処理剤の取り出し、
活性剤の混合等の必要がなく連続的に表面処理を続ける
ことができる。また、活性剤を少量づつ添加できるので
流＃Ｊ層より見出されるハロゲンガスの量が少なく、尭
ガス処理設備を小型簡易なものにし得る。また、長期に
わたり処理剤の交換が不要であり、チタン、バナジウム
など高価な炭化物形成元素の金属等の丈用量を少なくす
ることができる。

なお、流動層を用いた通常の熱処理で行われているよう
に、被処理材の自動装入、取り出し装置を設ければ連続
処理が可能である１、 以下９本発明の詳細な説明する。

実施例１ 第１図に示す流動層式炉を用いて１本発明の炭化物被覆
処理を行った。流動層式炉は、炉本体１の下部に、流動
化用アルゴンガスのガス供給通路１１が開口し、開口部
の直上に、炉内を二つに仕切るガス分散板１２が設けら
れている。炉本体１の頂部には、′ｉｙ、りはずし自在
のＭ５がかぶせられ、ｆｆ１５の一部には、廃ガスをト
ラップするスフＬ ラバーに供給したガス排出通路５１が開口している。

炉本体１の外周には、加熱′ａ２が設置されている。ま
た、炉本体１は、耐熱鋼製であり、かつ形状は直径６０
１ｆｆＸ高さ８００ａｌの円柱形状である。

上記流動層式炉のガス分散板１２上には、処理剤粉末Ｉ
　Ｋｇを置いた。その処理剤中の各成分の配合割合は、
６０％のアルミナ粉末（８０〜１００メツシユ）、４０
％のフェロバナジウム粉末（７０％バナジウム含有、１
００〜２００メツシユ）であった。ついで、流動化ガス
としてアルゴンガスを圧力ｔ　５　Ｋｑ／（−４，流速
１４０１分で上記ガス供給通路１１より炉本体１内に送
入した。これにより、処理剤粉末は流動化し、流動層４
が形成された。この流動層内の下部には、ガス分散板上
部に第２図、第３図に示したような、８本の活性剤ガス
噴出用管７が活性剤供給用管６と接続して設けられてい
る。活性剤の供給用管６の内径は９ｔｘｘであり、活性
剤ガス噴出用管７の内径は３　ＩＩＩでおる。

また、夫々のガス噴出用管７の下面には直径０．５朋の
ガス１質出用小孔７１が３ケ所に開けられている。

次に、被処理材（合金工具Ｗ４ｓｋＤ１１．直径７ｕ×
高さ５０ｎ＋）３を２個、流動層のほぼ中心部に蓋内面
の支持具を介して吊り下げた。次いで炉本体頂部の蓋５
をし、密閉した後、流動層を１０ｏｏ’ｃに加熱した。

欠に、活性剤としての塩化アンモニウム粉末０．４ｆは
油圧プレスによって円柱状（直径７Ｍ×高さ７ＭＭ）に
成形し、この塩化アンモニウム圧粉（Ｓ ｌを活性剤保持用ホッパー８の上部から装入し。

上端を密閉後、棒９によって、活性剤供給用管内に２個
ブツシュして落下させた。この塩化アンモニウムの圧粉
体２＠の量は処理剤全量の［１０８％に相当する。開始
１時間後に更に塩化アンモニウムの圧粉体を１個供給し
た。２時間の処理を行った後、蓋をはずして被処理材を
炉外へ取り出し。

油冷した。

欠に、再び上記と同様にして同一組成、形状の被処理材
を、流動層中心部に２個入れ、以降は。

前記と同様にして、順欠塩化アンモニウムの圧粉体を供
給しながら、処理を行なった。

この操作を４回繰り返ｌした。このようにして得られた
被処理材の表面？目視したところいずれにも処理剤の付
層９色むら等は認められず、平滑な材料表面であった。

そして、その断面を顕微鏡で観察したところ５〜６μｍ
の被覆層が均一に形成されていることが認められた。こ
の層をＸ線回折で分析したところ、バナジウム灰化物（
ＶＣ）層であることが確認された。また、この層の硬さ
を測定したところ、約Ｈｖ３，０００の硬度を示した。

このようにわずかα１％程度の活性剤を随時添加するの
みで充分な厚さのバナジウム炭化物層を被覆することが
できた。

実施例２ 処理剤の重量を１に９１１成分アルミナ粉末（８０〜１
００メツシユ）６０％、フェロチタン粉末（１００〜２
００メツシユ）４０％とし、実施１３を設置した流動層
式炉を用いて炭化物被覆処理を行った。活性剤ガス噴出
用リングには活性剤供給用管６が垂直に連通している。

管６の先端は炉外にあり、実施例１の場合と同様、活性
剤保持用ホッパー８等を有している。活性剤供給用管は
内径ＩＱｆｌである。ただし、リングとの接続部は５ｎ
である。活性剤ガス噴出用リングの外径は５５ｒｓｘ、
このリングを構成する管の内径は５ｆｆである。このリ
ングの下面には直径α５ｊｒｌの孔が１５ケ所等間隔に
開けられている。欠に、被処理材（炭素工具鋼８に４．
直径７ｍｇＸ高さ５０朋）を流動；−中心部に蓋内面の
支持具を介して吊り下げた。次いで炉本体像部の蓋５を
し、密閉した後。

流動層を１０００°Ｃに加熱した。欠に、活性剤として
の塩化アンモニウム粉末（８０〜１００メツシユ）Ｑ、
９ノを油圧プレスによって直径９１ｆｌｌＸ高さ９朋の
円柱状に成形した。この塩化アンモニウムペレットを活
性剤保持用ホッパー８の上部から装入し、密閉後、　Ｖ
ｆ、９によって、活性剤供給用管内にフ″ソンユして落
下させた。この塩化アンモニウム圧粉体１１固のＪムは
処理剤全量の１０９％である。開始１時間後に更に塩化
アンモニウムベレット１個を供給した。２時間加熱処理
を行った後。

被処理材を炉外へ取り出し油冷した。その後、同一組成
、形状の被処理材音用い、同−滝の塩化アンモニウムを
上記と同様に活性剤供給用管内に供給し、２時間の処理
を行った。この操作を５回繰り返Ａした。このようにし
て得られた夫々の被処理材表面には９〜１０μＩｎの平
滑な被覆層が形成されていた。この層をＸ線回折で分析
したところ。

チタン炭化物（Ｔｉｅ　）層であることが確認された。

また、この層の硬さを測定したところ、約Ｅｌｖ５５０
０の硬度を示した。

実施例６ 処理剤の重量を１に９１１成分アルミナ粉末（８０〜１
００メツシユ）６０％、クロム粉末（１００〜２００メ
ツシユ）２０％とし、実施例１で用いた流動層式炉を用
いて炭化物被覆、固溶体層形成処理を行った。

まず被処理材（炭素工具鋼８に４と工業用純鉄。

夫々直径７ａＸ高さ５０　ｙｒｘｔ　）を流動層中心部
に蓋内面の支持具を介して吊り下げた。次いで、炉本体
頚部の蓋をし、密閉した後、流動層を１０００°Ｃに加
熱した。次に活性剤としての臭化アンモニウム粉末（８
０〜１００メツシユ）０．７ｐを油圧プレスによって円
柱状（直径７　ｍｘ　Ｘ高さ７　ｘｘ　）に成形し、こ
の臭化アンモニウムベレットを活性剤保持用ホッパー８
の上部から装入し、上端を密閉後、棒９によって活性剤
供給用管内に１個ブツシュして落下させた。この臭化ア
ンモニウムのベレット１個の量は処理剤全量の１．０７
％である。開始１．５および１時間後に更に臭化アンモ
ニウムベレットを夫々１個づつ供給した。２時間加熱処
理を行った後、被処理材を炉外へ取り出し油冷した。

その後同−組成、形状の被処理材を用い、同一量の臭化
アンモニウムを上記と同様に活性剤供給用管内に供給し
、２時間の処理を行った。この操作を５回繰り返ｌした
。このようにして得られた夫々の被処理材表面には粉末
の付着もなく樺めて平滑であった。また、８に４には８
〜９μｍの被覆層が形成されていた。この層をＸ線回折
したところ。

が確認された。この層の硬さを測定したところ約Ｈｖ２
０００の硬度を示した。また、工業用純鉄では２４〜２
５μｍのクロム固溶体層が形成されていた。この層断面
のクロム量をＸ線マイクロアナライザーによって分析し
たところ、最大６０％であることが確認された。

【図面の簡単な説明】

性剤ガス噴出用管の平面図、第６図は第２図のニーＩに
沿う断面図、第４図は他の活性剤ガス噴出用管の平面図
、第５図は第４図の［−Ｉｔに沿う断面図、である。 １：炉本体、３：被処理材、４：流動層。 ５：蓋、６：活性剤供給用管、７：活性剤ガス噴出用管
、１３：活性剤ガス噴出用リング第１図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）アルミナ等の耐火物粉末と炭化物、窒化物、炭窒
   化物または固溶体形成元素を含む金属またはこれらの合
   金粉末とからなる処理剤を流動層式炉中に配置し、アル
   ゴンガス等の流動化ガスを導入してこれら処理剤を流動
   化させ、この流動層中に被処理材を配置するとともに、
   該流動層中にハロゲン化物を随時供給することにより、
   加熱下において、被処理材表面に表面処理層を形成させ
   ることを特徴とする表面処理方法。
2. （２）アルミナ等の耐火物粉末と炭化物、窒化物、炭窒
   化物または固溶体形成元素を含む金属またはこれらの合
   金粉末とからなる処理剤の流動層中において被処理材の
   表面に表面処理層を形成させるための炉本体と、該炉本
   体に併設した加熱炉とからなるとともに、該炉本体内に
   は上記流動層の下方に開口する多数の孔を有するハロゲ
   ン化物ガス噴出用管を配置し、該ハロゲン化物ガス噴出
   用管は炉本体外部に連通させたハロゲン化物供給用管に
   接続してなることを特徴とする表面処理用装置。