JPS63147807A - 高α型窒化けい素の製造方法 - Google Patents

高α型窒化けい素の製造方法

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JPS63147807A
JPS63147807A JP29567786A JP29567786A JPS63147807A JP S63147807 A JPS63147807 A JP S63147807A JP 29567786 A JP29567786 A JP 29567786A JP 29567786 A JP29567786 A JP 29567786A JP S63147807 A JPS63147807 A JP S63147807A
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JP
Japan
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silicon nitride
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si3n4
temp
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JP29567786A
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Yasuaki Nozawa
野沢 保明
Mitsuo Umemura
梅村 光雄
Yasushi Matsudaira
靖 松平
Megumi Yumoto
湯本 恵
Mutsuo Shimizu
清水 睦夫
Kenichi Arai
健一 新井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は微粉末にしやすい、高α型′や化けい素のキ°
!造方法に関し、その目的とするところは高品位窒化け
い未焼結体に好適な窒化けい素を提供するにある。
(従来の技術) 窒化けい素Si、N4は一般に金属けい素と窒素を高温
で反応させることによって製造されているか、この場合
のSi3N4生成反応は次式%式% のように発熱を伴い、反応の制御が困難であるため、高
温安定型のβ相かできやすく、高α型のものが得られ難
い。
また、′や化の比表面積は大きくてもせいぜい3rn2
/g前後てあり、常圧焼結用に必要とされる101Tl
l/g以1−の微粉にするためにはさらに微粉化しなけ
ればならない。しかし微粉化処理すれば粉砕メゾイヤの
磨耗による不純物や酸素の混入か避けられないという問
題がある。
高品位窒化けい未焼結体の製造には、原料と才る′や化
けい素か高α型の結晶相をf1シ、かつサブミクロン級
の微粉であることが要求される。しかしなからこれを満
足できるものはまた見出さnていない現状である。
金属けい素から直接゛や化法で高純度微粉を得る方法と
して、西独シュタルク社の方法(G、 Schwier
工業レアメタル、 7398(+980))か知られて
いるか、この方法によると金属けい素の窒化微粉砕後さ
らに薬品による化学的LfMが必要であるため、微粉砕
の負イーイの程度により粉砕メディアの摩耗度か大きく
、精製用薬品量が大きく変ってくるという不利がある。
(問題解決のための手段) 本発明者は前記問題点を解決するため種々検討の結果、
金属けい素の直接窒化における発熱反応を制御すること
により高α型でしかも微粉化しやすい粉末を得ることに
成功し、本発明に至ったのである。
すなわち、本発明は、金属けい素を高温で窒素と反応さ
せ、窒化けい素を製造するに当り、1000℃から15
00℃付近までを150℃/時以下の昇温速度で加熱し
、最高温度を3時間以内保持させることを特徴とする比
表面積5rn27g以上の高α型窒化けい素の製造方法
を要旨とするものである。
本発明の実施に当って用いるガスはN2またはN113
またはこれらの混合ガスであり、さらにこれに11□、
 八、、 I+、などの不活性カスを添加して発熱反応
を制限することができる。
金属けい素としては微粉化された、特にBET比表面積
で1〜6 m27gの範囲にあるもの使用するのが好ま
しい。
本発明では窒化反応の開始から終了までの間、金属けい
素が150℃/時以下の5’l’ljA速度で加熱され
るように温度を、i+制御し、最高温度を3時間以内に
保持させ、これによって、発熱反応を抑制するのであっ
て、具体的には1000℃〜1500℃の温度勾配をb
つ横型管状炉あるいはトンネル型炉を使用し、金属けい
素を収容した容器を炉内に通過させる方法が行われる。
昇温速度が150℃/時以下では小さいほど比表面積の
高いものが得られるか、生産性の点からも40〜b 以トのものは11?にくく粉末同志の融着か起き比表面
積を下げることとなり本発明の目的を達成することがで
きなくなる。
(発明の効果) 本発明によれば従来窒化後の比表面積が〜31n2/g
前後てあったものが8〜I In27gとなり、そのた
め次のような効果が得られた。
■湿式微粉砕に要する時間が173〜l/2になり、メ
ディアの片耳■もほぼそれに比例して少なくな7た。
■メディアの不純物の混入および酸素の増加−1が少な
くなり、精製に要する薬品(酸)の量が1/2以ドにな
った。
■酸(it;および他の強酸)の(tか少なくなり、排
水処理かIP¥減された。
実施例1 横べ“1管状炉内を5%の水素を含む゛や素カス雰則気
とし、この中で窒化けい素製容器に人わた金属けい素粉
末(比表11’i′!植4.7m27g )を移動させ
、昇温速度を60℃および120℃/時として1400
℃まで加熱し、′や化反応させた結果は表−1のとおり
であった。なお、比較例として200℃/時の昇温速度
の結果を併記した。
本発明の方法によればβ−5i、、N4の少ない高α型
′や化けい素か得られることがこの表かられかる。
実施例2 捗怜試未 実施例1の実験N002と比較例で得た5iJN、粉末
の各々を微粉砕機で微粉化した結果は7jrJ1図に示
すとおりであった。
この場合の粉砕メディアはスチールホールてあり、粉砕
媒体は水を用いた。第1図から本発明によれば同一粒径
において湿式粉砕に要する時間が大幅に短縮化されるこ
とが明らかである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例と比較例で得られた窒化けい素
の粉砕試験結果を示すグラフである。 特許出願人 (Li越化学丁業株式会社代理人・弁理士
 山 本 亮 −1″。 第1図 粉 石ン 時 甫 (峙)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、金属けい素を高温で窒素と反応させ窒化けい素を製
    造するに当り、1000℃から1500℃付近までを1
    50℃/時以下の昇温速度で加熱し、最高温度を3時間
    以内保持させることを特徴とする比表面積5m^2/g
    以上の高α型窒化けい素の製造方法。 2、金属けい素を充填した容器を、1000℃〜150
    0℃の温度勾配をもつ横型管状炉内あるいはトンネル型
    炉内に150℃/時以下の昇温速度になるよう連続的に
    通過させ、最高温度領域で3時間以内滞留させる特許請
    求の範囲第1項記載の高α型窒化けい素の製造方法。
JP29567786A 1986-12-11 1986-12-11 高α型窒化けい素の製造方法 Granted JPS63147807A (ja)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5456896A (en) * 1993-07-16 1995-10-10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Preparation of high alpha-type silicon nitride powder

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JPS60186406A (ja) * 1984-03-03 1985-09-21 Shin Etsu Chem Co Ltd アルフア型窒化けい素の連続的製造方法

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