JPS63122159A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPS63122159A JPS63122159A JP61268213A JP26821386A JPS63122159A JP S63122159 A JPS63122159 A JP S63122159A JP 61268213 A JP61268213 A JP 61268213A JP 26821386 A JP26821386 A JP 26821386A JP S63122159 A JPS63122159 A JP S63122159A
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Classifications
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-
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- H01L2924/19107—Disposition of discrete passive components off-chip wires
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置の構造に関し、特にリードフレーム
を使用する半導体装置におけるリードフレームの構造に
関するものである。
を使用する半導体装置におけるリードフレームの構造に
関するものである。
従来のリードフレームにおいては、アイランドと電気的
な結合を必要とする場合には、アイランドとリードを切
シ離さないよう設計し加工しなければならなかった、ま
たこのような手段を回避するため、アイランド吊シの部
分からリードへフイアボンデイングを行うという手法も
用いられるが、この方法でもアイランド吊シと隣接する
リードにのみしか適用できないという欠点があった。
な結合を必要とする場合には、アイランドとリードを切
シ離さないよう設計し加工しなければならなかった、ま
たこのような手段を回避するため、アイランド吊シの部
分からリードへフイアボンデイングを行うという手法も
用いられるが、この方法でもアイランド吊シと隣接する
リードにのみしか適用できないという欠点があった。
上述した従来の構造のリードフレームでは、アイランド
と結合したリード(以下グラウンドピンと称する)がそ
の加工時に固定されてしまうためリードフレームの利用
性が乏しくなるという欠点が有る。
と結合したリード(以下グラウンドピンと称する)がそ
の加工時に固定されてしまうためリードフレームの利用
性が乏しくなるという欠点が有る。
本発明による半導体装置では、リードフレーム上にアイ
ランド部分を取シ囲むように絶縁性樹脂膜と更にその上
に設けられた導電性金属薄膜を有している。
ランド部分を取シ囲むように絶縁性樹脂膜と更にその上
に設けられた導電性金属薄膜を有している。
第1図は本発明の一実施例の縦断面図(b)及び上面図
(0である。半導体素子1は、全編細線2でリードフレ
ームと電気的に結合している。またアイランド3は金属
細線2Iによって絶縁性樹脂[4の上に設けられた金属
薄膜5と電気的に結合している、ここでグラウンドピン
として必要なリード6は金属細線2″によって金属薄膜
5と結合しておシ、グラウンドピンとして機能するので
ある。尚絶縁性樹脂としてはポリイミド、金属薄膜とし
ては銅十ニッケル+金の三層構造が適当である。この絶
縁性樹脂膜4は裏面の粘着層(図中では省略)によシリ
ードフレームと接着されている。
(0である。半導体素子1は、全編細線2でリードフレ
ームと電気的に結合している。またアイランド3は金属
細線2Iによって絶縁性樹脂[4の上に設けられた金属
薄膜5と電気的に結合している、ここでグラウンドピン
として必要なリード6は金属細線2″によって金属薄膜
5と結合しておシ、グラウンドピンとして機能するので
ある。尚絶縁性樹脂としてはポリイミド、金属薄膜とし
ては銅十ニッケル+金の三層構造が適当である。この絶
縁性樹脂膜4は裏面の粘着層(図中では省略)によシリ
ードフレームと接着されている。
第2図は本発明の実施例2の上面図である。アイランド
3は金属細線2′及び2″と絶縁性樹脂膜4の上に設け
られた金属薄膜4を介してリード6′と電気的に結合し
ているため、リード6′はグラウンドピンとして機能す
るのである。
3は金属細線2′及び2″と絶縁性樹脂膜4の上に設け
られた金属薄膜4を介してリード6′と電気的に結合し
ているため、リード6′はグラウンドピンとして機能す
るのである。
以上説明したように、本発明においてはリードフレーム
上にリードフレームとは絶縁された状態の金属薄膜を設
け、必要なリードにワイアボンディングを行うことKよ
シ、任意のリードをグラウンドピンとして機能させるこ
とができる。これによシ、リードフレームの内部形状は
グラウンドピンとするリードを設けるために変更する必
要がなくなシリードフレームの測用性が増し、加えて、
同一形状のリードフレームのみで良くなるため、量産効
果によシコストも低減できるのである。
上にリードフレームとは絶縁された状態の金属薄膜を設
け、必要なリードにワイアボンディングを行うことKよ
シ、任意のリードをグラウンドピンとして機能させるこ
とができる。これによシ、リードフレームの内部形状は
グラウンドピンとするリードを設けるために変更する必
要がなくなシリードフレームの測用性が増し、加えて、
同一形状のリードフレームのみで良くなるため、量産効
果によシコストも低減できるのである。
第1図(a)は本発明の実2i占例1の上面図、第1図
(b怠第1図(a)のA−A線断面図、第2図は本発明
の実施例2の上面図、第3図は従来のリードフレームの
内部形状の上面図である。 1・・・・・・半導体素子、2.2’、γ・・・・・・
金属細線、3・・・・・・アイランド、4・・・・・・
絶縁性樹脂、5・・・・・・金属薄膜% 6 、6’
、 6”・・・・・・グラウンドピンとして機能するリ
ード、フ・・・・・・リードとアイランドを結合する朶
橋部分。 (α] (Zl) 第 プ レボ 察 2T!I 茅 3 回
(b怠第1図(a)のA−A線断面図、第2図は本発明
の実施例2の上面図、第3図は従来のリードフレームの
内部形状の上面図である。 1・・・・・・半導体素子、2.2’、γ・・・・・・
金属細線、3・・・・・・アイランド、4・・・・・・
絶縁性樹脂、5・・・・・・金属薄膜% 6 、6’
、 6”・・・・・・グラウンドピンとして機能するリ
ード、フ・・・・・・リードとアイランドを結合する朶
橋部分。 (α] (Zl) 第 プ レボ 察 2T!I 茅 3 回
Claims (1)
- 任意のリードをアイランドと電気的に結合にする事を目
的としてリードフレーム上に絶縁性樹脂膜と金属薄膜と
からなる薄膜を設けた事を特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61268213A JPS63122159A (ja) | 1986-11-10 | 1986-11-10 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61268213A JPS63122159A (ja) | 1986-11-10 | 1986-11-10 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63122159A true JPS63122159A (ja) | 1988-05-26 |
Family
ID=17455484
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61268213A Pending JPS63122159A (ja) | 1986-11-10 | 1986-11-10 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63122159A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0493058A (ja) * | 1990-08-08 | 1992-03-25 | Rohm Co Ltd | リードフレームおよびこれを使用して製造された半導体装置 |
FR2668651A1 (fr) * | 1990-10-29 | 1992-04-30 | Sgs Thomson Microelectronics | Circuit integre a boitier moule comprenant un dispositif de reduction de l'impedance dynamique. |
EP0503201A3 (ja) * | 1990-12-20 | 1994-03-16 | Toshiba Kk | |
US6625005B2 (en) | 2000-07-11 | 2003-09-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor circuit device having power and ground lines adapted for high-frequency operation |
JP2010258159A (ja) * | 2009-04-23 | 2010-11-11 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
-
1986
- 1986-11-10 JP JP61268213A patent/JPS63122159A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0493058A (ja) * | 1990-08-08 | 1992-03-25 | Rohm Co Ltd | リードフレームおよびこれを使用して製造された半導体装置 |
FR2668651A1 (fr) * | 1990-10-29 | 1992-04-30 | Sgs Thomson Microelectronics | Circuit integre a boitier moule comprenant un dispositif de reduction de l'impedance dynamique. |
US5243496A (en) * | 1990-10-29 | 1993-09-07 | Sgs-Thomson Microelectronics S.A. | Molded case integrated circuit with a dynamic impedance reducing device |
EP0503201A3 (ja) * | 1990-12-20 | 1994-03-16 | Toshiba Kk | |
US5473514A (en) * | 1990-12-20 | 1995-12-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device having an interconnecting circuit board |
US5613295A (en) * | 1990-12-20 | 1997-03-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device having an interconnecting circuit board and method for manufacturing same |
US5715147A (en) * | 1990-12-20 | 1998-02-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device having an interconnecting circuit board |
US6625005B2 (en) | 2000-07-11 | 2003-09-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor circuit device having power and ground lines adapted for high-frequency operation |
JP2010258159A (ja) * | 2009-04-23 | 2010-11-11 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
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