JPS63120436A - ウエハ設置装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は、半導体シリコン等のウェハを測定或は加工位
置に自動で設定させるためのウェハ設置装置に関する。

口、従来の技術 偏光解析によるウェハ上の膜厚測定或は表面加工等はウ
ェハ上に座標を決めて行う必要があり、かつ座標の再現
が要求される。座標の再現はウェハを再現性よく基準位
置に設置することで実現される。従って、その基準位置
への設定は重要な課題である。一般に半導体ウェハは円
形であるが、位置決めのために円周の一部に切欠き部（
一般にオリフラと呼ばれるものである）を設けている。

従って、ウェハを基準位置に正確に設置するには、この
オリフラを基準位置に設置すれば良い。従来はこのオリ
フラを位置決め用のビン等に物理的に押圧させることに
より設定していたが、ウェハは局所的にわずかな力を受
けても構成原子の転位が生じ、ＬＳＩ等を製作するとき
に品質・歩留まりに影響を及ぼすような、非常に繊細な
ものであるから、非接触でオリフラの位置を検出したほ
うが良く、また、なるべく短時間で位置設定できること
が望ましい。しかし、従来は、非接触自動でオリフラを
基準位置に設置できる適当な装置はなかった。

ハ１発明が解決しようとする問題点 本発明は、自動かつ非接触でウェハを基準位置に正確迅
速に設置させることを目的とする。

二　問題点解決のための手段 ウェハを保持及び回転させる手段と、その回転１段の回
転中心を中心とＬ７ウエハの外周と同ｌ二曲率をＨする
曲面を内側に有するガイＦと、ウェハが基準位置に設置
された時に受光量が最大となるように設置された反射形
の光電的検出手段と、ウェハを回転さぜた時、前記光電
的検出手段で得られた検出信号強度が極値或は強度変化
の最小値をとる回転位置にウェハを停止させる手段を設
けたポ１作用 ウェハを基準位置にセラＩ・するには、ウェハの中心を
基準位置に設置すると共に、ウェハの方向を基準方向に
設置し、なければならない。このウェハの中心の位置決
めは、ウェハの外周と同し曲面を有するガイドを設け、
そのカー４ｌ−にウェハを当接させることにより行うこ
とができる。ウェハの中心を基準位置に設置した後、そ
の中心を軸として回転させ、ウェハの向きを基準方向に
設置すれば良い。従って５本発明はウェハを十、記ガイ
ドにより回転テーブル上にウェハの中心と回転デープル
の回転軸心が合致するように設置して固定させ、回転テ
ーブルを回転させてウェハを基準方向に設置する。この
基準方向の検知方法が本発明の主旨である、ウェハには
夕１周の一部に切欠は部（オリフラ）が設＋ｉちれ、そ
のオリフラの位置によって設置方向を検知しているが、
本発明はオリフラか基準位置に設置された状態を光電的
に検出するので、ウェハを半押接触により自動で迅速に
基準位置にセッチングかできる。ここで平井接触と云う
のは、ウェハの中心の位置決めにウェハ外周と、同曲率
のガイド面との当接を用いているからであるが、この当
接は面接触であるから位置決めビンとの当接のような点
または線の接触とＵなり、ウェハの局所が受ける圧力は
極めて小さく、ウェハに害を及ぼさない。

へ、実施例 第１図に本発明の一実施例を示ず。第１図において、１
は測定試料であるウェハ、１ａはウェハに設けられたオ
リフラ、２はガイドでウェハ１との接触面である内面が
ウェハ１の外周と同じ曲率の円周面となっており、３は
反射形フォＩ−・マイクロセンサーでガ、イド２の内側
面に近接させ、ウェハ１の下方にウェハ】に受光面を向
けて設置する。４はガイド２の内面の曲率中心を軸とし
て回転駆動される回転テーブルで、上面に試料を真空吸
着できるように吸着孔が設けられている。

上記の構成において、ウェハ１を基準位置にセットする
動作について説明する。第１図において、ウェハは右方
から回転テーブル４１に移送されて来る。そして、第１
図Ａに示すように、ウェハ１の外周をガイド２の内周に
当接させると、自然にウェハ１の中心が回転テーブル４
の中心に合致される。ここで回転テーブル４の−に面に
設けた吸着孔によりウェハ１を回転テーブル４に吸着固
定させる。回転テーブル４をパルスモータで回転させる
。反射形フォトマイクロセンサー３はウェハ１からの反
射光を受光しているから、ウェハ１を一方向に回転させ
ると、オリフラ１ａの位置により、第２図（Ａ、Ｂは第
１図のＡ、Ｂの状態を示す）に示すような検出信号が得
られる。即ち、ウェハ１のオリフラ１ａのない部分がフ
ォ１−センサー３を覆っている間は、フォＩ・センサー
３の受光量は最大で、ウェハｌが回転しても受光量は不
変であり、オリフラ１８部分がフォトセンサー３」二に
かかってくると、受光量が減少し始め、やがて受光量が
最小になり、その後再び最大値に回復する。この反射形
フォトマイクロセンサー３の出力信号を回転テーブル４
の駆動パルス数をアドレスとしてｃｐｕ　（不図示）に
記憶させ、第２図に示すような検出信号のピーク頂点Ｂ
を抽出して、そのパルス数すに対応する位置に回転テー
ブル４をセットする。

反射形フォ１へ・マイクロセンサー３のセット位置は、
オリフラ１ａが基準位置にセットされた状態で、受光面
のウェハ中心に向がう側の縁とオリフラの外縁が一致す
る場合、検出信号のピークが最も鮮鋭になる。

ト、効果 本発明によれば、ウェハと非接触で基準位置の検知が可
能になったので、ウェハの損傷を少なくして不良率の低
減及び位置設定の自動化が計れた。また、ウェハの位置
設定が非接触の回転動作だけなので設置速度が向上した
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例で同図Ａがウェハを回転テー
ブルに設置した時の平面図、同図Ｂがウェハを基準位置
に設置した時の平面図、第２図は上記実施例におけるフ
ォトセンサーの検出信号のグラフである。 １・・・ウェハ、ｌａ・・・オリフラ、２・・・ガイド
、３・・・反射形フォト・マイクロセンサー、４・・・
回転テーブル。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　ウェハを保持及び回転させる手段と、その回転手段の
   回転中心を中心としウェハの外周と同じ曲率を有する曲
   面を内側に有するガイドと、ガイドの内側でウェハのオ
   リフラの掃過域に臨ませて設置された光電的検出手段と
   、同検出手段で得られた検出信号強度が極値をとる回転
   位置にウェハを停止させる手段を設けたことを特徴とす
   るウェハ設置装置。