JPS63119233A - Ｘ線転写装置 - Google Patents

Ｘ線転写装置

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JPS63119233A
JPS63119233A JP61263725A JP26372586A JPS63119233A JP S63119233 A JPS63119233 A JP S63119233A JP 61263725 A JP61263725 A JP 61263725A JP 26372586 A JP26372586 A JP 26372586A JP S63119233 A JPS63119233 A JP S63119233A
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JP
Japan
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heat exchanger
atmosphere chamber
heat
blower
optical system
Prior art date
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Pending
Application number
JP61263725A
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English (en)
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Minoru Ikeda
稔 池田
Ryuichi Funatsu
隆一 船津
Yukio Kenbo
行雄 見坊
Motoya Taniguchi
素也 谷口
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
    • G—PHYSICS
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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    • G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
    • G03F7/70875—Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
    • G—PHYSICS
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    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70933—Purge, e.g. exchanging fluid or gas to remove pollutants

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は軟Ｘ線を用いて微細なパターンを転写。
するＸ線転写装置に関するものである。
〔従来の技術〕
従来のＸ線転写装置は、特開昭５７−１６９２４２号に
。
記載し、第２図に示すように軟Ｘ線発生装置１のＸ。
線取出し窓側に、内部にＸ線を透過させる気体を収容し
た雰囲気チャンバ２を配置し、この雰囲気チャ。
ンバの、ＸＩＩＪ取出窓と対向する面に形成された穴を
。
覆うように、所要のパターンを形成したマスク３ζ。
取付け、雰囲気チャンバ外でマスクと対向するよう。
に保持したウェハ４を移動させるステージ５とを設け。
大気中にウェハを置いて露光する様にしている。。
雰囲気チャンバ２内にはマスク３のパターンと。
ウェハ４とを位置合せするための観察光学系６を、。
設けである。マスク交換時に混入する空気によるヘリウ
ムガス純度の低下を防止するために、雰囲気チャンバ内
に通常ヘリウムガスをボンベ７より供給し、ドレイン穴
８より排出しているが、流量は小なく、雰囲気チャンバ
内のガスは、はとんど流動しない。
雰囲気チャンバ内には観察光学系乙の照明光源。
テレビカメラ９、観察光学系位置決め装置１０、マスク
３の位置決め装置１１等の発熱部があり、また、軟Ｘ線
発生装置１のＸ線取出し窓１２からも熱が流入する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記従来技術は、雰囲気チャンバ内の光学系等より発生
する熱の冷却について配慮がされておらず光学系等に熱
変形を生じ、マスク３とウェハ４、。
との位置検出値のドリフト現象が発生し、位置合せ精度
が低下するという問題があり、熱による温度上昇が飽和
するまで、数時間のならし運転をした後でないと使用で
きなかった。
このため昼夜連続運転が必要となり、また使用条件の変
更時等にドリフトが再発することがあった。
本発明の目的は光学系等の温度上昇による位置検出値の
ドリフト現象を防止し、電源投入後短時間で高精度に使
用できるＸ線転写装置を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的は、雰囲気チャンバ内のヘリウムガス。
を送風器により熱交換器へ循環させて冷却するこ。
とにより達成される。　　　　　　　　　　　　　５〔
作用〕 光学系等より発生した熱は雰囲気ガスに伝わり、ガスの
温度を上昇させる。温度上昇したガスを送。
風儀により熱交換器に循環させ、一定温度にまで。
冷却して雰囲気チャンバに戻すので、光学系等よ、。
り発生した熱が雰囲気チャンバ内に溜まるのを防止でき
るので、光学系等の熱変形が短時間に飽和。
し、位置検出値のドリフトが止まって直ちに高精度に使
用できる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。軟Ｘ
線発生装置１．雰囲気チャンバ２の内部ステージ５等は
従来と同様である。
雰囲気チャンバ内のテレビカメラ９等の主たる発熱源の
近くに、内部のヘリウムガスを吸引排出・　３　・ するダクト１３を設け、フレキシブルダクト１４を。
仲介して送風器１５に接続し、熱交換器１６とフレ。
キシプルダクト１４を介して吹込ダクト１７にて雰。
囲気チャンバ２に戻す。熱交換器１６の出口温度。
をセンサ１８にて測定し、熱交換器の交換熱量を。
調整し、出口温度が一定になる様にする。
テレビカメラ９等の発熱部は断熱材を介して支。
持する様にし、熱が直接、他の光学系に伝わるの。
を防止する。
これにより発生した熱は周辺のヘリウムガスのＯ 温度を上昇させるが、そのガスを直ちに吸引排出ダクト
により吸出し熱交換器にて一定温度に冷却。
して戻すことができるので、熱が雰囲気チャンバ内に溜
まり、光学系の位置検出値のドリフト現象。
が長時間続くのを防止できる効果がある。また送已 風器゛等をフレキシブルダクトを仲介して接続している
ので、送風器の振動が光学系に伝わり、位置検出値のば
らつきを生じさせるのを防止できる。
なお、実施例では熱交換器を送風器Ｋ１１ｉｌ接して配
置したが、熱交換器は振動が小ないため、スペ・　４　
・ 一スがあれば、雰囲気チャンバに隣接して配置し、送風
器との間を７レキシプルダクトで接続しヤも。
よい。また、送風器と熱交換器を雰囲気チャンバ。
の内部に配置し、送風器を防振機構により支持し。
て光学系の振動を防止することもできる。
さらに、実施例では熱交換器の出口温度により。
交換熱量を調整したが、熱交換器の容量が充分大。
きいならば、熱交換器に一定温度の冷却水を供給。
するのみで出口温度を一定にできる。また熱交換。
器と温度センサの間にヒータを配し、温度センサにより
ヒータの加熱量を制御することにより戻り。
ガスの温度を一定にすることもできる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば観察光学系。
の位置検出値のドリフトを短時間で止めることができる
ので、昼夜連続運転が不要となり、条件変更時の安定が
速く、装置の稼働率が向上する等の経済的効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明による露光装置の縦断面図、第２図は従
来の露光装置の縦断面図である。　。 １・・・軟Ｘ線発生装置、２・・・雰囲気チャンバ、３
・・・。 マスク、４・・・ウェハ、６・・・観察光学系、１３・
・・吸引排出ダクト、１４・・・フレキシブルダクト、
１５・・・。 送風器、１６・・・熱交換器、１７・・・吹込ダクト。 代理人弁理士　小　　川　　勝　　男 ・　７　・ 兜　１１！１

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、軟Ｘ線を用いてマスクに形成されたパターンをウェ
    ハに転写するＸ線転写装置において、軟Ｘ線発生装置と
    、前記Ｘ線発生装置のＸ線取出し窓に接続され、内部に
    Ｘ線の透過率の高い気体を満たした雰囲気チャンバと前
    記雰囲気チヤンバに取付けられるマスクと、上記マスク
    に対向させて微小すきまを隔ててウェハを設置するステ
    ージと、前記雰囲気チャンバ内に設けられ、且マスクと
    ウェハの位置合せを行なう観察光学系と、熱交換器と送
    風器とを備え、前記雰囲気チャンバ内の気体を前記熱交
    換器に循環させることを特徴とするＸ線転写装置。 ２、送風器と雰囲気チャンバとをたわみ性ダクトにて接
    続したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のＸ
    線転写装置。
JP61263725A 1986-11-07 1986-11-07 Ｘ線転写装置 Pending JPS63119233A (ja)

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