JPS58191433A - Ｘ線転写方法および装置 - Google Patents

Ｘ線転写方法および装置

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Publication number
JPS58191433A
JPS58191433A JP57073474A JP7347482A JPS58191433A JP S58191433 A JPS58191433 A JP S58191433A JP 57073474 A JP57073474 A JP 57073474A JP 7347482 A JP7347482 A JP 7347482A JP S58191433 A JPS58191433 A JP S58191433A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
ray
roentgen
tank
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57073474A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Okabe
岡部　正博
Yasuo Furukawa
古川　泰男
Yushi Inagaki
雄史 稲垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP57073474A priority Critical patent/JPS58191433A/ja
Publication of JPS58191433A publication Critical patent/JPS58191433A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （１）　　ｆｉｇ分舒 公費明はＸ１１転写、特にＸ線吸収によるＸ＃マスクの
熱歪みおよび加熱による損傷を防止できるＸ線転写の方
法および装置に関する。
（２）技術の背景 ｘ１１転写Ｋ１１ｐいて、近年、高出力Ｘ線源、特にパ
ルスｘ＊ｇが使用されるようになった。その喪め＃！未
問題とならなかつ九、Ｘ線吸収によるマスクの発熱が自
然放熱のｌｌｌｆｔ超えるようになった。
（３）　　＊＊技衝と問題点 従来、Ｘ１ｌｊｌｌｌ射強覆は２ｉし’ｅｘｓ　・慣ｅ
ｃ　’１４１１テＴｏヤ、マスクに吸収される熱量は、
マスクからの旅熱量と平衡してい九ので、マスクの温度
上昇は問題にならなかつ九。これに対してパルスＸ線源
は２０　ｍｌ／Ｊ＠　１０　ｔｓ　ｌｅｅ　を放射し、
時間平均照射強廖は２０１ｍ１Ｊ／ａｌｌ・雷・Ｃと、
従来の１０倍に達し、マスクは温度上昇し、これに伴な
って、マスクに熱歪みおよび損傷を生ずる欠点がめった
。
（４）発明の１的 本発明の目的は、上記欠点ｔｓ消することでめる。
（５）発明の構成 本発明の上記目的は、Ｘ線によりＸ線マスクのパターン
管レジストに転写する方法であって、Ｘ線マスクにガス
を噴射してＸ線マスクの温度上昇を防止することを特徴
とするＸ１１転写方法によって達成することができる。
噴射するガスはヘリウ＾が好オしいが、空気または窒素
でもよい。
本発明の上記目的は、また、Ｘ線露光槽にガス循環管を
接続し、この循積管罠冷却儀および加圧＠を挿入し、か
つこの循環管の放出地がＸ線マスクに指向する噴射ノズ
ルを形成してなることｔ％黴とするＸａ転写装實によっ
て達成することができる。
冷却ガス噴射ノズルは１個に限らず、慶数個でもよく、
またマスクの照射面に指向してもよいが、裏面のつ菰−
ハ側から噴射させてもよい。
へ　空気または窒素ガスを冷却ガスとする場合は、露光
槽を設けずにレジストリきつ、−ハおよびＸ線マスクを
開放状態として、ガスを吹きつけることができる。
（６）実施例 １１１１１１ＫＭｔ！５Ｋ、Ｘ線板ｚ装置ｕ、Ｘ＊ａ＊
１を會む真空槽２から、ｘＩＩ取出し窓３Ｙｒ経て、露
光槽４内のＸ線マスタ５Ｙｔ通してウェーノＳ６よのレ
ジストＫｊｌ射する。マスク５およびつ、−ノ１６は、
それぞれマスク位置合わせ装置７およびつ、−ハステー
ジ畠上に支持されている。
本発明によって、露光槽４にカス循環管９を接続し、こ
れに冷却＠１０ｊｐよび加圧器１１ｉ挿入し、槽壁を貫
いてマスタＩｓＫ指向する噴射ノズル１２ｔｌＥ）つけ
て参る。露光槽４にはヘリウムを　　　　”充填し、ヘ
リウ＾を温璽口′ｃに冷却して、マスク１に向けて噴射
し九。このときＸ線はパルスｍ源１ａ用し、１回の照射
エネルギー強１ｆｔ２Ｑ慣Ｊ／ｅｘａ”１１０鴇ｓ＠ｅ
、パルス＠＊ｆ：　１　／ｓｅａとしたので、時鴎平均
照射強ｆは２０　ｍＪ／ａｍ２ａ　ｔｅａであった。露
受後に取出したＸ線マスク、特に吸収体管支持するメン
ブレンに歪みがなく、損傷も認められなかった。
（７）発−の効果 本発明によって、Ｘ＠マスクに冷却ガス會噴射すること
によりて、Ｘ線マスクに歪みおよび損傷管与えることな
く、つ、−ノ＼上のＶシストにマスクパターンを転写す
ることがで１！ｂ０
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の鋏雪の夷ｌｌｌｌＡｍ様の説明図であ
る。 １・・・・・・Ｘｌｓ源、　　２・・・・・・真空槽、
　　ト・・・・・ｘＩＩ取出し愈、　　４・・・・・・
露光槽、　　５・・・・・・Ｘ線マスク、６・・・・・
・つ、−ハ、　　７・・・・・・マスク位置合わせ装置
、６・・・・・・つ、−ハステージ、　９・・・・・・
ガス循環管、１０・・・・・・冷却器、　　１１・・・
・・・加圧器、　　１２・・・・・・噴射ノズル。 特許出願人 富士通株式会社 特許出願代理１人 弁理士　　青　　木　　　　　朗 弁理士　　西　舘　和　　之 弁理士　　内　　１）　幸　　男 弁理士　　山　　口　　紹　　之

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ｔ　　Ｘ＠によりＸ線マスクのパターンをレジストに＠
    写する方法であって、Ｘ線マスク（ガス【噴射してＸ線
    マスクの温度上昇を防止することを特徴とすゐＸ線転写
    方法。 １　噴射するガスがヘリウムである、特許請求の範囲第
    １項記載の方法。 ４　噴射するガスが空気または窒素でるる、特許請求の
    範１！ｌ＠１項記載の方法。 ｔ　　Ｘ＠露光檜にガス循環管を接続し、この循環管に
    冷却器および加圧器を挿入し、かつこの循環管の放出蟻
    がＸ線マスクに指向する噴射ノズルを形成してなること
    ｔ−特徴とするＸ線転写装置。
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