JPS6311794B2 - - Google Patents
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- JPS6311794B2 JPS6311794B2 JP55121909A JP12190980A JPS6311794B2 JP S6311794 B2 JPS6311794 B2 JP S6311794B2 JP 55121909 A JP55121909 A JP 55121909A JP 12190980 A JP12190980 A JP 12190980A JP S6311794 B2 JPS6311794 B2 JP S6311794B2
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- Japan
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- laser
- temperature
- cooling
- coolant
- optical
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 18
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 claims description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 8
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 18
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 14
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 14
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Lasers (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガスレーザ発振器に関するもので、光
学部品の結露による表面膜の損傷を防止し耐久性
を高めることを目的とする。第1図に一般的なレ
ーザ発振器の構成を示す。
学部品の結露による表面膜の損傷を防止し耐久性
を高めることを目的とする。第1図に一般的なレ
ーザ発振器の構成を示す。
図において1はレーザ管、2は全反射鏡、3は
レーザ光を取り出す窓で出力結合鏡と呼ばれてい
る。4はアノード電極、5はカソード電極、8は
高圧電源である。レーザガスはレーザガス導入口
6より供給され、レーザガス排気口7よりポンプ
で排気される。
レーザ光を取り出す窓で出力結合鏡と呼ばれてい
る。4はアノード電極、5はカソード電極、8は
高圧電源である。レーザガスはレーザガス導入口
6より供給され、レーザガス排気口7よりポンプ
で排気される。
共振器の冷却は、冷却液が冷却液供給系14よ
り供給され、冷却液排出系15より排出される。
21は全反射鏡2のホルダ兼冷却板であり液は全
反射鏡冷却液入口22より入り同出口23より出
る。31は出力結合鏡3のホルダ兼冷却板で液は
出力結合鏡冷却液入口32より入り出力結合鏡冷
却液出口33より出る。
り供給され、冷却液排出系15より排出される。
21は全反射鏡2のホルダ兼冷却板であり液は全
反射鏡冷却液入口22より入り同出口23より出
る。31は出力結合鏡3のホルダ兼冷却板で液は
出力結合鏡冷却液入口32より入り出力結合鏡冷
却液出口33より出る。
11はレーザ管の冷却管で液はレーザ管冷却液
入口12より入りレーザ管冷却液出口13より出
る。9はレーザ光線である。
入口12より入りレーザ管冷却液出口13より出
る。9はレーザ光線である。
このような従来の発振器においては、レーザ管
1を冷却する冷却液を同時に全反射鏡2、出力結
合鏡3等の光学部品の冷却を行つているため、レ
ーザ管冷却管11と光学部品の冷却部には同じ温
度の冷却液が流れており、高温多湿条件下で運転
される場合、光学部品表面に結露の発生がみられ
る。さらに詳しく説明するならば、一般に光学共
振器はレーザ管を冷却することにより、発振によ
つて加熱されたレーザガスの冷却を行なつている
が、冷却効果を高め出力の増大を計るために、冷
却液は固化しない範囲において低温に冷却され
る。この温度はレーザ発振器が使用される環境下
ではしばしば露点以下となりレーザ管及びその冷
却系統は結露により表面に水滴が発生する。その
ため必要な場所には表面に断熱テープを巻きつけ
る等の対策がなされるのが普通である。従来光学
部品の冷却もこの低温冷却液を第1図に示すごと
く直接使用していたためレーザ管と同様露点を越
え光学部品の表面に第2図300の如く結露する
ことがしばしば見られた。第2図はこの結露の状
態を説明するための出力結合鏡の詳細拡大図であ
る。
1を冷却する冷却液を同時に全反射鏡2、出力結
合鏡3等の光学部品の冷却を行つているため、レ
ーザ管冷却管11と光学部品の冷却部には同じ温
度の冷却液が流れており、高温多湿条件下で運転
される場合、光学部品表面に結露の発生がみられ
る。さらに詳しく説明するならば、一般に光学共
振器はレーザ管を冷却することにより、発振によ
つて加熱されたレーザガスの冷却を行なつている
が、冷却効果を高め出力の増大を計るために、冷
却液は固化しない範囲において低温に冷却され
る。この温度はレーザ発振器が使用される環境下
ではしばしば露点以下となりレーザ管及びその冷
却系統は結露により表面に水滴が発生する。その
ため必要な場所には表面に断熱テープを巻きつけ
る等の対策がなされるのが普通である。従来光学
部品の冷却もこの低温冷却液を第1図に示すごと
く直接使用していたためレーザ管と同様露点を越
え光学部品の表面に第2図300の如く結露する
ことがしばしば見られた。第2図はこの結露の状
態を説明するための出力結合鏡の詳細拡大図であ
る。
第1図と同部分には同一符号を付し説明を省略
する。図において出力結合鏡3の表面のレーザ管
1側には反射膜301が、反射側の直接大気と接
している面には反射防止膜302が設けられてい
る。
する。図において出力結合鏡3の表面のレーザ管
1側には反射膜301が、反射側の直接大気と接
している面には反射防止膜302が設けられてい
る。
冷却液が出力結合鏡冷却液入口32から同出口
33へ流れる時、出力結合鏡3の上記両側の膜3
01及び302上に結露300が発生する。この
結露は出力結合鏡3のように直接大気と接触して
いる外側の表面で主に発生するが、光学共振器内
のレーザガスに接触している面(内面)において
もしばしば起り得ることである。それはレーザガ
スが完全な乾燥ガスでなく水分を含み得ること
と、実際にレーザ発振器を運転する場合、光学共
振器内に大気を導入して放置したり、保守点検を
実施する場合も同様に光学部品の表面が大気に接
触することになり、露点以下の低温の冷却液によ
り冷却されるとたちまち外面と同様結露すること
になるからである。
33へ流れる時、出力結合鏡3の上記両側の膜3
01及び302上に結露300が発生する。この
結露は出力結合鏡3のように直接大気と接触して
いる外側の表面で主に発生するが、光学共振器内
のレーザガスに接触している面(内面)において
もしばしば起り得ることである。それはレーザガ
スが完全な乾燥ガスでなく水分を含み得ること
と、実際にレーザ発振器を運転する場合、光学共
振器内に大気を導入して放置したり、保守点検を
実施する場合も同様に光学部品の表面が大気に接
触することになり、露点以下の低温の冷却液によ
り冷却されるとたちまち外面と同様結露すること
になるからである。
このように一般にレーザ光学部品の表面は、全
反射鏡ではそのレーザ光に対して非常に高い反射
率(例えば99%以上)を、出力結合鏡ではその共
振器の構成により決定される所定の反射率(例え
ば50%)を維持するために光学研磨を施した後に
反射膜を蒸着等により形成し、必要な場合にはそ
の表面に更に保護膜を形成させている。しかるに
これら光学部品の反射膜、保護膜上に前記のごと
く水滴が発生した場合、このままの状態でレーザ
発振を行わせしめると水滴が光のエネルギーの一
部を吸収し爆発的に気化し局所的に急激な温度上
昇をきたし表面膜のみならず母材迄も破損してし
まうという欠点があつた。
反射鏡ではそのレーザ光に対して非常に高い反射
率(例えば99%以上)を、出力結合鏡ではその共
振器の構成により決定される所定の反射率(例え
ば50%)を維持するために光学研磨を施した後に
反射膜を蒸着等により形成し、必要な場合にはそ
の表面に更に保護膜を形成させている。しかるに
これら光学部品の反射膜、保護膜上に前記のごと
く水滴が発生した場合、このままの状態でレーザ
発振を行わせしめると水滴が光のエネルギーの一
部を吸収し爆発的に気化し局所的に急激な温度上
昇をきたし表面膜のみならず母材迄も破損してし
まうという欠点があつた。
また光学共振器内はレーザ発振前に排気ポンプ
で空気が排気され、レーザガスが導入されるが表
面の水滴を完全に除去するためには長い予備排気
時間がかかるので速かな発振が得られない欠点も
あつた。
で空気が排気され、レーザガスが導入されるが表
面の水滴を完全に除去するためには長い予備排気
時間がかかるので速かな発振が得られない欠点も
あつた。
本発明はこのような従来の欠点を解消し、光学
部品の結露の発生を防止し長寿命化をはかつたレ
ーザ発振器を提供することを目的とするものであ
る。
部品の結露の発生を防止し長寿命化をはかつたレ
ーザ発振器を提供することを目的とするものであ
る。
第3図に本発明の一実施例のレーザ発振器の構
成を示す。冷却液の循環系統は光学部品冷却系1
41と、それ以外の冷却系統142とに分離され
る。光学部品系統の発熱量はそれ以外の部分(主
にレーザ管)での発熱量に比較して少ない(約1/
20)ので大部分の冷却液は低温のまゝ光学部品以
外の系統を流れることになる。
成を示す。冷却液の循環系統は光学部品冷却系1
41と、それ以外の冷却系統142とに分離され
る。光学部品系統の発熱量はそれ以外の部分(主
にレーザ管)での発熱量に比較して少ない(約1/
20)ので大部分の冷却液は低温のまゝ光学部品以
外の系統を流れることになる。
光学部品冷却系統に流れ込んだ冷却液141
は、その時の環境条件に合せて必ず露点より高い
温度に制御されて光学部品冷却板21,31へ同
入口22及び32から導入されるので光学部品が
結露することはない。冷却液の温度制御はオーブ
ン24で行われるが、冷却液入口141の温度は
露点以下である場合が多いのでオーブン24では
主に冷却液の温度を高める方向に制御する。液温
はオーブン24の出口と光学部品冷却板21,3
1の間に設けられた温湿度センサにて検出された
値から温度制御器26にて露点を越える安全な温
度が決定され、ヒータ25の温度が決定、制御さ
れる。温湿度センサー27は温度計のみ、あるい
は湿度計のみ、もしくはこれらを併用して発振器
が使用される環境下で使用期間を通じて結露しな
い安全な温度、あるいは湿度を予め設定しておき
それを基準として液温を制御してもよい。
は、その時の環境条件に合せて必ず露点より高い
温度に制御されて光学部品冷却板21,31へ同
入口22及び32から導入されるので光学部品が
結露することはない。冷却液の温度制御はオーブ
ン24で行われるが、冷却液入口141の温度は
露点以下である場合が多いのでオーブン24では
主に冷却液の温度を高める方向に制御する。液温
はオーブン24の出口と光学部品冷却板21,3
1の間に設けられた温湿度センサにて検出された
値から温度制御器26にて露点を越える安全な温
度が決定され、ヒータ25の温度が決定、制御さ
れる。温湿度センサー27は温度計のみ、あるい
は湿度計のみ、もしくはこれらを併用して発振器
が使用される環境下で使用期間を通じて結露しな
い安全な温度、あるいは湿度を予め設定しておき
それを基準として液温を制御してもよい。
29は操作盤であるが、ここに設けられたスイ
ツチを入れることにより、信号伝送路28を通じ
て温度制御器26が作動しオーブン24で温めら
れた冷却液が光学部品冷却系に流れるので光学部
品表面に結露することがない。
ツチを入れることにより、信号伝送路28を通じ
て温度制御器26が作動しオーブン24で温めら
れた冷却液が光学部品冷却系に流れるので光学部
品表面に結露することがない。
また主スイツチを入れた後発振迄に排気、レー
ザガス導入等の準備工程があるが、この発振準備
中に、運転開始以前から発生していた水滴があつ
たとしてもこの水滴も消去させることができる。
温度制御器26は必らずしもレーザ発振器の主ス
イツチと連動していなくても良い。特に高温多湿
地帯では運転停止中も結露防止策が必要であるの
で、温度制御器26を単独で動作できるように
し、かつ光学部品以外の系統は開閉バルブ143
を閉じ、さらに光学部品系統の流量も絞りバルブ
144により微量に減少させるごとく構成するこ
とにより、節液、節電もはかれる。
ザガス導入等の準備工程があるが、この発振準備
中に、運転開始以前から発生していた水滴があつ
たとしてもこの水滴も消去させることができる。
温度制御器26は必らずしもレーザ発振器の主ス
イツチと連動していなくても良い。特に高温多湿
地帯では運転停止中も結露防止策が必要であるの
で、温度制御器26を単独で動作できるように
し、かつ光学部品以外の系統は開閉バルブ143
を閉じ、さらに光学部品系統の流量も絞りバルブ
144により微量に減少させるごとく構成するこ
とにより、節液、節電もはかれる。
以上のように本発明は液冷型レーザ発振器にお
いて、光学部品の冷却系統と、それ以外の系統を
分離し、冷却液の温度を光学部品系統のみ露点よ
り高い温度に制御することによりレーザ出力を下
げずに光学部品の表面を水滴の付着による劣化か
ら防ぐことを可能にしたもので以下の特徴があ
る。
いて、光学部品の冷却系統と、それ以外の系統を
分離し、冷却液の温度を光学部品系統のみ露点よ
り高い温度に制御することによりレーザ出力を下
げずに光学部品の表面を水滴の付着による劣化か
ら防ぐことを可能にしたもので以下の特徴があ
る。
(1) 冷却系統が光学部品系統とそれ以外の系統と
に分離されているので、光学部品を結露から守
りながら高いレーザ出力を得ることができる。
に分離されているので、光学部品を結露から守
りながら高いレーザ出力を得ることができる。
(2) 運転停止中も適温に維持された少量の冷却液
を流すことができるので光学部品耐久性を一層
高めることができる。また絞り弁により微量の
冷却液を流すので節液(ポンプを使用する循環
式では節電)ができる。
を流すことができるので光学部品耐久性を一層
高めることができる。また絞り弁により微量の
冷却液を流すので節液(ポンプを使用する循環
式では節電)ができる。
(3) 結露がないため発振開始時から安定したレー
ザ出力が得られる。
ザ出力が得られる。
第1図は従来のレーザ発振器の一般的構成を示
す図、第2図は従来のレーザ発振器の出力結合鍔
部の拡大図、第3図は本発明の一実施例における
レーザ発振器の構成図である。 1……レーザ管、2……全反射鏡、3……出力
結合鏡、4……アノード電極、5……カソード電
極、6……レーザガス導入口、7……レーザガス
排気口、8……高圧電源、9……レーザ光、11
……レーザ管冷却管、12……冷却液入口、13
……冷却液出口、14……冷却液供給系、15…
…冷却液排出系、21……全反射鏡ホルダ兼冷却
板、22……冷却液入口、23……冷却液出口、
24……オーブン、25……ヒータ、26……温
度制御器、27……温湿度センサ、29……操作
盤、28……信号伝送路。
す図、第2図は従来のレーザ発振器の出力結合鍔
部の拡大図、第3図は本発明の一実施例における
レーザ発振器の構成図である。 1……レーザ管、2……全反射鏡、3……出力
結合鏡、4……アノード電極、5……カソード電
極、6……レーザガス導入口、7……レーザガス
排気口、8……高圧電源、9……レーザ光、11
……レーザ管冷却管、12……冷却液入口、13
……冷却液出口、14……冷却液供給系、15…
…冷却液排出系、21……全反射鏡ホルダ兼冷却
板、22……冷却液入口、23……冷却液出口、
24……オーブン、25……ヒータ、26……温
度制御器、27……温湿度センサ、29……操作
盤、28……信号伝送路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 両端に光学部品を備えたレーザ管と、前記レ
ーザ管の周囲に冷却液を供給するレーザ管冷却手
段と、前記光学部品の周囲または近辺に冷却液を
供給する光学部品冷却手段と、前記光学部品冷却
手段に供給する冷却液の液温を制御する手段とを
具備したことを特徴とするレーザ発振器。 2 液温を制御する手段が温度、湿度の一方また
は両方を検知するセンサと、このセンサにより制
御される熱交換器である特許請求の範囲第1項記
載のレーザ発振器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12190980A JPS5745988A (en) | 1980-09-02 | 1980-09-02 | Laser oscillator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12190980A JPS5745988A (en) | 1980-09-02 | 1980-09-02 | Laser oscillator |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5745988A JPS5745988A (en) | 1982-03-16 |
JPS6311794B2 true JPS6311794B2 (ja) | 1988-03-16 |
Family
ID=14822901
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12190980A Granted JPS5745988A (en) | 1980-09-02 | 1980-09-02 | Laser oscillator |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5745988A (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59168685A (ja) * | 1983-03-14 | 1984-09-22 | Derufuai:Kk | 水冷型レ−ザ反射鏡 |
JPS61263U (ja) * | 1984-06-06 | 1986-01-06 | 日本電気株式会社 | レ−ザ装置 |
JPS6138461U (ja) * | 1984-08-14 | 1986-03-11 | 株式会社ボッシュオートモーティブ システム | 蒸発圧力制御弁 |
JPH0797667B2 (ja) * | 1988-03-14 | 1995-10-18 | 三菱電機株式会社 | レーザ発振器用冷却装置 |
JP6267164B2 (ja) * | 2015-08-24 | 2018-01-24 | ファナック株式会社 | 保守作業用の温度管理機能を有するレーザ装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5524475A (en) * | 1978-08-10 | 1980-02-21 | Mitsubishi Electric Corp | Laser oscillator |
JPS5524476A (en) * | 1978-08-10 | 1980-02-21 | Mitsubishi Electric Corp | Laser oscillator |
-
1980
- 1980-09-02 JP JP12190980A patent/JPS5745988A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5524475A (en) * | 1978-08-10 | 1980-02-21 | Mitsubishi Electric Corp | Laser oscillator |
JPS5524476A (en) * | 1978-08-10 | 1980-02-21 | Mitsubishi Electric Corp | Laser oscillator |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5745988A (en) | 1982-03-16 |
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