JPH07227688A - ガスレ−ザ加工機 - Google Patents
ガスレ−ザ加工機Info
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- JPH07227688A JPH07227688A JP6047696A JP4769694A JPH07227688A JP H07227688 A JPH07227688 A JP H07227688A JP 6047696 A JP6047696 A JP 6047696A JP 4769694 A JP4769694 A JP 4769694A JP H07227688 A JPH07227688 A JP H07227688A
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- cooling
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 冷却水循環装置を複雑で高価にすることな
く、また、外部光学部品に結露の発生がなく一定の温度
で冷却する、歪の無い信頼性の高いガスレーザ加工機を
提供する。 【構成】 ガスレーザ発振器から出射されたレーザ光
を、外部光学部品を介して伝送し、最終段に設けた集光
装置で集光してワークに照射し、所定の加工を行うガス
レーザ加工機に適用される。その特徴は、外部光学部品
を冷却する冷却水は、ブロアを冷却した後にその冷却
水、または、ブロアの圧縮熱によって温度上昇したガス
の熱を除去するための熱交換器を冷却した後にその冷却
水によって冷却するガスレーザ加工機。及びブロアまた
は熱交換器の冷却水流量を調節することによって、外部
光学部品を冷却する冷却水温度を変えるガスレーザ加工
機。
く、また、外部光学部品に結露の発生がなく一定の温度
で冷却する、歪の無い信頼性の高いガスレーザ加工機を
提供する。 【構成】 ガスレーザ発振器から出射されたレーザ光
を、外部光学部品を介して伝送し、最終段に設けた集光
装置で集光してワークに照射し、所定の加工を行うガス
レーザ加工機に適用される。その特徴は、外部光学部品
を冷却する冷却水は、ブロアを冷却した後にその冷却
水、または、ブロアの圧縮熱によって温度上昇したガス
の熱を除去するための熱交換器を冷却した後にその冷却
水によって冷却するガスレーザ加工機。及びブロアまた
は熱交換器の冷却水流量を調節することによって、外部
光学部品を冷却する冷却水温度を変えるガスレーザ加工
機。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガスレーザ加工機の外
部光学部品の冷却に関するものである。
部光学部品の冷却に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ガスレーザ加工機は、ガスレーザ発振器
１から発振したレーザ光を外部の光学部品で反射してト
ーチ３４へ導き、集光レンズ３３によってレーザ光を集
光し、ワーク３７に照射して切断、溶接等を行う装置で
ある。図１は、従来のガスレーザ加工機の構成図であ
る。
１から発振したレーザ光を外部の光学部品で反射してト
ーチ３４へ導き、集光レンズ３３によってレーザ光を集
光し、ワーク３７に照射して切断、溶接等を行う装置で
ある。図１は、従来のガスレーザ加工機の構成図であ
る。
【０００３】同図において、１はガスレーザ発振器であ
って、２は放電管である。この放電管２の両端には、全
反射鏡３及び部分反射鏡４が設けられている。放電管２
内には、陽極５及び陰極６（以下、放電電極という）が
設けられ、直流高圧電源７に連結されている。８はレー
ザガスを循環させるためのブロア、９ａはブロア８の圧
縮熱によって温度上昇したレーザガスの熱を除去するた
めの第１の熱交換器、９ｂは放電によって温度上昇した
レーザガスの熱を除去するための第２の熱交換器であ
る。放電管２にはレーザガス循環用の配管（往路）１０
ａ及びレーザガス循環用の配管（復路）１０ｂの一端が
接続されており、他端は第１の熱交換器９ａ及び第２の
熱交換器９ｂに各々接続されている。
って、２は放電管である。この放電管２の両端には、全
反射鏡３及び部分反射鏡４が設けられている。放電管２
内には、陽極５及び陰極６（以下、放電電極という）が
設けられ、直流高圧電源７に連結されている。８はレー
ザガスを循環させるためのブロア、９ａはブロア８の圧
縮熱によって温度上昇したレーザガスの熱を除去するた
めの第１の熱交換器、９ｂは放電によって温度上昇した
レーザガスの熱を除去するための第２の熱交換器であ
る。放電管２にはレーザガス循環用の配管（往路）１０
ａ及びレーザガス循環用の配管（復路）１０ｂの一端が
接続されており、他端は第１の熱交換器９ａ及び第２の
熱交換器９ｂに各々接続されている。
【０００４】３０はレーザ発振器１から出射されたレー
ザ光を反射し、トーチ３４まで導くための外部ミラー、
３１は外部ミラーを保持するためのミラーカバー、３２
は外部ミラー３０及びミラーカバー３１を保持するミラ
ーブロック、３３はレーザ光を集光するための集光レン
ズ、３４は内部に集光レンズ３３を保持し、ワーク３７
を加工するためのトーチ、３５及び３６はレーザ発振器
１とミラーブロック３２及びミラーブロック３２とトー
チ３４との間のレーザ光の光路を保護するための第１の
保護パイプ及び第２の保護パイプである。
ザ光を反射し、トーチ３４まで導くための外部ミラー、
３１は外部ミラーを保持するためのミラーカバー、３２
は外部ミラー３０及びミラーカバー３１を保持するミラ
ーブロック、３３はレーザ光を集光するための集光レン
ズ、３４は内部に集光レンズ３３を保持し、ワーク３７
を加工するためのトーチ、３５及び３６はレーザ発振器
１とミラーブロック３２及びミラーブロック３２とトー
チ３４との間のレーザ光の光路を保護するための第１の
保護パイプ及び第２の保護パイプである。
【０００５】２０は冷却水を一定の温度、例えば２０℃
にコントロールし、一定流量を圧送する冷却水循環装置
である。２１ａ乃至２１ｄ及び２２ａ乃至２２ｄは、一
端が冷却水循環装置２０に接続され、他端がブロア８及
び第１の熱交換器９ａ及び第２の熱交換器９ｂに各々接
続された冷却水配管である。２３ａ乃至２３ｃは外部ミ
ラー３０及び集光レンズ３３（以下、外部光学部品とい
う）を冷却するための冷却水を流す冷却水配管であり、
ガスレーザ発振器１を冷却するための冷却水配管２１ａ
から分岐されており、外部光学部品及び冷却水配管２２
ａに接続されている。
にコントロールし、一定流量を圧送する冷却水循環装置
である。２１ａ乃至２１ｄ及び２２ａ乃至２２ｄは、一
端が冷却水循環装置２０に接続され、他端がブロア８及
び第１の熱交換器９ａ及び第２の熱交換器９ｂに各々接
続された冷却水配管である。２３ａ乃至２３ｃは外部ミ
ラー３０及び集光レンズ３３（以下、外部光学部品とい
う）を冷却するための冷却水を流す冷却水配管であり、
ガスレーザ発振器１を冷却するための冷却水配管２１ａ
から分岐されており、外部光学部品及び冷却水配管２２
ａに接続されている。
【０００６】図１の装置において、運転開始時には図示
していない真空ポンプを駆動すると、放電管２、ブロア
８、第１の熱交換器９ａ、第２の熱交換器９ｂ及びレー
ザガス循環用の配管（往路）１０ａ、レーザガス循環用
の配管（復路）１０ｂ内が排気されて、次第に圧力が低
下する。このときの圧力が所定の値まで低下した後に、
図示していないガス供給源よりＣＯ2 、Ｎ2 、Ｈｅ等の
混合ガスを供給する。
していない真空ポンプを駆動すると、放電管２、ブロア
８、第１の熱交換器９ａ、第２の熱交換器９ｂ及びレー
ザガス循環用の配管（往路）１０ａ、レーザガス循環用
の配管（復路）１０ｂ内が排気されて、次第に圧力が低
下する。このときの圧力が所定の値まで低下した後に、
図示していないガス供給源よりＣＯ2 、Ｎ2 、Ｈｅ等の
混合ガスを供給する。
【０００７】次に冷却水循環装置２０を駆動し、一定温
度、一定流量の冷却水がガスレーザ発振器１、外部ミラ
ー３０及び集光レンズ３３に各々供給される。供給され
ると同時にブロア８を駆動させてガスを矢印の方向に循
環させると、圧力は次第に高くなって、所定の値に到達
した後一定に保たれる。この時、ブロア８の前後の圧力
は一定している。すなわち、ブロア８は、一定のレーザ
ガスを圧縮する仕事を行っている。このためにブロア８
の発熱は一定し、その結果冷却水配管２１ｃから供給さ
れた冷却水は一定の熱量をブロア８から除去する。この
ために、ブロア８の冷却水配管２２ｃ内の冷却水温度
は、冷却水配管２１ａ内の冷却水温度よりもブロア８か
ら一定熱量を除去した分だけ高く、かつ一定の温度に保
たれている。また、第１の熱交換器９ａに入るレーザガ
スの温度も一定であるので、除去される熱量も一定であ
り、第１の熱交換器９ａの配管２２ｂ内の冷却水温度も
同様に配管２１ａ内の冷却水温度よりも高く、かつ、一
定の温度に保たれている。
度、一定流量の冷却水がガスレーザ発振器１、外部ミラ
ー３０及び集光レンズ３３に各々供給される。供給され
ると同時にブロア８を駆動させてガスを矢印の方向に循
環させると、圧力は次第に高くなって、所定の値に到達
した後一定に保たれる。この時、ブロア８の前後の圧力
は一定している。すなわち、ブロア８は、一定のレーザ
ガスを圧縮する仕事を行っている。このためにブロア８
の発熱は一定し、その結果冷却水配管２１ｃから供給さ
れた冷却水は一定の熱量をブロア８から除去する。この
ために、ブロア８の冷却水配管２２ｃ内の冷却水温度
は、冷却水配管２１ａ内の冷却水温度よりもブロア８か
ら一定熱量を除去した分だけ高く、かつ一定の温度に保
たれている。また、第１の熱交換器９ａに入るレーザガ
スの温度も一定であるので、除去される熱量も一定であ
り、第１の熱交換器９ａの配管２２ｂ内の冷却水温度も
同様に配管２１ａ内の冷却水温度よりも高く、かつ、一
定の温度に保たれている。
【０００８】次に放電電極５と６との間に直流高圧電源
７によって高電圧を印加してグロー放電を発生させて、
レーザ光が部分反射鏡４から出射される。この出射した
レーザ光が外部ミラー３０によってトーチ３４に導か
れ、ワーク３７を加工する。このとき放電電極間に印加
される電力は任意に調整するために、第２の熱交換器９
ｂに入ってくるレーザガスの温度が変化する。従って、
除去される熱量が変化し、冷却水配管２２ｄの冷却水温
度は変化する。以上のように冷却水循環装置２０が駆動
されると、外部ミラー３０及び集光レンズ３３には外部
光学部品を冷却するための冷却水配管２３ａ乃至２３ｃ
を通して冷却水が流れる。
７によって高電圧を印加してグロー放電を発生させて、
レーザ光が部分反射鏡４から出射される。この出射した
レーザ光が外部ミラー３０によってトーチ３４に導か
れ、ワーク３７を加工する。このとき放電電極間に印加
される電力は任意に調整するために、第２の熱交換器９
ｂに入ってくるレーザガスの温度が変化する。従って、
除去される熱量が変化し、冷却水配管２２ｄの冷却水温
度は変化する。以上のように冷却水循環装置２０が駆動
されると、外部ミラー３０及び集光レンズ３３には外部
光学部品を冷却するための冷却水配管２３ａ乃至２３ｃ
を通して冷却水が流れる。
【０００９】図２は他の従来のガスレーザ加工機の構成
図である。外部ミラー３０及び集光レンズ３３を冷却す
る冷却水配管２３ａの途中に電磁弁４０が接続されてい
る。放電電極５と６との間に高電圧が印加されたとき、
すなわちガスレーザ発振器１の発振と同時に電磁弁４０
が開き、冷却水が流れて冷却を行う。図２における他の
構成部品は図１と同様なので説明を省略する。
図である。外部ミラー３０及び集光レンズ３３を冷却す
る冷却水配管２３ａの途中に電磁弁４０が接続されてい
る。放電電極５と６との間に高電圧が印加されたとき、
すなわちガスレーザ発振器１の発振と同時に電磁弁４０
が開き、冷却水が流れて冷却を行う。図２における他の
構成部品は図１と同様なので説明を省略する。
【００１０】図３は他の従来のガスレーザ加工機の構成
図である。ガスレーザ発振器１の冷却用と外部光学部品
の冷却用と２系統の冷却水を供給する冷却水循環装置を
備えている。なお、ガスレーザ発振器１の内部の構成は
図１と同様なので省略する。他の同じ構成部品にも同じ
符号を付して説明を省略する。
図である。ガスレーザ発振器１の冷却用と外部光学部品
の冷却用と２系統の冷却水を供給する冷却水循環装置を
備えている。なお、ガスレーザ発振器１の内部の構成は
図１と同様なので省略する。他の同じ構成部品にも同じ
符号を付して説明を省略する。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】図１のガスレーザ加工
機において、たとえば２０℃に設定された冷却水がガス
レーザ発振器１に流れると外部ミラー３０、集光レンズ
３３等にも流れる。このために、外部ミラー３０、集光
レンズ３３等は一定の温度で冷却されるため、歪を生じ
ることはないが、周囲環境が高温多湿時には過冷却され
て、外部ミラー３０の表面に結露が生じる。この状態で
レーザ光が外部ミラー３０に照射されると結露によりレ
ーザ光の吸収が多くなって、外部ミラー３０の破損が生
じる。逆に、冷却水の設定温度を上げると外部ミラー３
０は結露を生じないが、ガスレーザ発振器１の冷却が不
十分となる。
機において、たとえば２０℃に設定された冷却水がガス
レーザ発振器１に流れると外部ミラー３０、集光レンズ
３３等にも流れる。このために、外部ミラー３０、集光
レンズ３３等は一定の温度で冷却されるため、歪を生じ
ることはないが、周囲環境が高温多湿時には過冷却され
て、外部ミラー３０の表面に結露が生じる。この状態で
レーザ光が外部ミラー３０に照射されると結露によりレ
ーザ光の吸収が多くなって、外部ミラー３０の破損が生
じる。逆に、冷却水の設定温度を上げると外部ミラー３
０は結露を生じないが、ガスレーザ発振器１の冷却が不
十分となる。
【００１２】図２のガスレーザ加工機において、レーザ
光が外部へ出射するときに電磁弁４０が開き外部ミラー
３０、集光レンズ３３等へ冷却水が流れる。しかし、冷
却水温度は図１の場合と同様に低いためにレーザ出力が
低い場合には、外部ミラー３０が過冷却されて結露が生
じる。また、電磁弁４０及びそれに伴う配線が必要とな
り、装置が複雑になる。
光が外部へ出射するときに電磁弁４０が開き外部ミラー
３０、集光レンズ３３等へ冷却水が流れる。しかし、冷
却水温度は図１の場合と同様に低いためにレーザ出力が
低い場合には、外部ミラー３０が過冷却されて結露が生
じる。また、電磁弁４０及びそれに伴う配線が必要とな
り、装置が複雑になる。
【００１３】図３のガスレーザ加工機においては、ガス
レーザ発振器１を冷却するための冷却水温度を低く設定
し、また、外部光学部品を冷却するための冷却水温度を
高く設定することにより、ガスレーザ発振器１の冷却を
十分行い、かつ外部光学部品は結露を生じないが、冷却
水の温度コントロール装置及び、冷却水圧送ポンプが２
系統必要となるために、冷却水循環装置２０の配管が複
雑で高価になる。
レーザ発振器１を冷却するための冷却水温度を低く設定
し、また、外部光学部品を冷却するための冷却水温度を
高く設定することにより、ガスレーザ発振器１の冷却を
十分行い、かつ外部光学部品は結露を生じないが、冷却
水の温度コントロール装置及び、冷却水圧送ポンプが２
系統必要となるために、冷却水循環装置２０の配管が複
雑で高価になる。
【００１４】本発明の目的は、冷却水循環装置２０を複
雑で高価にすることなく、外部光学部品に結露の発生が
なくて歪の生じない信頼性の高いガスレーザ加工機を提
供することである。
雑で高価にすることなく、外部光学部品に結露の発生が
なくて歪の生じない信頼性の高いガスレーザ加工機を提
供することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガスレーザ発
振器１から出射したレーザ光が、外部光学部品を介して
ワーク３７に照射し、所定の加工を行うガスレーザ加工
機に適用される。
振器１から出射したレーザ光が、外部光学部品を介して
ワーク３７に照射し、所定の加工を行うガスレーザ加工
機に適用される。
【００１６】請求項１に記載したガスレーザ加工機の特
徴は、外部光学部品を冷却する冷却水は図４の構成図に
示すように、ブロア８を冷却した後にその冷却水を用い
て冷却するガスレーザ加工機である。
徴は、外部光学部品を冷却する冷却水は図４の構成図に
示すように、ブロア８を冷却した後にその冷却水を用い
て冷却するガスレーザ加工機である。
【００１７】請求項２に記載したガスレーザ加工機の特
徴は、外部光学部品を冷却する冷却水は図５の構成図に
示すように、ブロア８の圧縮熱によって温度上昇したレ
ーザガスの熱を除去するための第１の熱交換器９ａを冷
却した後にその冷却水を用いて冷却するガスレーザ加工
機である。
徴は、外部光学部品を冷却する冷却水は図５の構成図に
示すように、ブロア８の圧縮熱によって温度上昇したレ
ーザガスの熱を除去するための第１の熱交換器９ａを冷
却した後にその冷却水を用いて冷却するガスレーザ加工
機である。
【００１８】請求項３に記載したガスレーザ加工機の特
徴は、図６の構成図に示すように、前述したブロア８又
は第１の熱交換器９ａの冷却水流量を調節することによ
って、外部光学部品を冷却する冷却水温度を変えるガス
レーザ加工機である。
徴は、図６の構成図に示すように、前述したブロア８又
は第１の熱交換器９ａの冷却水流量を調節することによ
って、外部光学部品を冷却する冷却水温度を変えるガス
レーザ加工機である。
【００１９】
【実施例１】図４は、請求項１のガスレーザ加工機を実
施する構成図であり図１に相当する図である。なお図１
と同じ構成部品には、同じ符号を付してある。図４にお
いて、外部光学部品を冷却するための冷却水を流す冷却
水配管２３０ａは、ブロア８を冷却した後にその冷却水
配管２２ｃにおいて分岐され外部光学部品及び冷却水配
管２２ａに接続されている。ガスレーザ発振器の稼働
は、従来技術と同様であり、図示していない真空ポンプ
によって放電管２、レーザガス循環用の配管（往路）１
０ａ、レーザガス循環用の配管（復路）１０ｂ等の内部
を排気後レーザガスを供給してブロア８によってレーザ
ガスを循環させる。同時に、冷却水循環装置２０から冷
却水が供給されてガスレーザ発振器１の内部のブロア
８、第１の熱交換器９ａ、第２の熱交換器９ｂ等を冷却
すると共に、外部ミラー３０及び集光レンズ３３を冷却
する。冷却した後、放電電極５と６との間に直流高圧電
源７によって高電圧を印加して、グロー放電を発生させ
る。
施する構成図であり図１に相当する図である。なお図１
と同じ構成部品には、同じ符号を付してある。図４にお
いて、外部光学部品を冷却するための冷却水を流す冷却
水配管２３０ａは、ブロア８を冷却した後にその冷却水
配管２２ｃにおいて分岐され外部光学部品及び冷却水配
管２２ａに接続されている。ガスレーザ発振器の稼働
は、従来技術と同様であり、図示していない真空ポンプ
によって放電管２、レーザガス循環用の配管（往路）１
０ａ、レーザガス循環用の配管（復路）１０ｂ等の内部
を排気後レーザガスを供給してブロア８によってレーザ
ガスを循環させる。同時に、冷却水循環装置２０から冷
却水が供給されてガスレーザ発振器１の内部のブロア
８、第１の熱交換器９ａ、第２の熱交換器９ｂ等を冷却
すると共に、外部ミラー３０及び集光レンズ３３を冷却
する。冷却した後、放電電極５と６との間に直流高圧電
源７によって高電圧を印加して、グロー放電を発生させ
る。
【００２０】ガスレーザ発振器１が定常の運転を行って
いる場合には、ブロア８の前後の圧力は一定している。
すなわちブロア８は一定のレーザ媒質を圧縮する仕事を
行っている。このために、ブロア８の発熱量は一定し、
その結果、冷却水配管２１ｃから供給された冷却水は、
一定の熱量をブロア８から除去する。このために、冷却
水配管２２ｃ内の冷却水温度は冷却水配管２１ａ内の冷
却水温度よりも高く、かつ一定の温度に保たれている。
外部ミラー３０及び集光レンズ３３は、冷却水配管２２
ｃから分岐された冷却水配管２３０ａを通る冷却水によ
って冷却されているために、電磁弁４０及びそれに伴う
配線を設けた装置、冷却水の温度コントロール装置等の
特別な装置を必要とすることなく冷却水温度が高く、か
つ温度が一定の冷却水を供給することができる。従っ
て、外部光学部品に結露が生じることなく、歪も生じな
い。
いる場合には、ブロア８の前後の圧力は一定している。
すなわちブロア８は一定のレーザ媒質を圧縮する仕事を
行っている。このために、ブロア８の発熱量は一定し、
その結果、冷却水配管２１ｃから供給された冷却水は、
一定の熱量をブロア８から除去する。このために、冷却
水配管２２ｃ内の冷却水温度は冷却水配管２１ａ内の冷
却水温度よりも高く、かつ一定の温度に保たれている。
外部ミラー３０及び集光レンズ３３は、冷却水配管２２
ｃから分岐された冷却水配管２３０ａを通る冷却水によ
って冷却されているために、電磁弁４０及びそれに伴う
配線を設けた装置、冷却水の温度コントロール装置等の
特別な装置を必要とすることなく冷却水温度が高く、か
つ温度が一定の冷却水を供給することができる。従っ
て、外部光学部品に結露が生じることなく、歪も生じな
い。
【００２１】
【実施例２】図５は、請求項２のガスレーザ加工機を実
施する構成図である。なお図４と同じ構成部品には同じ
符号を付して説明を省略する。外部光学部品を冷却する
ための冷却水を流す冷却水配管２３１ａ乃至２３１ｃ
は、ブロア８の圧縮熱によって温度上昇したレーザガス
の熱を除去するための第１の熱交換器９ａを冷却した後
にその冷却水配管２２ｂから分岐され外部光学部品を通
じて冷却水配管２２ａに接続されている。
施する構成図である。なお図４と同じ構成部品には同じ
符号を付して説明を省略する。外部光学部品を冷却する
ための冷却水を流す冷却水配管２３１ａ乃至２３１ｃ
は、ブロア８の圧縮熱によって温度上昇したレーザガス
の熱を除去するための第１の熱交換器９ａを冷却した後
にその冷却水配管２２ｂから分岐され外部光学部品を通
じて冷却水配管２２ａに接続されている。
【００２２】ガスレーザ発振器１が定常の運転を行って
いる場合には、実施例１と同様にブロア８においてレー
ザガスは一定の熱量を与えられ、第１の熱交換器９ａで
の除去熱量も一定している。その結果、冷却水配管２２
ｂ内の冷却水温度は、冷却水配管２１ａ内の冷却水温度
よりも高く、かつ一定の温度に保たれている。すなわ
ち、冷却水配管２３１ａは、冷却水配管２２ｂから分岐
しても図４と同様の効果が得られる。
いる場合には、実施例１と同様にブロア８においてレー
ザガスは一定の熱量を与えられ、第１の熱交換器９ａで
の除去熱量も一定している。その結果、冷却水配管２２
ｂ内の冷却水温度は、冷却水配管２１ａ内の冷却水温度
よりも高く、かつ一定の温度に保たれている。すなわ
ち、冷却水配管２３１ａは、冷却水配管２２ｂから分岐
しても図４と同様の効果が得られる。
【００２３】
【実施例３】図６は、請求項３のガスレーザ加工機を実
施する構成図である。なお図４と同じ構成部品には同じ
符号を付して説明を省略する。ブロア８を冷却するため
の冷却水配管２１ｃの途中に流量調節器４００を接続し
て冷却水流量を調整することによって、外部光学部品を
冷却するための冷却水温度を任意に設定することができ
る。
施する構成図である。なお図４と同じ構成部品には同じ
符号を付して説明を省略する。ブロア８を冷却するため
の冷却水配管２１ｃの途中に流量調節器４００を接続し
て冷却水流量を調整することによって、外部光学部品を
冷却するための冷却水温度を任意に設定することができ
る。
【００２４】以上の説明は、高速軸流型ガスレーザ発振
器のブロアの場合を示したが、他のガスレーザ方式の発
振器のブロア、ファン等の送風器の場合でも同様の効果
が得られる。
器のブロアの場合を示したが、他のガスレーザ方式の発
振器のブロア、ファン等の送風器の場合でも同様の効果
が得られる。
【００２５】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
においては、ガスレーザ発振器１を冷却する冷却水温度
を上げることなく、かつ冷却水循環装置２０を複雑、高
価にすることなく外部ミラー３０及び集光レンズ３３に
結露が生ずることなく一定の温度で冷却することができ
る。
においては、ガスレーザ発振器１を冷却する冷却水温度
を上げることなく、かつ冷却水循環装置２０を複雑、高
価にすることなく外部ミラー３０及び集光レンズ３３に
結露が生ずることなく一定の温度で冷却することができ
る。
【図１】従来の第１の実施例の外部光学部品の冷却系統
を示す構成図
を示す構成図
【図２】従来の第２の実施例の外部光学部品の冷却系統
を示す構成図
を示す構成図
【図３】従来の第３の実施例の外部光学部品の冷却系統
を示す構成図
を示す構成図
【図４】本発明の第１の実施例の外部光学部品の冷却系
統を示す構成図
統を示す構成図
【図５】本発明の第２の実施例の外部光学部品の冷却系
統を示す構成図
統を示す構成図
【図６】本発明の第３の実施例の外部光学部品の冷却系
統を示す構成図
統を示す構成図
１ ガスレーザ発振器 ２ 放電管 ３ 全反射鏡 ４ 部分反射鏡 ５ 陽極 ６ 陰極 ７ 直流高圧電源 ８ ブロア ９ａ 第１の熱交換器 ９ｂ 第２の熱交換器 １０ａ レーザガス循環用の配管（往路） １０ｂ レーザガス循環用の配管（復路） ３０ 外部ミラー ３１ ミラーカバー ３２ ミラーブロック ３３ 集光レンズ ３４ トーチ ３５ 第１の保護パイプ ３６ 第２の保護パイプ ３７ ワーク ２０ 冷却水循環装置 ２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ 冷却水配管（往路） ２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄ 冷却水配管（復路） ２３ａ，２３ｂ，２３ｃ 外部光学部品を冷却
するための冷却水配管 ２３０ａ，２３０ｂ，２３０ｃ 外部光学部品を冷却
するための冷却水配管 ２３１ａ，２３１ｂ，２３１ｃ 外部光学部品を冷却
するための冷却水配管 ４０ 電磁弁 ４００ 流量調節器
するための冷却水配管 ２３０ａ，２３０ｂ，２３０ｃ 外部光学部品を冷却
するための冷却水配管 ２３１ａ，２３１ｂ，２３１ｃ 外部光学部品を冷却
するための冷却水配管 ４０ 電磁弁 ４００ 流量調節器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｓ 3/041
Claims (3)
- 【請求項１】 ガスレーザ発振器から出射されたレーザ
光が、外部光学部品を介して伝送し、最終段に設けた集
光装置で集光してワークに照射し所定の加工を行うガス
レーザ加工機において、ガスレーザ加工機に組み込まれ
たブロアを冷却する配管路の後に、前記外部光学部品を
冷却する冷却水配管路を設けたガスレーザ加工機。 - 【請求項２】 ガスレーザ発振器から出射されたレーザ
光が、外部光学部品を介して伝送し、最終段に設けた集
光装置で集光してワークに照射し所定の加工を行うガス
レーザ加工機において、ブロアの圧縮熱によって温度上
昇したガスの熱を除去する熱交換器を冷却する配管路の
後に、前記外部光学部品を冷却する冷却水配管路を設け
たガスレーザ加工機。 - 【請求項３】 ガスレーザ発振器から出射されたレーザ
光が、外部光学部品を介して伝送し、最終段に設けた集
光装置で集光してワークに照射し所定の加工を行うガス
レーザ加工機において、ブロア及び熱交換器の冷却水流
量を調整する流量調節器を備えた配管路の後に、前記外
部光学部品を冷却する冷却水配管路を設けたガスレーザ
加工機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6047696A JPH07227688A (ja) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | ガスレ−ザ加工機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6047696A JPH07227688A (ja) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | ガスレ−ザ加工機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07227688A true JPH07227688A (ja) | 1995-08-29 |
Family
ID=12782455
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6047696A Pending JPH07227688A (ja) | 1994-02-22 | 1994-02-22 | ガスレ−ザ加工機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07227688A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2870649A1 (fr) * | 2004-05-21 | 2005-11-25 | Inst Teoreticheskoi I Prikladn | Laser a recirculation de gaz |
| JP2010219516A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-30 | Gigaphoton Inc | ガスレーザ装置用温度調節装置 |
| WO2014069341A1 (ja) | 2012-11-02 | 2014-05-08 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 電子制御装置 |
| JP2016162849A (ja) * | 2015-02-27 | 2016-09-05 | ファナック株式会社 | 温度調整が可能なガスレーザ発振器 |
| EP3321005A1 (en) * | 2016-11-14 | 2018-05-16 | SLM Solutions Group AG | Apparatus for producing a three-dimensional work piece with process temperature control |
-
1994
- 1994-02-22 JP JP6047696A patent/JPH07227688A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| CN105932524B (zh) * | 2015-02-27 | 2018-04-10 | 发那科株式会社 | 能够进行温度调整的气体激光振荡器 |
| DE102016001981B4 (de) | 2015-02-27 | 2019-06-27 | Fanuc Corporation | Temperatursteuerbarer Gaslaseroszillator |
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| US20180133964A1 (en) * | 2016-11-14 | 2018-05-17 | SLM Solutions Group AG | Apparatus for producing a three-dimensional work piece with process temperature control |
| CN108068342A (zh) * | 2016-11-14 | 2018-05-25 | Slm方案集团股份公司 | 用于利用过程温度控制生产三维工件的设备 |
| CN108068342B (zh) * | 2016-11-14 | 2020-07-03 | Slm方案集团股份公司 | 用于生产三维工件的设备和操作该设备的方法 |
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