JPS6342533Y2 - - Google Patents
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- JPS6342533Y2 JPS6342533Y2 JP1981132217U JP13221781U JPS6342533Y2 JP S6342533 Y2 JPS6342533 Y2 JP S6342533Y2 JP 1981132217 U JP1981132217 U JP 1981132217U JP 13221781 U JP13221781 U JP 13221781U JP S6342533 Y2 JPS6342533 Y2 JP S6342533Y2
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- JP
- Japan
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- gas
- optical
- optical bench
- outside air
- optical resonator
- Prior art date
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- 238000003754 machining Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
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- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Lasers (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、レーザ光学系が受ける熱的影響を軽
減させた気体レーザ加工装置に関するものであ
る。
減させた気体レーザ加工装置に関するものであ
る。
気体レーザ加工装置は、例えば、第1図の原理
図に示すように、レーザ光L0を発生さる光共振
器10、発生したレーザ光を被加工物Wに導く光
学系を含む被加工具20、光共振器10に高電圧
を供給してグロー放電をさせるための高電圧供給
装置30、グロー放電による励起・光放出・緩和
作用をするレーザ発振媒質としての気体を循環さ
せるためのガス循環装置40および加工具20と
被加工物Wとを相対的に移動させるための移動機
構50等から構成されている。光共振器10はレ
ーザ媒質である気体をはさんで対向する反射鏡1
1とレーザー光L0を光共振器10の外部に取り
出し得る半透過鏡12、高電圧供給装置30に接
続されてグロー放電を起させる電極13乃至16
および光共振器管17から構成されている。被加
工具20は光共振器10から取り出されたレーザ
光L1を被加工物Wに導くための反射鏡21およ
び集束レンズ22から構成されている。
図に示すように、レーザ光L0を発生さる光共振
器10、発生したレーザ光を被加工物Wに導く光
学系を含む被加工具20、光共振器10に高電圧
を供給してグロー放電をさせるための高電圧供給
装置30、グロー放電による励起・光放出・緩和
作用をするレーザ発振媒質としての気体を循環さ
せるためのガス循環装置40および加工具20と
被加工物Wとを相対的に移動させるための移動機
構50等から構成されている。光共振器10はレ
ーザ媒質である気体をはさんで対向する反射鏡1
1とレーザー光L0を光共振器10の外部に取り
出し得る半透過鏡12、高電圧供給装置30に接
続されてグロー放電を起させる電極13乃至16
および光共振器管17から構成されている。被加
工具20は光共振器10から取り出されたレーザ
光L1を被加工物Wに導くための反射鏡21およ
び集束レンズ22から構成されている。
ガス循環装置40は、ダクト46乃至48、ダ
クトの途中に挿入された図示していない熱交換器
たとえばラジエータ、ガス循環用のブロワなどか
ら構成されている。また、ダクト46乃至48
は、図示していないガス供給源またはガス再生装
置から新鮮なガスを供給するガス供給口41、図
示していない真空ポンプによりガス供給前の大気
の排気およびグロー放電作用により発生した不純
ガスを含む循環ガスの一部を排気するガス排気口
42、光共振器管17へのガス流入口43,44
および光共振器管からのガス流出口45とを備え
ている。これらの上記構成部品は、第2図の構成
図に示すように、ガス循環装置などの収容台枠6
0の内部およびベンチ支持台61,62上の光学
ベンチ63の上部に取付けられている。
クトの途中に挿入された図示していない熱交換器
たとえばラジエータ、ガス循環用のブロワなどか
ら構成されている。また、ダクト46乃至48
は、図示していないガス供給源またはガス再生装
置から新鮮なガスを供給するガス供給口41、図
示していない真空ポンプによりガス供給前の大気
の排気およびグロー放電作用により発生した不純
ガスを含む循環ガスの一部を排気するガス排気口
42、光共振器管17へのガス流入口43,44
および光共振器管からのガス流出口45とを備え
ている。これらの上記構成部品は、第2図の構成
図に示すように、ガス循環装置などの収容台枠6
0の内部およびベンチ支持台61,62上の光学
ベンチ63の上部に取付けられている。
通常、光学ベンチ63は長手方向に対して微細
であるが伸縮自在に支持されている。即ち、例え
ば光学ベンチ63は支持台61に長手方向に対し
て固定されている。一方、光学ベンチ63は支持
台62により、上下方向には固定的であるが、長
手方向に対しては移動自在に支持されている。
であるが伸縮自在に支持されている。即ち、例え
ば光学ベンチ63は支持台61に長手方向に対し
て固定されている。一方、光学ベンチ63は支持
台62により、上下方向には固定的であるが、長
手方向に対しては移動自在に支持されている。
これらの上記構成において、第1図に示すよう
に、まず、ガス排気口42から大気を排気した後
に、ガス供給口41からレーザ媒質気体例えば
CO2とHeとN2との混合ガスを供給してダクト4
6乃至48および光共振器10の内部に充填し、
ブロワで循環させる。つぎに、電極13と14お
よび電極15と16間に高電圧を印加すると各電
極間でグロー放電D1およびD2が生じ、混合ガス
が励起され、続いてレーザ光を誘起した後、He
と衝突緩和して基底状態に復帰する。この誘起さ
れたレーザ光L0は半透過鏡12から取り出され、
加工具20の反射鏡21および集束レンズ22を
透過して被加工物Wに照射される。この光共振器
10から取り出されるレーザ光の出力値およびモ
ードは、光学部品の精度および特性、電極の材質
および形状等に大きく左右されるので、当然、設
計上および製作上、特別な注意が払われている。
特に光共振器10内の反射鏡11の中心軸と半透
過鏡12の中心軸と光共振器10の光学系中心軸
Cとの中心軸(以下、光学系中心軸という。)が
同時に一致するように取付けられ、かつ保持され
ることが必要である。これらの中心軸がずれる
と、レーザ光の発振効率が低下して出力が減少す
るだけでなく、エネルギー密度分布が径方向に分
散した集束性の劣るモード波になつてしまう。し
たがつて、従来の気体レーザ加工装置において
は、反射鏡11、半透過鏡12などの設計および
製作上、特別な考慮が払われ、気体レーザ加工装
置の動作前においては、上記の光学系中心軸Cが
互いに一致するように整合されていた。
に、まず、ガス排気口42から大気を排気した後
に、ガス供給口41からレーザ媒質気体例えば
CO2とHeとN2との混合ガスを供給してダクト4
6乃至48および光共振器10の内部に充填し、
ブロワで循環させる。つぎに、電極13と14お
よび電極15と16間に高電圧を印加すると各電
極間でグロー放電D1およびD2が生じ、混合ガス
が励起され、続いてレーザ光を誘起した後、He
と衝突緩和して基底状態に復帰する。この誘起さ
れたレーザ光L0は半透過鏡12から取り出され、
加工具20の反射鏡21および集束レンズ22を
透過して被加工物Wに照射される。この光共振器
10から取り出されるレーザ光の出力値およびモ
ードは、光学部品の精度および特性、電極の材質
および形状等に大きく左右されるので、当然、設
計上および製作上、特別な注意が払われている。
特に光共振器10内の反射鏡11の中心軸と半透
過鏡12の中心軸と光共振器10の光学系中心軸
Cとの中心軸(以下、光学系中心軸という。)が
同時に一致するように取付けられ、かつ保持され
ることが必要である。これらの中心軸がずれる
と、レーザ光の発振効率が低下して出力が減少す
るだけでなく、エネルギー密度分布が径方向に分
散した集束性の劣るモード波になつてしまう。し
たがつて、従来の気体レーザ加工装置において
は、反射鏡11、半透過鏡12などの設計および
製作上、特別な考慮が払われ、気体レーザ加工装
置の動作前においては、上記の光学系中心軸Cが
互いに一致するように整合されていた。
しかし、このような気体レーザ加工装置におい
ては、発熱部分が多く、その熱影響によつて前述
した第2図の光学ベンチ63が局部的に膨張する
ために、光学ベンチ63に熱歪みが発生する。こ
の熱歪みの原因としては、第2図に示すような配
置の気体レーザ加工装置においては、光学ベンチ
63の中央上面部が、グロー放電によつて高温に
なつた混合ガスの影響をうけて温度上昇し、中央
裏面部との間で温度差を生じ、光学ベンチの中央
付近が両端部よりも上方にわん曲するように変形
するために、光学系の各中心軸がずれてレーザ光
の発振効率が低下するだけでなく、モードも径方
向のエネルギー密度が分散した集束性が劣る形状
になる。また、熱歪みの他の原因としては、光学
ベンチの下方では、ガス循環装置特にブロワ、真
空ポンプ、各部の電源装置などの発熱の影響を受
けて温度上昇することになる。しかし、加工装置
の定常運転状態では光学ベンチの上方の温度上昇
が下方よりも大であつて、上方と下方との熱膨張
の差により、第2図に示すような配置の気体レー
ザ加工装置においては、光学ベンチの中央付近が
両端よりも上方にわん曲するように変形する。こ
れらの変形は、レーザ加工装置の構成部品の配
置、構成部品の冷却状態などによつて相違するだ
けでなく、同じ加工装置であつても、使用条件、
使用開始後の時間経過による熱伝導状態によつて
一定しない。
ては、発熱部分が多く、その熱影響によつて前述
した第2図の光学ベンチ63が局部的に膨張する
ために、光学ベンチ63に熱歪みが発生する。こ
の熱歪みの原因としては、第2図に示すような配
置の気体レーザ加工装置においては、光学ベンチ
63の中央上面部が、グロー放電によつて高温に
なつた混合ガスの影響をうけて温度上昇し、中央
裏面部との間で温度差を生じ、光学ベンチの中央
付近が両端部よりも上方にわん曲するように変形
するために、光学系の各中心軸がずれてレーザ光
の発振効率が低下するだけでなく、モードも径方
向のエネルギー密度が分散した集束性が劣る形状
になる。また、熱歪みの他の原因としては、光学
ベンチの下方では、ガス循環装置特にブロワ、真
空ポンプ、各部の電源装置などの発熱の影響を受
けて温度上昇することになる。しかし、加工装置
の定常運転状態では光学ベンチの上方の温度上昇
が下方よりも大であつて、上方と下方との熱膨張
の差により、第2図に示すような配置の気体レー
ザ加工装置においては、光学ベンチの中央付近が
両端よりも上方にわん曲するように変形する。こ
れらの変形は、レーザ加工装置の構成部品の配
置、構成部品の冷却状態などによつて相違するだ
けでなく、同じ加工装置であつても、使用条件、
使用開始後の時間経過による熱伝導状態によつて
一定しない。
したがつて、従来の気体レーザ加工装置におい
ては、加工開始後熱変形が生じないような短時間
で加工作業を完了してしまうか、逆に、長時間の
加工作業を必要とするときは、加工開始前に光学
ベンチの熱歪による光学中心軸のずれを予測して
光学系中心軸をずらしておいて、加工装置の運転
を開始して熱伝導により光学ベンチの熱変形が略
一定になつて光学系の各中心軸が一致した状態に
なつてから、実際の加工作業を開始することが行
われていた。そのために前者においては、長時間
の加工作業が出来ず、また後者においては、加工
装置が大形化するほど熱変形が略一定になるまで
の時間が長くなり30分から1時間に及ぶ場合があ
り、加工作業までの待期時間が大になるだけでな
く、加工作業開始までの装置の運転経費の損失も
大であつた。
ては、加工開始後熱変形が生じないような短時間
で加工作業を完了してしまうか、逆に、長時間の
加工作業を必要とするときは、加工開始前に光学
ベンチの熱歪による光学中心軸のずれを予測して
光学系中心軸をずらしておいて、加工装置の運転
を開始して熱伝導により光学ベンチの熱変形が略
一定になつて光学系の各中心軸が一致した状態に
なつてから、実際の加工作業を開始することが行
われていた。そのために前者においては、長時間
の加工作業が出来ず、また後者においては、加工
装置が大形化するほど熱変形が略一定になるまで
の時間が長くなり30分から1時間に及ぶ場合があ
り、加工作業までの待期時間が大になるだけでな
く、加工作業開始までの装置の運転経費の損失も
大であつた。
本考案は、反射鏡、半透過鏡、放電電極を含む
光共振器を光学ベンチ上に支持した気体レーザ加
工装置において、光学ベンチの上面に沿つて光共
振器の軸方向に第1の気体通路を設けるととも
に、光学ベンチの下面に沿つて光共振器の軸方向
に第2の気体通路を設け、第1の通路の軸方向の
中央部流入口→第1および第2の夫々の両端部→
第2の通路の軸方向の中央部排気口に外気を通過
させることによつて光学ベンチの上下面の温度上
昇を均一化させ、長時間の加工作業を能率的に行
うことができる気体レーザ加工装置を提供したも
のである。
光共振器を光学ベンチ上に支持した気体レーザ加
工装置において、光学ベンチの上面に沿つて光共
振器の軸方向に第1の気体通路を設けるととも
に、光学ベンチの下面に沿つて光共振器の軸方向
に第2の気体通路を設け、第1の通路の軸方向の
中央部流入口→第1および第2の夫々の両端部→
第2の通路の軸方向の中央部排気口に外気を通過
させることによつて光学ベンチの上下面の温度上
昇を均一化させ、長時間の加工作業を能率的に行
うことができる気体レーザ加工装置を提供したも
のである。
以下、本考案の実施例を図面を参照して説明す
る。本考案の加工装置においては、原理的な構成
は第1図および第2図と同様であるので説明を省
略する。第3図および第4図において、光学ベン
チ63の上方に光共振器10を包囲するように第
1のカバ3を設けることにより、光学ベンチ63
とこの第1のカバ3との間に第1の気体通路1を
形成するとともに、光学ベンチの下方にカバ4を
設けることにより、光学ベンチ63とこの第2の
カバ4との間に第2の気体通路2を形成する。
る。本考案の加工装置においては、原理的な構成
は第1図および第2図と同様であるので説明を省
略する。第3図および第4図において、光学ベン
チ63の上方に光共振器10を包囲するように第
1のカバ3を設けることにより、光学ベンチ63
とこの第1のカバ3との間に第1の気体通路1を
形成するとともに、光学ベンチの下方にカバ4を
設けることにより、光学ベンチ63とこの第2の
カバ4との間に第2の気体通路2を形成する。
この第1の気体通路1の軸方向の中央部に外気
流入口101を穿設して送風機Faを外気が吸引
される方向に配設する。さらに第1および第2の
気体通路1,2の夫々の両端部に貫通孔102,
103,202,203を穿設して、夫々の両端
部の貫通孔102と202および103と203
とを連通させ、かつ第2の気体通路2の軸方向の
中央部に排気口201を穿設する。上記101〜
103,201〜203および送風機Faにより
流入口から排気口に外気を流通させる外気流通機
構が構成される。
流入口101を穿設して送風機Faを外気が吸引
される方向に配設する。さらに第1および第2の
気体通路1,2の夫々の両端部に貫通孔102,
103,202,203を穿設して、夫々の両端
部の貫通孔102と202および103と203
とを連通させ、かつ第2の気体通路2の軸方向の
中央部に排気口201を穿設する。上記101〜
103,201〜203および送風機Faにより
流入口から排気口に外気を流通させる外気流通機
構が構成される。
上記構成において、送風機Faを駆動させると、
第1の気体通路1の中央部から流入された外気が
光学ベンチ63の上面に沿つて両端部に流れ、こ
の後、光学ベンチ63の下面に沿つて両端部から
第2の気体通路の中央部の排気口201へと流れ
る。
第1の気体通路1の中央部から流入された外気が
光学ベンチ63の上面に沿つて両端部に流れ、こ
の後、光学ベンチ63の下面に沿つて両端部から
第2の気体通路の中央部の排気口201へと流れ
る。
即ち、加工装置において温度上昇により最もわ
ん曲する光学ベンチ63の中央上面部に、流入さ
れた外気が最初に接触するため中央上面部が効率
よく冷却される。しかもこの後、流入された空気
が第1および第2の両端部を経て、第2の気体通
路2の中央部の排気口201へと流通するため、
光学ベンチ63の上下面は熱的に略均一化され
る。
ん曲する光学ベンチ63の中央上面部に、流入さ
れた外気が最初に接触するため中央上面部が効率
よく冷却される。しかもこの後、流入された空気
が第1および第2の両端部を経て、第2の気体通
路2の中央部の排気口201へと流通するため、
光学ベンチ63の上下面は熱的に略均一化され
る。
なお、両端の貫通孔の連設部102と202、
103と203に夫々送風機Fb,Fcを設けたり、
排気口201に送風機Fdを設ければ、より円滑
な外気の流通を図ることができる。勿論外気が流
入口101を経て排気口201に流通すればよい
ため、送風機Fa〜Fdを適宜に配設することがで
きる。
103と203に夫々送風機Fb,Fcを設けたり、
排気口201に送風機Fdを設ければ、より円滑
な外気の流通を図ることができる。勿論外気が流
入口101を経て排気口201に流通すればよい
ため、送風機Fa〜Fdを適宜に配設することがで
きる。
このように、大気および送風機を使用すると、
取扱いが簡単である。
取扱いが簡単である。
なお、一般的に冷却水による冷却が行なわれて
いるが、給排水管工事が面倒であること、給排水
管が作業の邪魔となること、レーザ加工作業にお
いては漏水がきらわれているためその原因となる
排水管の補修に特に留意しなければならないこと
および冷却水管の表面に必然的に結露が発生しこ
の結露の除去が極めて困難であるため、高電圧を
用いる共振器の取付用の光学ベンチに冷却水管を
使用すれば事故や故障を誘発することとにより冷
却水での冷却方法は回避される傾向にある。
いるが、給排水管工事が面倒であること、給排水
管が作業の邪魔となること、レーザ加工作業にお
いては漏水がきらわれているためその原因となる
排水管の補修に特に留意しなければならないこと
および冷却水管の表面に必然的に結露が発生しこ
の結露の除去が極めて困難であるため、高電圧を
用いる共振器の取付用の光学ベンチに冷却水管を
使用すれば事故や故障を誘発することとにより冷
却水での冷却方法は回避される傾向にある。
以上のように、本考案によれば、光学ベンチの
上面に沿つて光共振器の軸方向に第1の気体通路
を設けるとともに、光学ベンチの下面に沿つて光
共振器の軸方向に第2の気体通路を設け、第1の
通路の軸方向の中央部流入口→第1および第2の
夫々の両端部→第2の通路の軸方向の中央部排気
口に外気を通過させることによつて光学ベンチの
上下面の温度上昇を均一化させ、長時間の加工作
業を能率的に行うことができる気体レーザ加工装
置を実現することができる。
上面に沿つて光共振器の軸方向に第1の気体通路
を設けるとともに、光学ベンチの下面に沿つて光
共振器の軸方向に第2の気体通路を設け、第1の
通路の軸方向の中央部流入口→第1および第2の
夫々の両端部→第2の通路の軸方向の中央部排気
口に外気を通過させることによつて光学ベンチの
上下面の温度上昇を均一化させ、長時間の加工作
業を能率的に行うことができる気体レーザ加工装
置を実現することができる。
第1図は、一般的な気体レーザ加工装置の原理
図、第2図は、一般的な気体レーザ加工装置の構
成図、第3図は本考案の装置の実施例において収
容台枠の上方の内部構造を示す正面図、第4図は
第3図のA−A断面矢視図である。 1…第1の流体通路、2…第2の流体通路、1
0…光共振器、11…反射鏡、12…半透過鏡、
63…光学ベンチ、Fa〜Fd…送風機。
図、第2図は、一般的な気体レーザ加工装置の構
成図、第3図は本考案の装置の実施例において収
容台枠の上方の内部構造を示す正面図、第4図は
第3図のA−A断面矢視図である。 1…第1の流体通路、2…第2の流体通路、1
0…光共振器、11…反射鏡、12…半透過鏡、
63…光学ベンチ、Fa〜Fd…送風機。
Claims (1)
- 反射鏡および半透過鏡を含む光共振器を光学ベ
ンチ上に支持した気体レーザ加工装置において、
前記光学ベンチの上面に沿つて光共振器の軸方向
に設けられた第1の気体通路と、前記光学ベンチ
の下面に沿つて光共振器の軸方向に設けられた第
2の気体通路と、前記第1の気体通路の軸方向の
中央部に外気流入口を設け、前記第1および第2
の気体通路の夫々の両端部を連通する連通路を設
けると共に前記第2の気体通路の軸方向の中央部
に排気口を設けて前記流入口から排気口に外気を
流通させる外気流通機構とを備えた気体レーザ加
工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1981132217U JPS5837166U (ja) | 1981-09-05 | 1981-09-05 | 気体レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1981132217U JPS5837166U (ja) | 1981-09-05 | 1981-09-05 | 気体レ−ザ加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5837166U JPS5837166U (ja) | 1983-03-10 |
JPS6342533Y2 true JPS6342533Y2 (ja) | 1988-11-08 |
Family
ID=29925753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1981132217U Granted JPS5837166U (ja) | 1981-09-05 | 1981-09-05 | 気体レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5837166U (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0740614B2 (ja) * | 1985-02-18 | 1995-05-01 | 松下電器産業株式会社 | ガスレ−ザ装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5249344U (ja) * | 1975-10-03 | 1977-04-08 |
-
1981
- 1981-09-05 JP JP1981132217U patent/JPS5837166U/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5249344U (ja) * | 1975-10-03 | 1977-04-08 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5837166U (ja) | 1983-03-10 |
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