JPS63117934A - 光フアイバの製造方法 - Google Patents
光フアイバの製造方法Info
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- JPS63117934A JPS63117934A JP61261536A JP26153686A JPS63117934A JP S63117934 A JPS63117934 A JP S63117934A JP 61261536 A JP61261536 A JP 61261536A JP 26153686 A JP26153686 A JP 26153686A JP S63117934 A JPS63117934 A JP S63117934A
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- Japan
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- optical fiber
- gas
- cooling
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- buffer layer
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- Pending
Links
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Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野］
本発明は光ファイバの製造方法に係り、特にガスによる
光ファイバの冷却度合の変化により、被覆層の層厚を制
御せしめる光ファイバの製造方法に関する。
光ファイバの冷却度合の変化により、被覆層の層厚を制
御せしめる光ファイバの製造方法に関する。
［発明の技術的背景及び問題点コ
光ファイバの保護補強、漏光防止のためには安定した被
覆を施すことが不可欠であるが、従来の光フアイバ製造
方法においては、例えばオープンｉ− ダイス方式による紡糸（第３図）では樹脂被覆径はコー
ティングダイス径によって決まるため紡糸中の光ファイ
バに安定した被覆を行うための被覆層の層厚の制御は困
難であった。
覆を施すことが不可欠であるが、従来の光フアイバ製造
方法においては、例えばオープンｉ− ダイス方式による紡糸（第３図）では樹脂被覆径はコー
ティングダイス径によって決まるため紡糸中の光ファイ
バに安定した被覆を行うための被覆層の層厚の制御は困
難であった。
即ち、第３図のような装置による光ファイバの製造は先
ずプリフォームロッド１を紡糸炉２により加熱、溶融し
ながら紡糸を行い、−次被覆層ダイス５を通ることによ
って樹脂により被覆され、乾燥炉６により乾燥され一次
被覆層が形成されるが、この場合光フアイバ心線１０′
の被覆径は被覆層ダイス径によって決まり、被覆層の層
厚については何ら考慮されていなかった。緩衝層の形成
についても上記と同様に、緩衝層ダイス８を通り、乾燥
炉６′により乾燥の上、外径測定器９により外径を測定
されるが、この場合も被覆層の層厚については何ら考慮
されていない。
ずプリフォームロッド１を紡糸炉２により加熱、溶融し
ながら紡糸を行い、−次被覆層ダイス５を通ることによ
って樹脂により被覆され、乾燥炉６により乾燥され一次
被覆層が形成されるが、この場合光フアイバ心線１０′
の被覆径は被覆層ダイス径によって決まり、被覆層の層
厚については何ら考慮されていなかった。緩衝層の形成
についても上記と同様に、緩衝層ダイス８を通り、乾燥
炉６′により乾燥の上、外径測定器９により外径を測定
されるが、この場合も被覆層の層厚については何ら考慮
されていない。
また近年紡糸速度は益々早まる傾向にあるが、速度が早
くなればなるほど安定した被覆を行うためには光ファイ
バの冷却が必要となり、ガスによる冷却方法も報告され
ているが、被覆層の層厚制−２＝ 御までには言及していない（特開昭５２−１２０８４０
号公報）。
くなればなるほど安定した被覆を行うためには光ファイ
バの冷却が必要となり、ガスによる冷却方法も報告され
ているが、被覆層の層厚制−２＝ 御までには言及していない（特開昭５２−１２０８４０
号公報）。
さらに、ガスの使用例として線引中の光ファイバの雰囲
気制御の必要性から、光ファイバと空気中のダスト粒子
の接触防止を目的としてガスを使用する事例も報告され
ているが、これも被覆層の層厚制御に言及したものでは
ない（特開昭５３−３２７４９号公報）。
気制御の必要性から、光ファイバと空気中のダスト粒子
の接触防止を目的としてガスを使用する事例も報告され
ているが、これも被覆層の層厚制御に言及したものでは
ない（特開昭５３−３２７４９号公報）。
このように、光ファイバの保護補強を十分にするための
安定した被覆方法は極めて不十分であった。
安定した被覆方法は極めて不十分であった。
［発明の目的コ
本発明は上記の如き難点を解消するためなされたもので
、ガスによる光ファイバの冷却度合を変化させることに
より被覆層の層厚を制御せしめ安定した被覆を可能にせ
んとするものである。
、ガスによる光ファイバの冷却度合を変化させることに
より被覆層の層厚を制御せしめ安定した被覆を可能にせ
んとするものである。
［発明の概要コ
以上の目的を達成するため本発明による光ファイバの製
造方法は、加熱された光ファイバにガスを吹きつけるこ
とにより冷却し、該冷却された光ファイバに被覆層を設
ける工程において、前記ガスの流量及び（又は）ガス圧
を変えることにより前記光ファイバの冷却度合を変化さ
せ、もって前記被覆層の層厚を制御することを特徴とす
る。
造方法は、加熱された光ファイバにガスを吹きつけるこ
とにより冷却し、該冷却された光ファイバに被覆層を設
ける工程において、前記ガスの流量及び（又は）ガス圧
を変えることにより前記光ファイバの冷却度合を変化さ
せ、もって前記被覆層の層厚を制御することを特徴とす
る。
［発明の実施例］
以下、本発明の好ましい実施例を図面に基づき説明する
。
。
本発明による光ファイバの製造は第１図に示す装置によ
り実現される。第１図においては、プリフォームロッド
１を加熱、溶融しながら紡糸を行う紡糸炉２、光フアイ
バ素線外径測定器３、ガス流量計もしくはガス圧計４．
４′、−次被覆層ダイス５、乾燥炉６．６″、−次被覆
外径測定器７、緩衝層ダイス８及び緩衝層外径測定器９
が設けられている。また、ガス流量計もしくはガス圧計
４は一次被覆外径測定器７と、同様にガス流量計もしく
はガス圧計４′は緩衝層外径測定器９と連動しうるよう
に設計されている。
り実現される。第１図においては、プリフォームロッド
１を加熱、溶融しながら紡糸を行う紡糸炉２、光フアイ
バ素線外径測定器３、ガス流量計もしくはガス圧計４．
４′、−次被覆層ダイス５、乾燥炉６．６″、−次被覆
外径測定器７、緩衝層ダイス８及び緩衝層外径測定器９
が設けられている。また、ガス流量計もしくはガス圧計
４は一次被覆外径測定器７と、同様にガス流量計もしく
はガス圧計４′は緩衝層外径測定器９と連動しうるよう
に設計されている。
このような装置による光フアイバ製造の実施例を説明す
ると、先ずプリフォームロッド１を紡糸炉２により加熱
、溶融しながら紡糸を行い、紡糸直後の光フアイバ素線
１０に、Ａｉｒ、 Ｎ２ 、 Ａ ｒ 。
ると、先ずプリフォームロッド１を紡糸炉２により加熱
、溶融しながら紡糸を行い、紡糸直後の光フアイバ素線
１０に、Ａｉｒ、 Ｎ２ 、 Ａ ｒ 。
Ｈｅなどのガス１１をガス流入口４ａより吹きつけるこ
とにより冷却し、冷却された光フアイバ素線１０は一次
被覆層ダイス５を通ることによって例えばメチルフェニ
ルシリコン等によって被覆され、乾燥炉６により被覆層
を乾燥され、−次被覆外径測定器７により被覆層の外径
が規定される。
とにより冷却し、冷却された光フアイバ素線１０は一次
被覆層ダイス５を通ることによって例えばメチルフェニ
ルシリコン等によって被覆され、乾燥炉６により被覆層
を乾燥され、−次被覆外径測定器７により被覆層の外径
が規定される。
そしてこの場合、前記ガス流量計（ガス圧計）４と該−
次被覆層外径測定器７は連動しているので、ガス１１の
流量もしくはガス圧を変えることにより光ファイバの冷
却の度合が変わり、光フアイバ素線１０の外径も変化し
、−次被覆層の層厚が制御される。
次被覆層外径測定器７は連動しているので、ガス１１の
流量もしくはガス圧を変えることにより光ファイバの冷
却の度合が変わり、光フアイバ素線１０の外径も変化し
、−次被覆層の層厚が制御される。
続いて緩衝層被覆も上記工程と同様に、ガス流量計（ガ
ス圧計）４′と緩衝層外径測定器９の連動により光フア
イバ心線１０′の外側に層厚の制御された例えばジメチ
ルシリコン等の緩衝層が形成される。
ス圧計）４′と緩衝層外径測定器９の連動により光フア
イバ心線１０′の外側に層厚の制御された例えばジメチ
ルシリコン等の緩衝層が形成される。
なお本事例におけるガス１１は清浄なものが好ましく、
また冷却効果が大きいガスの方がより少い流量で高い効
果をあられし、例えばＨｅはＮ２より少い流量でよく、
ＡｉｒはＮ２と同程度量。
また冷却効果が大きいガスの方がより少い流量で高い効
果をあられし、例えばＨｅはＮ２より少い流量でよく、
ＡｉｒはＮ２と同程度量。
ＡｒはＮ２より多く流す必要がある。
また本事例における被覆材料は通常用いられている熱硬
化型シリコーン樹脂について述べたが紫外線硬化型樹脂
についても同様の効果がある。
化型シリコーン樹脂について述べたが紫外線硬化型樹脂
についても同様の効果がある。
（実施例１）
実施例として、紡糸速度８０ｍ１分、−次被覆層ダイス
径０．３ｍ＋ｎφ、緩衝層ダイス径０ 、６ ｍｍφと
し、紡糸直後の光ファイバには、Ｎ２を５Ｑ１分（Ｎ２
の圧力は５Ｋｇ／ｃＪである）流した場合、−次被覆径
は約２０５μ印であった。Ｎ２流量の変化に対応する緩
衝層径の変化は第２図のとおりであった。
径０．３ｍ＋ｎφ、緩衝層ダイス径０ 、６ ｍｍφと
し、紡糸直後の光ファイバには、Ｎ２を５Ｑ１分（Ｎ２
の圧力は５Ｋｇ／ｃＪである）流した場合、−次被覆径
は約２０５μ印であった。Ｎ２流量の変化に対応する緩
衝層径の変化は第２図のとおりであった。
［発明の効果］
本発明の光ファイバの製造方法によれば、光ファイバの
保護補強及び漏光防止のための被覆層の層厚を制御する
ことができ、極めて安定した効率的被覆を行うことがで
きる。
保護補強及び漏光防止のための被覆層の層厚を制御する
ことができ、極めて安定した効率的被覆を行うことがで
きる。
＝６−
第１図は本発明の光フアイバ製造方法を示す説明図の縦
断面図、第２図はガス流量と緩衝層径の変化に関する実
施例説明図、第３図は従来例による光フアイバ製造方法
説明図の縦断面図である。 ■・・・・・・・・・・・・プリフォームロッド２・・
・・・・・・・・・・紡糸炉 ４．４′・・・・・・・ガス流量計（ガス圧計）５・・
・・・・・・・・・・−次被覆層ダイス６．６′・・・
・・・・乾燥炉 ７・・・・・・・・・・・・・・・・・−次被覆層外径
測定器８・・・・・・・・・・・・・・・・・緩衝層ダ
イス９・・・・・・・・・・・・・・・・・緩衝層外径
測定器１０・・・・・・・・・・・・・・・光フアイバ
素線１０′、１０″・・・・・・・光ファイバ心線代理
人 弁理士 守 谷 −雄 第１図 第２図 第３図
断面図、第２図はガス流量と緩衝層径の変化に関する実
施例説明図、第３図は従来例による光フアイバ製造方法
説明図の縦断面図である。 ■・・・・・・・・・・・・プリフォームロッド２・・
・・・・・・・・・・紡糸炉 ４．４′・・・・・・・ガス流量計（ガス圧計）５・・
・・・・・・・・・・−次被覆層ダイス６．６′・・・
・・・・乾燥炉 ７・・・・・・・・・・・・・・・・・−次被覆層外径
測定器８・・・・・・・・・・・・・・・・・緩衝層ダ
イス９・・・・・・・・・・・・・・・・・緩衝層外径
測定器１０・・・・・・・・・・・・・・・光フアイバ
素線１０′、１０″・・・・・・・光ファイバ心線代理
人 弁理士 守 谷 −雄 第１図 第２図 第３図
Claims (1)
- 加熱された光ファイバにガスを吹きつけることにより冷
却し、該冷却された光ファイバに被覆層を設ける工程に
おいて、前記ガスの流量及び（又は）ガス圧を変えるこ
とにより前記光ファイバの冷却度合を変化させ、もって
前記被覆層の層厚を制御することを特徴とする光ファイ
バの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61261536A JPS63117934A (ja) | 1986-10-31 | 1986-10-31 | 光フアイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61261536A JPS63117934A (ja) | 1986-10-31 | 1986-10-31 | 光フアイバの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63117934A true JPS63117934A (ja) | 1988-05-21 |
Family
ID=17363259
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61261536A Pending JPS63117934A (ja) | 1986-10-31 | 1986-10-31 | 光フアイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63117934A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0887319A1 (de) * | 1997-06-28 | 1998-12-30 | Alcatel | Vorrichtung und Verfahren zur Regelung der Beschichtungsdicke einer optischen Faser |
| JP2013082594A (ja) * | 2011-10-12 | 2013-05-09 | Fujikura Ltd | 光ファイバ素線の製造方法 |
-
1986
- 1986-10-31 JP JP61261536A patent/JPS63117934A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0887319A1 (de) * | 1997-06-28 | 1998-12-30 | Alcatel | Vorrichtung und Verfahren zur Regelung der Beschichtungsdicke einer optischen Faser |
| JP2013082594A (ja) * | 2011-10-12 | 2013-05-09 | Fujikura Ltd | 光ファイバ素線の製造方法 |
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