JPS6311735Y2 - - Google Patents

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JPS6311735Y2
JPS6311735Y2 JP10586283U JP10586283U JPS6311735Y2 JP S6311735 Y2 JPS6311735 Y2 JP S6311735Y2 JP 10586283 U JP10586283 U JP 10586283U JP 10586283 U JP10586283 U JP 10586283U JP S6311735 Y2 JPS6311735 Y2 JP S6311735Y2
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JP
Japan
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heat sink
power transistor
integrated circuit
hybrid integrated
frame
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JP10586283U
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JPS6013745U (ja
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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 本考案は混成集積回路、特にパワートランジス
タを組込んだ混成集積回路の封止構造の改良に関
する。
(ロ) 従来技術 従来の混成集積回路は第1図に示す如く、セラ
ミツクスあるいは表面を陽極酸化したアルミニウ
ム等の絶縁基板1と、該基板1上に任意の形状を
設けた導電路2と、該導電路2上に半田で固着さ
れたヒートシンク3と、ヒートシンク3に固着さ
れたパワートランジスタ4と、パワートランジス
タ4を薄く保護するシリコン樹脂5と、基板1の
周端に接着シート6で接着され全体を覆う蓋体7
とで構成されている。
斯る構造の混成集積回路はテレビ、ラジオ、ス
テレオ等の比較的良好な使用環境を有する電子機
器では十分な封止と評価されていた。しかしなが
ら自動車の電装部品等の如くきわめて使用環境の
悪いものにおいては十分な封止構造とは言えず、
特に電力を消費するパワートランジスタの劣化が
きわめて問題となつていた。
そこで本考案は第2図および第3図に示す如
く、混成集積回路に改良を加えた。すなわち、セ
ラミツクスあるいは表面を陽極酸化したアルミニ
ウム等の絶縁基板11と、該基板11上に任意の
形状に設けた銅箔より成る導電路12と、導電路
12上に半田で固着されたヒートシンク13と、
ヒートシンク13上に固着したパワートランジス
タ14と、樹脂整形された枠体15と、枠体15
内に充填された封止樹脂層16と、基板11の周
端に接着シート17で接着された全体を封止する
蓋体18より構成されている。
しかしながら斯る改良された混成集積回路に於
いても、枠体15とヒートシンク13の離間部分
から封止樹脂層16が流出するおそれがあり、パ
ワートランジスタ14の完全な封止が望めない欠
点がある。
(ハ) 考案の目的 本考案は斯上した欠点に鑑みてなされ、更にパ
ワートランジスタの良好な封止構造を有する混成
集積回路を実現するものである。
(ニ) 考案の構成 本考案による混成集積回路は第4図および第5
図に示す如く、絶縁基板11と、該基板11上に
設けた導電路12と、導電路12上に固着されヒ
ートシンク13と、ヒートシンク13上に固着し
たパワートランジスタ14と、本考案の特徴とす
る枠体15と、枠体15内に充填された封止樹脂
層16と、基板11の周端に接着シート17で接
着された全体を封止する蓋体18より構成されて
いる。
(ホ) 実施例 第2図乃至第4図に於いて同一構成要素には同
一図番を付した説明する。
絶縁基板11としてはセラミツクスあるいは表
面を陽極酸化したアルミニウム等を用いる。
導電路12は基板11上に銅箔を貼り、任意の
形状にエツチングして形成する。
ヒートシンク13は13mm角で厚さ3mmの銅片を
用い、導電路12上に半田で固着される。
パワートランジスタ14はペレツトのままヒー
トシンク13の上面に半田で固着される。
本考案の特徴とする枠体15は樹脂の一体整形
で形成され、ヒートシンク13より1mm程度全周
で離間できる大きさである。また枠体15には内
側に約1mm突出した複数の間隔片20を設け、第
4図の如くどの部分ではヒートシンク13との間
に均一なすき間を形成する様に配慮している。更
に枠体15の下部にはヒートシンク13の近傍ま
で突出したひさし部22を設け、ヒートシンク1
3と枠体15で形成されるすき間をほぼふさいで
いる。更にまた枠体15の高さはヒートシンク1
3およびパワートランジスタ14の厚みの和より
若干高くなる様に設計される。
封止樹脂層16は枠体15内にエポキシ樹脂を
充填して形成する。この際エポキシ樹脂は枠体1
5下部のひさし部22で流出を阻止されるので、
パワートランジスタ14を完全に被覆できる。な
おパワートランジスタ14は必要があれば予じめ
シリコン樹脂21で薄く被覆しても良い。
蓋体18はFRペツト(商品名)を整形して形
成され、基板11の周端に接着シート17で接着
され全体を封止する。
(ヘ) 本考案の効果 本考案に依れば厚いヒートシンク13上に固着
されたパワートランジスタ14も選択的に封止樹
脂層16により封止を行なえる。またひさし部2
2により封止樹脂層16の流出がないので、一定
の量でパワートランジスタ14を解実に封止でき
る。更に完全な封止を求められない小信号回路部
分については従来の簡便な封止構造を適用でき
る。この結果極めて量産性に富み且つ良好な封止
構造の混成集積回路を実現でき、その応用範囲も
きわめて広い。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来例を説明する断面図、第2図およ
び第3図は本考案による従来の改良例を説明する
上面図および断面図、第4図および第5図は本考
案を説明する上面図および断面図である。 主な図番の説明、11は基板、13はヒートシ
ンク、14はパワートランジスタ、15は枠体、
16は封止樹脂層、18は蓋体、20は間隔片、
22はひさし部である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 絶縁基板上にヒートシンクを介して固着したパ
    ワートランジスタを具備する混成集積回路に於い
    て、前記ヒートシンクを取り囲み且つ内側に突出
    した間隔片と下部に設け前記ヒートシンク近傍ま
    で突出されたひさし部とを備え前記ヒートシンク
    より離間して配置した枠体と、該枠体内に充填さ
    れ前記パワートランジスタを完全に被覆する封止
    樹脂層とを有することを特徴とする混成集積回
    路。
JP10586283U 1983-07-06 1983-07-06 混成集積回路 Granted JPS6013745U (ja)

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JP10586283U JPS6013745U (ja) 1983-07-06 1983-07-06 混成集積回路

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JP10586283U JPS6013745U (ja) 1983-07-06 1983-07-06 混成集積回路

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JPS6013745U JPS6013745U (ja) 1985-01-30
JPS6311735Y2 true JPS6311735Y2 (ja) 1988-04-05

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JP10586283U Granted JPS6013745U (ja) 1983-07-06 1983-07-06 混成集積回路

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JP2536626Y2 (ja) * 1988-08-12 1997-05-21 三洋電機株式会社 混成集積回路

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JPS6013745U (ja) 1985-01-30

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