JPS6310315A - 磁気記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■　発明の背」；［ 技術分野 本発明は、磁気記録媒体、特に金属薄膜型の磁気記録媒
体に関する。

先行技術とその問題点 ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テー
プ化して巻回したときのコンパクト性から、金属薄膜型
の磁性層を有するものの開発が活発に行なわれている。

このような金属薄膜型の媒体の磁性層としては、特性上
、基体法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行なう、いわ
ゆる斜め蒸着法によって形成したＣｏ系、Ｃｏ−Ｎｉ系
等からなる蒸着膜が好適である。

このような媒体では、小型化、長時間記録等のため、よ
り薄いフィルムを用いた媒体の研究が進められているが
、走行性、耐久性、強磁性金属薄膜の強度等の点で問題
が生じる。

そこで、これらの不都合を解消するため、フィルム裏面
に金属薄膜補強層を設ける旨の提案（特開昭５６−１６
９３９号、同５８−９７１３１号、同５７−７８６２７
号、同５７−３７７３７号）あるいはフィルム表面に微
粒子を配設してヘッドタッチ、走行面で改良をなす旨の
提案（特開昭５８−６８２２７号、同５８−１００２２
１号）等がなされている。

また、耐久性や電磁変換特性を向」ニさせるために、強
磁性金属薄膜層を２層以トの多層構成とする旨の提案も
種々性なわれている（特開昭５４−１４１６０８号、特
公昭５６−２６８９２号、特開昭５７−１３０２２８号
等）。

しかし、現状では、走行性、耐久性、強磁性薄膜強度が
良好で、かつ電磁変換特性の面でも不都合の生じない技
術は未だ実現していない。

ｎ　　発明の目的 本発明の目的は、媒体の走行性が良好で、走行による磁
性層のクラックやケズレが少なく、さらにヘッド摩耗１
ｉ１およびドロップアウトが少なく、電磁変換特性の良
好な金属薄膜型の磁気記録媒体を提供することにある。

■　発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成される。

すなわち、本発明はプラスチックフィルム上にＣｏを主
成分とする強磁性金属薄膜層を有し、この強磁性金属薄
膜層が２以上の層からなる多層構造を有し、その最下層
のプラスチックフィルム側界面近傍の酸素濃度Ｃ２を最
上層のプラスチックフィルムと反対側表面近傍の酸素濃
度Ｃ１で除した値Ｃ２／Ｃ１が０．３以下であることを
特徴とする磁気記録媒体ある。

■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。

本発明における磁性層としての強磁性金属薄膜層は少な
くとも２層からなる多層構造を有するものである。　そ
して、本発明に用いる強磁性金属薄膜層は、Ｃｏを主成
分とし、これにＯを含み、さらに必要に応じＮｉおよび
／またはＣｒが含有される組成を有する。

すなわち、好ましい態様においては、ｃｏ単独からなっ
てもよく、ＣｏとＮｉからなってもよい。　Ｎｉが含ま
れる場合、Ｃｏ　／　Ｎ　ｉの重量比は、１．５以トで
あることが好ましい。

さらに、強磁性金属薄膜層中には、Ｃｒが含有されてい
てもよい。

このような場合、Ｃｒ　／　ＣｏあるいはＣｒ／（Ｃｏ
＋Ｎ　ｉ　）の重量比は０．１以下、特に０．００１〜
０．１、より好ましくは０．００５〜０．０５であるこ
とが好ましい。

さらに、本発明の強磁性金属薄膜中には０が含有される
ものである。

強磁性金属薄膜中の層全体の平均酸素量は、原子比、特
にＯ／（ＣｏまたはＣｏ＋Ｎ　ｉ　）の原子比で、最上
層における平均酸素量Ｃげはｏ、ｔ〜ｏ、ｓ程度、好ま
しくは０．１〜０゜４程度である。

平均酸素量がｃ、１が、０．１未満では耐食性、走行性
、磁性層のクラック、ケズレ等の点で不十分であり、０
．５をこえると、表面酸化物層が増大し、ヘッドとのス
ペーシングによる出力の低下等の問題を生じる。

そして、最下層のプラスチックフィルムとの界面近傍で
の酸素濃度ｃ２、特にＯ／　（ＣｏまたはＣｏ＋Ｎｉ）
原子比を、最上層のプラスチックフィルムと反対側の表
面近傍での酸素濃度ＣＩ、特にＯ／　（ＣｏまたはＣｏ
＋Ｎ　ｉ　）原子比で除した値Ｃ２／ｃｌは０．３以下
、より好ましくは０．１５以下であることが好ましい。

この場合、これら酸素濃度は、強磁性金属薄膜をＡｒ等
がイオンミリングないしイオンエツチングしながら、オ
ージェ分光分析、ＳＩＭＳ（２次イオン質量分析）等を
行ない、測定することができる。

すなわち、イオンエツチングを行ないながら０、Ｃｏ、
Ｎｉ等をカウントし、その膜厚方向のプロファイルを比
較する。

そして、プラスチックフィルムと反対側の強磁性金属薄
膜表面のＯ／（ＣｏまたはＣｏ＋Ｎｉ）をＣ６とする。

　また、最下層については、プラスチックフィルムまで
エツチングが行なわれ、Ｃがカウントされる直前のＯ／
（Ｃ。

またはＣｏ＋Ｎ　ｉ　）をＣ２とする。

イオンエッヂングおよびオージェ分光分析ないしＳＩＭ
Ｓの測定法は常法に従えばよい。

このように最上層表面の酸素濃度を相対的に高くするこ
とにより、保磁力Ｈｅが高くなり、また最下層の酸素濃
度を相対的に低くすることにより、最大残留磁束φｒお
よび角形比ＳＱが高くなり、電磁変換特性がきわめて良
好な磁性層となる。

なお、表面近傍のＯ／（ＣｏまたはＣｏ＋Ｎ１）Ｃ，は
、一般に０．２〜０．７、好ましくは０．３〜０．６で
ある。

従って、フィルム界面近傍のＯ／（ＣｏまたはＣｏ＋Ｎ
ｉ　）Ｃ２は０．０６〜０．２１、好ましくは０．０９
〜０．１８である。

さらに、最上層の層全体でのＯ／（ＣｏまたはＣｏ＋Ｎ
１）Ｃ，’はｏ−ｉ〜０．５、ヨリ好ましくは０．１〜
０．４であることが好ましい。　また、最下層の層全体
でのＯ／　（ＣｏまたはＣｏ＋Ｎｔ）Ｃ２”は０．５以
下、より好ましくは０．３以下であることが好ましい。

このとき、電磁変換特性、耐食性、走行耐久性、磁性膜
強度等はきわめて良好となる。

この場合、３層以上の多層構造の場合、それらの各層の
層全体でのＯ／（ｃｏまたはＣｏ＋Ｎｉ）は、一般に、
０，５以下、好ましくは０．３以下とする。

なお、この場合、強磁性金属薄膜層の各層の表面では、
酸素が強磁性金属（Ｇｏ、Ｎｉ）と酸化物を形成してい
る。

すなわち、各層の表面から１００λ〜 ２０００人、より好ましくは５００〜１０００人の厚さ
の範囲には、オージェ分光分析により、酸化物を示すピ
ークが認められるものである。

本発明では、強磁性金属薄膜層表面とフィルム側界面と
の酸素濃度を規制するものであり、そのとき、本発明所
定の効果が実現するものである。

このため、強磁性金属薄膜の膜厚方向の酸素濃度プロフ
ァイルについては問わない。　すなわち、膜厚方向にて
酸素が？ｌＩ減してもよく、あるいは酸素分布が折線状
をなしたり、途中の分布、例えば多層膜界面にピークが
存在してもよい。

なお、通常、強磁性金属薄膜は２層とすればよいが、必
要に応じ３層以上、特に３〜５層とすることもできる。

なお、このような強磁性金属薄膜中には、さらに他の微
ｍ成分、特に遷移元素、例えばＦｅ、Ｍｎ、Ｖ、Ｚｒ、
Ｎｂ、Ｔａ、Ｔｉ。

Ｚｎ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕ等が含まれていてもよい。

このような強磁性金属薄膜層は、好ましい態様において
、上記したＣｏを主成分とする柱状結晶粒の集合体から
なる。

この場合、強磁性金属薄膜層の厚さは、総計で０．０５
〜０．５μＩ、好ましくは０．０７〜０．３μｍとされ
る。

そして、このような強磁性金属薄膜層の各層の厚さの比
は特に制限はないが、例えば２層構成の場合、上層と下
層の厚さの比は好ましくは０．１〜１０程度が好ましい
。

そして、柱状の結晶粒は、各層の厚さ方向のほぼ全域に
亘る長さをもち、その長平方向が基体の主面の法線に対
して傾斜する角度は特に制限はない。　そして、３層以
上の構成における中間に位置する各層では、柱状結晶粒
の基体主面法線に対する傾斜角度は、通常、最上層と最
下層における傾斜角度域内にあればよく、特に制限はな
い。

そして、この場合、相隣接する各磁性層の結晶粒の基体
主面法線に対する傾斜の向きは、媒体の長さ方向で同方
向であフてよいが、好ましくは相対向する向きであるこ
とが好ましい。

このような、結晶粒の傾斜の向きを、２層構成を例とし
て模式的に例示すると第１図および第２図のようになる
。

第１図および第２図において、磁気記録媒体ｌは、基体
２−１−に強磁性金属薄膜下層部３および強磁性金属薄
膜り周部４とを有する。　そして、強磁性金属薄膜Ｆ周
部３内の下層結晶粒５の傾斜の向き、強磁性金属薄膜−
Ｌ層部４内の上層結晶粒６の傾斜の向きは、第１図では
媒体の長さ方向ａで相対向する向きであり、第２図では
媒体の長さ方向ａで同方向である。

本発明では、第１図あるいは第２図のいずれの結晶粒傾
斜を有するものであってよいが、好ましくは、第１図に
示される結晶粒傾斜を有するものが好ましい。

このように、強磁性金属薄膜層が少なくとも２層以上の
層からなる多層構造を有することにより、柱状結晶粒の
長さが小さいものとなるため、強磁性金属薄膜層の膜強
度が向上する。

また、最上層の酸素濃度を、最下層の酸素濃度よりも、
前述のように相対的に高くすることにより、例えば比較
的浅い磁界を有し、中心周波数が５ＭＩＩｚ程度の比較
的高周波数の信号は、最下層に比べ、相対的に保磁力Ｈ
ｅの高い最−Ｆ層側で有効に保持され、きわめて良好な
分解能を有するものとなる。

また、例えば比較的深い磁界を有する中心周波数０　、
７５　ＭＨｚ程度の信号は、最大残留磁束φｒ、角形比
が最上層に比べ相対的に高い最下層側で有効に保持され
、きわめて良好な電磁変換特性を有するものとなる。

また、さらに、最上層の酸素濃度を高くすることにより
、耐摩耗性に優れたＣｏ、Ｎｉ等の酸化物が最上層に形
成されるため、多層構造との相乗効果により、強磁性金
属ｉ膜層の膜強度がより高いものとなる。

本発明の磁気記録媒体に用いられる基体の材質としては
、非磁性プラスチックであれば特に制限はないが、通常
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン２，６
−ナフタレート等のポリエステル、ポリアミド、ポリイ
ミド、ボリフェニレンサルファイド、ポリサルフオン、
全芳香族ポリエステル、ポリエーテルエーテルケトン、
ポリエーテルサルフオン、ポリエーテルイミド等を用い
る。　また、その形状、寸法、厚さには制限はなく、用
途に応じたものとすればよい。

このようなプラスチックフィルムの磁性層が設けられて
いない他方の面上には裏地層を設層してもよい。

裏地層を設層する場合、裏地層はＡＩ。

Ｃｕ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｔ　ｉ等の単一金属ないしこれ
らを含む合金、あるいはその酸化物等の薄膜であること
が好ましい。

上記の金属等の中では特に非磁性のものを用いるのが好
ましい。　その理由としては、例えば裏地層を磁性金属
とすると、磁性面が磁化された状態で巻き取られた場合
、裏地層が磁性層の漏洩磁束により磁化されたり、ある
いは裏地層が磁化された状態で磁性面再記録して再び巻
き取られると、裏地層の磁気の影響により磁性面の磁化
状態が乱れるためノイズが増加するなどの問題が生じう
るからである。

裏地層の形成方法は、例えば、蒸着、スパッタ、イオン
ブレーティング等の真空薄膜形成法、さらには各種ＣＶ
Ｄ等の気相成長法、あるいはメッキ法等を用いればよい
。

このように形成された裏地層の膜厚は、０．０５〜１．
５μｍ、より好ましくは０．０７〜０．９μｍ、さらに
より好ましくは０．０７〜０．７μｍとされる。

この膜厚が１．５μｍをこえると、走行によって、磁性
層のクラックや磁性面ケズレが生じる。　また、ヘッド
摩耗量が増大する。　そして、ドロップアウトが増大す
る。　また膜厚が０．０５μＷ未満となると、走行安定
性が低下し、ヘッドタッチ不良が生じ、出力低下やエン
ベローブ不良が生じる。

本発明の磁気記録媒体の表面には、微細な突起が所定の
密度で設けられてもよい。

微細な突起は、３０〜３００人、より好ましくは５０〜
２５０人の高さをイエするものである。

すなわち、本発明の突起は、光学顕微鏡で観察でき、か
つ触３１型表面相さ計で測定できるものではなく、走査
７１．１！電子顕微鏡にて観察できる程度のものである
。

突起高さが３００人をこえ、光学顕微鏡にて観察できる
ものとなると、電磁変換特性の劣化と、走行安定性の低
下をもたらず。

また、５０λ未満となると、物性の向上の実効がない。

そして、その密度はｌｌｌｌｍ２あたり平均１０５個以
上、より好ましくは１０５〜１０９個、特に１０６〜１
０８個である。

突起密度が１０″個／ｌｌｌｍ２未満となると、ノイズ
が増大し、スチル特性が低下する等物性の低下をきたし
、実用に耐えない。

また、１０９個／ｍｍ２をこえると、物性上の効果が少
なくなってしまう。

なお、突起径は、一般に２００〜１０００人程度とする
。

このような突起を設けるには、通常、基板上に微粒子を
配設すればよい。　微粒子径は、３０〜１０００人とす
ればよく、これにより微粒Ｙ−径に対応した微細突起が
形成される。

用いる微粒子としては、通常コロイド粒子として知られ
ているものであって、例えばＳｉＯ２（コロイダルシリ
カ）、　Ａ１２０３　　（ｙルミナゾル）、ＭｇＯ１Ｔ
ｉ　０２、ＺｎＯ。

Ｆｅ２Ｏ３、ジルコニア、ＣｄＯ，Ｎｉ０１ＣａＷｏ４
、ＣａＣｏ３、ＢａＣｏ３、Ｃ０Ｃｏ３、ＢａＴｉＯ３
，Ｔｉ　（チタンブラック）、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ
、Ｆｅ、各種ヒドロシルや、樹脂粒子等が使用可能であ
る。

この場合、特に無機物質を用いるのが好ましし１　。

このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、こ
れを基板上に塗布、乾燥してもよく、あるいは塗布液中
に各種水性エマルジョン等の樹脂分を添加したものを塗
布、乾燥してもよい。

なお、場合によっては、これら塗布液を基板りに配設す
るのではなく、磁性薄膜層上にトップコート層として配
設することもできる。

また、樹脂分を用いる場合、これら微粒子にもとづく微
細突起に重畳してゆるやかな突起を設けることもできる
が、通常はこのようにする必要はない。

もし必要であるならば、強磁性金属薄膜層の最上層と最
下層との間に非磁性金属薄膜層を介在させてもよい。

本発明において、磁性層の形成は、いわゆる斜め蒸着法
によって形成されることが好ましい。

この場合、基体法線に対する蒸着物質の最小入射角は、
特に制限はない。

また、磁性層は一工程で２層以−Ｌを連続して設層して
もよいが、通常は、各層毎に蒸着工程に流して設層する
ことか好ましい。

このように、磁性層の設層な各層毎に分ける１　に とにより、前述のように、基体法線に対する磁性柱状結
晶粒の傾斜の向きが相隣接する各層間で、媒体の長さ方
向で相対向する向きとなる。

このような磁性層構成とすることにより、電磁変換特性
は極めて良好となる。

なお、蒸着雰囲気は、通常、アルゴン、ヘリウム、真空
等の不活性雰囲気に、酸素ガスを含む雰囲気とし、１０
−′−〜１０°Ｐａ程度の圧力とし、また、蒸着距離、
基体搬送方向、キャンやマスクの構造、配置等は公知の
条件と同様にすればよい。

そして、酸素雰囲気での蒸着により、表面に金属酸化物
の被膜が形成される。　なお、金属酸化物が形成される
酸素ガス分圧は、実験から容易に求めることができる。

なお、表面に金属酸化物の被膜を形成するには、各種酸
化処理が可能である。

適用できる酸化処理としては下記のようなものがある。

１）乾式処理 ａ、エネルギー粒子処理 特願昭５８−７６６４０号に記載したように、蒸着の後
期に、イオンガンや中性ガンにより酸素をエネルギー粒
子として磁性層にさしむけるもの。

ｂ、グロー処理 ０２　、　　Ｈ２０、０２＋　Ｈ２０等とＡｒ。

Ｎ２等の不活性ガスとを用い、これをグロー放電してプ
ラズマを生じさせ、このプラズマ中に磁性膜表面をさら
すもの。

Ｃ１酸化性ガス オゾン、加熱水蒸気等の酸化性ガスを吹き付けるもの。

ｄ、加熱処理 加熱によって酸化を行なうもの。　加熱温度は６０〜１
５０℃程度。

２）湿式処理 ａ、陽極酸化 す、アルカリ処理、 Ｃ９酸処理 クロム酸塩処理、過マンガン酸塩処理、リン酸塩処理等
を用いる。

ｄ、酸化剤処理 ■２０２等を用いる。

本発明の有機物のトップコート層は、放射線硬化型化合
物、すなわち放射線硬化型ポリマー、モノマー、オリゴ
マーの１種以上と、酸化防止剤と、さらに必要に応じ潤
滑剤とを含有し、かつ所定の密度と大きさの突起を有す
る強磁性金属薄膜上に設層されたものである。

さらに、本発明の媒体は、磁性層上に表面層を設層して
、走行性をより一層向上することもできる。

表面層としては、公知の種々のものが適用でき、例えば
、各種高分子物質被膜、ないしはこれに潤滑剤、酸化防
止剤、界面活性剤、無機微粒子等を含有させたものや、
各種潤滑剤の塗膜ないし気相被着膜等がある。

表面層の厚さは、５〜３００λ程度とする。

■　発明の具体的作用効果 本発明によれば、磁性層が２層以上の層構成をなすこと
により、磁性柱状結晶粒の長さが小さいものとなるため
磁性層の膜強度が向上する。　このため、走行安定性が
きわめて高く、また、走行による磁性層のクラックや磁
性面のケズレの発生がきわめて少なく、ヘッド摩耗量も
きわめて少ないものとなる。

さらに、最下層の酸素濃度Ｃ２と最上層の酸素濃度Ｃ１
との比Ｃ２／　Ｃ＋が０．３以下であることにより、最
上層では保磁力Ｈｃが相対的に高くなり、比較的浅い磁
界を有する中心周波数が５ＭＩＩｙ、程度の信号を有効
に保持し、かつ分解能が良好なものとなる。　また、最
下層では、最大残留磁束φｒ、角形比が高くなり、比較
的深い磁界を有する中心周波数０．７５ＭＨｚ程度の信
号を有効に保持するものである。

■　発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。

実施例１ 下記表１に示す厚さのポリエステル（ＰＥＴ）フィルム
を円筒状、冷却キャンの周面に沿わせて移動させ、０２
＋Ａｒ　（容積比１：１）を毎分８００ｃｃの早さで流
し真空度を１．ＯＸ　１０−’Ｔｏｒｒとしたチャンバ
ー内で、Ｃ。

８０、Ｎｉ２０（重量比）の合金を溶融し入射角を表１
に示す入射角として、斜め蒸着により第１図に示される
Ｃｏ−Ｎｉ−０の２層薄膜を形成した。

また、比較として、入射角３０〜９０”の部分のみ斜め
蒸着し膜厚ｏ、１５μｍのＣｏ−Ｎｉ−０の単層薄膜を
形成した。

酸素は下層と上層との界面およびベースと反対側の表面
に多く偏在していた。　また、ペースと反対側の表面は
ほぼ酸化物のみで覆われていた。

Ｈｃ＝１０００　０ｅ。　１１Ｑ中の平均酸素量はＣｏ
とＮｉに対する原−ｒ＝比 で４０％であった。

表１にはＡｒにてイオンエツチングを行ないながら、オ
ージェ分光分析を行なって得たＯ／（ＣｏまたはＣｏ　
−１−Ｎ　ｉ　）原ｒ比のうち、Ｃ１（表面）　、　Ｃ
Ｉ”　（−，１一層・ト均）、Ｃ２（ベース界面）、Ｃ
２”（下層平均）が併記される。

このようにして形成した下記表１に示す各サンプルにつ
き、Ｆ記の測定を行なった。　なお、媒体走行方向と、
下層の基体法線に対する傾きの方向とを同　方向とした
。

１）耐久性 温度２０℃、湿度６０％ＲＨの条件下、および温度４０
℃、湿度８０％ＲＨの条件下で連続走行テストを行ない
、出力が２ｄＢ低下するまでのバス回数を求めた。

使用デツキ：５ＯＮＹ　　Ａ−３００ ヘッドニスバッタ　センダスト ２）電磁変換特性 中心周波数０．７５ＭＩＩｚおよび５ＭＩＩｚの出力を
測定し、サンプルＮｏ、６の出方をＯｄＢとした時の値
を求めた。

イ吏用デツキ：５ＯＮＹ　　Ａ−３００ヘッド：スパッ
タ　センダスト モード：ＳＰモード １Ｎ開昭６３−１０３１５（８） 表１にｉｌ＜される結果より本発明の効果は明らかであ
る。

４、図面のｔｉｓｉ　ｌｌｌ−な説明 第１図は、本発明の磁気記録媒体の１実施例の媒体方向
に平行な断面の模式図である。

第２図は、本発明の磁気記録媒体の他の実施例の媒体方
向に・ＩＩ−行な断面の模式図である。

符号の説明 １・・・磁気記録媒体、 ２・・・基体、 ３・・・強磁性金属薄膜下層部、 ４・・・強磁性金属薄膜り周部、 ５・・・下層結晶粒、 ６・・・上層結晶粒、 矢印ａ・・・媒体長さ方向 出願人　　ディーディーケイ株式会社 ＦＩＧ、１ □ａ ＦＩＧ、２ 手−絽タネ市正帽↓１：（自発）　　　　　　　　　　
１昭和６１年　８月２７日 昭和６１特許願第１５５５９３号 ２、発明の名称 磁気記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係　　　　　　　　特許出願人任　　所　　
　　東京都中央区日本橋−丁目１３番１号名　　称　　
　（３０６）　　ティーディーケイ株式会社代表者　　
大　歳　　　寛 ４、代理人　　〒１０１ 住　　所　　　　東京都千代田区岩本町３丁目２番２号
千代田岩木ビル４階 ｆ１８６４−４４９８　　Ｆａｘ、８６４−６２８０氏
　　名　　　　（８２８６）　　弁理士　　石　井　陽
　−５、補正の対象 （１）委任状 ３、補正の内容 （１）委任状を別紙の通り補正する。

（２）明細書の「３、発明の詳細な説明」の欄を下記の
通り補正する。

（ｉ）明細書第１３ページ第７行目〜第１４ページ第１
０行目に「このようなプラスチックフィルムの磁性層が
・・・・０．０７〜０．７μｍとされる。」とあるのを
、「このようなプラスチックフィルムの磁性層が設けら
れていない他方の面上には公知の種々の裏地層を設層す
ることが好ましい。

裏地層の材質については特に制限はないが、特に顔料と
放射線硬化型樹脂とを含有するものが好ましい。　裏地
層のＩＩ！２厚は、０．０５〜１．５μｍ、より好まし
くは０．０７〜１．０μｍとされる。」と訂正する。

（ｉｔ）明細書第２３ページ第９行目の「併記される。

」の後に、改行して、「なお、磁性層薄膜上には、ミリ
スチン酸イソプロピルの表面層を膜厚２５人にて設層し
、また、基体裏面側には０．５μｍ厚にてカーボン、シ
リカおよび放射線硬化樹脂を含む裏地層を設層した。」
を追加する。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. プラスチックフィルム上にＣｏを主成分とする強磁性金
   属薄膜層を有し、この強磁性金属薄膜層が２以上の層か
   らなる多層構造を有し、その最下層のプラスチックフィ
   ルム側界面近傍の酸素濃度Ｃ＿２を最上層のプラスチッ
   クフィルムと反対側表面近傍の酸素濃度Ｃ＿１で除した
   値Ｃ＿２／Ｃ＿１が０．３以下であることを特徴とする
   磁気記録媒体。