JPS63101388A - ジオキソラン置換有機ケイ素化合物及びその製造方法 - Google Patents
ジオキソラン置換有機ケイ素化合物及びその製造方法Info
- Publication number
- JPS63101388A JPS63101388A JP24817087A JP24817087A JPS63101388A JP S63101388 A JPS63101388 A JP S63101388A JP 24817087 A JP24817087 A JP 24817087A JP 24817087 A JP24817087 A JP 24817087A JP S63101388 A JPS63101388 A JP S63101388A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- silicon
- groups
- dioxolane
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- -1 diacrylate silicon compound Chemical class 0.000 title claims description 97
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 title claims description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 5
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 48
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 46
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 claims description 34
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 claims description 29
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 26
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical group C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 150000005826 halohydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 24
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 24
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 21
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 19
- 229910052990 silicon hydride Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 13
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 10
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 10
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 10
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 7
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 claims description 7
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 39
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 150000004862 dioxolanes Chemical group 0.000 description 23
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 16
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 12
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 12
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 5
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 4
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 4
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- KDHJNSAZMYPQKD-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethyl-4-(prop-2-enoxymethyl)-1,3-dioxolane Chemical compound CC1(C)OCC(COCC=C)O1 KDHJNSAZMYPQKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N Dimethyl sulfide Chemical compound CSC QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHMYBWIOLGKSHO-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-1,3-dioxolane Chemical group C=C1OCCO1 VHMYBWIOLGKSHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical group CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical group CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 2
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000654 isopropylidene group Chemical group C(C)(C)=* 0.000 description 2
- 239000002655 kraft paper Substances 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical class 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- UROHSXQUJQQUOO-UHFFFAOYSA-M (4-benzoylphenyl)methyl-trimethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(C[N+](C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UROHSXQUJQQUOO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWMWNFMRSKOCEY-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-1,2-ethanediol Chemical compound OCC(O)C1=CC=CC=C1 PWMWNFMRSKOCEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAOHAQSLJSMLAT-UHFFFAOYSA-N 1-butylperoxybutane Chemical compound CCCCOOCCCC PAOHAQSLJSMLAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- OAMHTTBNEJBIKA-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trichloro-1-phenylethanone Chemical class ClC(Cl)(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 OAMHTTBNEJBIKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIJBDWPVNAYVGY-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethyl-1,3-dioxolane Chemical compound CC1(C)OCCO1 SIJBDWPVNAYVGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNGHAYJUVTBAK-UHFFFAOYSA-N 2,3,3-trichlorooxepane Chemical compound ClC1OCCCCC1(Cl)Cl OFNGHAYJUVTBAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAKCOSURAUIXFG-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxypropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)COCC=C PAKCOSURAUIXFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100278987 Arabidopsis thaliana ECH2 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGIPLVZJFADCEC-UHFFFAOYSA-N CC(CCOC1OCOC1)[Si](OC)(OC)OC Chemical compound CC(CCOC1OCOC1)[Si](OC)(OC)OC GGIPLVZJFADCEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282376 Panthera tigris Species 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108091006503 SLC26A1 Proteins 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003187 abdominal effect Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000006136 alcoholysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004965 chloroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000013270 controlled release Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000009089 cytolysis Effects 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQYRAPOCLKGWSF-UHFFFAOYSA-N dichloro-[4-[(2,2-dimethyl-1,3-dioxolan-4-yl)methoxy]butan-2-yl]silane Chemical compound CC(CCOCC1OC(OC1)(C)C)[SiH](Cl)Cl WQYRAPOCLKGWSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005059 halophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004687 hexahydrates Chemical group 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N methacrylic anhydride Chemical class CC(=C)C(=O)OC(=O)C(C)=C DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical class CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N methyl phenylglyoxalate Chemical compound COC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- RXQXPMOQOKMLRT-UHFFFAOYSA-N n'-[[methoxy-methyl-(2-methylpropyl)silyl]oxymethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CC(C)C[Si](C)(OC)OCNCCN RXQXPMOQOKMLRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000003739 neck Anatomy 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001843 polymethylhydrosiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005336 safety glass Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000004447 silicone coating Substances 0.000 description 1
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 150000007970 thio esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005323 thioketone group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0801—General processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はジオキソラン、ジオール或いはジアクリレート
基を含有する有機ケイ素化合物及びそれらの製造方法及
び用途に関する。より具体的には、本発明は新規中間体
を介して水素化ケイ素から製造された1個以上のケイ素
結合ジアクリレート基を含有する重合性有機ケイ素化合
物及び基材に硬化被膜を設けるそれらの重合性有機ケイ
素化合物の用途に関する。
基を含有する有機ケイ素化合物及びそれらの製造方法及
び用途に関する。より具体的には、本発明は新規中間体
を介して水素化ケイ素から製造された1個以上のケイ素
結合ジアクリレート基を含有する重合性有機ケイ素化合
物及び基材に硬化被膜を設けるそれらの重合性有機ケイ
素化合物の用途に関する。
以下余白
〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕1個
以上の懸垂ジオール基を含有するオルガノシロキサン化
合物の製造はオカザキ等により米国特許第4,431.
789号明細書に示唆されている。しかしながら、これ
らの化合物のこの示唆された合成方法は水素化シロキサ
ンによる脂肪族不飽和ジオール化合物のヒドロシリル化
よりなるものである。ケイ素結合水素原子のアルコール
基並びに脂肪族不飽和結合との容易な反応に漏み、その
様な反応条件下においては相当量の架橋が5iOC結合
形成及びSiC結合形成により生じ、又加水分解性ゲル
がこの方法によって得られるように思われる。
以上の懸垂ジオール基を含有するオルガノシロキサン化
合物の製造はオカザキ等により米国特許第4,431.
789号明細書に示唆されている。しかしながら、これ
らの化合物のこの示唆された合成方法は水素化シロキサ
ンによる脂肪族不飽和ジオール化合物のヒドロシリル化
よりなるものである。ケイ素結合水素原子のアルコール
基並びに脂肪族不飽和結合との容易な反応に漏み、その
様な反応条件下においては相当量の架橋が5iOC結合
形成及びSiC結合形成により生じ、又加水分解性ゲル
がこの方法によって得られるように思われる。
加水分解性ゲルの存在は特許権者の目的のためには如何
なる実質的結果のものではないが、該ゲルはその生成物
を被覆組成物における成分として使用したいと思う場合
には許容できないものである。
なる実質的結果のものではないが、該ゲルはその生成物
を被覆組成物における成分として使用したいと思う場合
には許容できないものである。
ケイ素結合ジオール基を含有するオルガノシロキサン−
シリケート共重合体はバインズ(Pines)等により
米国特許第3.337,496号に開示されている。特
許権者により示唆されるこの合成経路はエポキシ基含有
基を含有するシラン類を利用するものであり、原基はシ
ランが加水分解され、縮合されてシラン−シリケート共
重合体を形成する時に、ジオール基に変化される。これ
らのエポキシ含有シラン類は脂肪族不飽和エポキシド及
び水素化シラン間のヒドロシリル化反応を介して利用可
能であると云われている。しかしながら、アリルグリシ
ジルエーテルなどのエポキシド類のヒドロシリル化は簡
単な反応ではない。
シリケート共重合体はバインズ(Pines)等により
米国特許第3.337,496号に開示されている。特
許権者により示唆されるこの合成経路はエポキシ基含有
基を含有するシラン類を利用するものであり、原基はシ
ランが加水分解され、縮合されてシラン−シリケート共
重合体を形成する時に、ジオール基に変化される。これ
らのエポキシ含有シラン類は脂肪族不飽和エポキシド及
び水素化シラン間のヒドロシリル化反応を介して利用可
能であると云われている。しかしながら、アリルグリシ
ジルエーテルなどのエポキシド類のヒドロシリル化は簡
単な反応ではない。
一方において、エポキシド置換シラン頻を与えるエポキ
シド類とクロロシラン類とのヒドロシリル化は、ラビン
ネ(Lavigoe)等、J、Organometal
。
シド類とクロロシラン類とのヒドロシリル化は、ラビン
ネ(Lavigoe)等、J、Organometal
。
Chem、、 15.57(1968)に示されている
ようにケイ素−塩素結合とエポキシド環との反応のゆえ
に不可能である。
ようにケイ素−塩素結合とエポキシド環との反応のゆえ
に不可能である。
他方、エポキシド基の基本的性質は該反応を促進するた
めに用いられる通常の金属触媒を被毒する傾向を示し、
及びシランのケイ素結合に結合した各種加水分解性基と
不均化反応を起こさせる傾向がある。それは特許権者等
の意図する用途に対しては重要でないかもしれないが、
この合成ルートが被覆組成物の製造に適したジオールシ
ラン類及びシロキサン類に導くようには思われない。
めに用いられる通常の金属触媒を被毒する傾向を示し、
及びシランのケイ素結合に結合した各種加水分解性基と
不均化反応を起こさせる傾向がある。それは特許権者等
の意図する用途に対しては重要でないかもしれないが、
この合成ルートが被覆組成物の製造に適したジオールシ
ラン類及びシロキサン類に導くようには思われない。
コッチ(Kotzsch)等(米国特許第3.825.
567号明細書)はエポキシド類のヒドロシリル化に伴
う上記問題に2.2−ジヒドロ又は2−オキソ置換基を
含有する脂肪族不飽和ジオキソランを水素化シランでヒ
ドロシリル化し、及び得られたジオキソラン含有シラン
をエポキシ含有シランに転換することにより接近した。
567号明細書)はエポキシド類のヒドロシリル化に伴
う上記問題に2.2−ジヒドロ又は2−オキソ置換基を
含有する脂肪族不飽和ジオキソランを水素化シランでヒ
ドロシリル化し、及び得られたジオキソラン含有シラン
をエポキシ含有シランに転換することにより接近した。
しかしながら、特許権者等は如何なる他の2,2−ジ置
換ジオキソラン類或いはジオキソラン含有シラン類がジ
オール含有シラン類及びシロキサン類に有用であること
を示唆していない。
換ジオキソラン類或いはジオキソラン含有シラン類がジ
オール含有シラン類及びシロキサン類に有用であること
を示唆していない。
ベックマン(Beckmann)等(米国特許第4,3
03,739号明細書)は4−(メチル−3’−(トリ
メトキシシリル)−プロポキシ)−1,3−ジオキソラ
ン及び積層安全ガラスの製造におけるその使用を開示し
ている。その合成は具体的には開示されておらず、及び
そのジオール含有ケイ素化合物への転換は示唆されてい
ない。
03,739号明細書)は4−(メチル−3’−(トリ
メトキシシリル)−プロポキシ)−1,3−ジオキソラ
ン及び積層安全ガラスの製造におけるその使用を開示し
ている。その合成は具体的には開示されておらず、及び
そのジオール含有ケイ素化合物への転換は示唆されてい
ない。
アクリル化シリコーン類はワトソン(Watson)等
(米国特許第4.331,704号明細書)により未硬
化、オイルベースインク生成物への応用のための放射線
硬化性ワニスに配合されている。モノアクリレート−モ
ノオール含有シリコーン類を多くのアクリル化シリコー
ン類が特許権者によりそれらの放射線硬化性フェスに適
したものとして言及されているが、ジアクリレート含有
シリコーン類は開示或いは示唆されていない。
(米国特許第4.331,704号明細書)により未硬
化、オイルベースインク生成物への応用のための放射線
硬化性ワニスに配合されている。モノアクリレート−モ
ノオール含有シリコーン類を多くのアクリル化シリコー
ン類が特許権者によりそれらの放射線硬化性フェスに適
したものとして言及されているが、ジアクリレート含有
シリコーン類は開示或いは示唆されていない。
本発明の主たる目的は新規、放射線−硬化性被覆組成物
を提供することである。本発明のもう一つの目的は放射
線硬化性被覆組成物を配合するために用いることのでき
る新規ケイ素化合物を製造することである。更に、本発
明の目的は、ジオキソラン−、ジオール−及びジアクリ
レート−官能性基から選ばれた1個以上のケイ素結合、
二官能性基を含有するケイ素化合物の新規製造方法を提
供することである。更に又本発明の目的は、ジオキソラ
ン−、ジオール−及びジアクリレート−官能性基から選
ばれた1個以上のケイ素結合、二官能性基を含有する改
良された純度のシロキサン重合体を製造することである
。
を提供することである。本発明のもう一つの目的は放射
線硬化性被覆組成物を配合するために用いることのでき
る新規ケイ素化合物を製造することである。更に、本発
明の目的は、ジオキソラン−、ジオール−及びジアクリ
レート−官能性基から選ばれた1個以上のケイ素結合、
二官能性基を含有するケイ素化合物の新規製造方法を提
供することである。更に又本発明の目的は、ジオキソラ
ン−、ジオール−及びジアクリレート−官能性基から選
ばれた1個以上のケイ素結合、二官能性基を含有する改
良された純度のシロキサン重合体を製造することである
。
〔問題点を解決するための手段及び作用効果〕これらの
目的及びその他の目的は以下の開示及び掲げられた特許
請求の範囲を考慮して明らかとなるものであるが、簡単
に述べると、ヒドロシリル化反応を介して新規2−置換
ジオキソラン含有ケイ素化合物を調製し、及び引続いて
それらの化合物をジオール−1及び次いでジアクリレー
ト−含有ケイ素化合物、特にシロキサン類に転換するこ
とよりなる本発明により得られる。
目的及びその他の目的は以下の開示及び掲げられた特許
請求の範囲を考慮して明らかとなるものであるが、簡単
に述べると、ヒドロシリル化反応を介して新規2−置換
ジオキソラン含有ケイ素化合物を調製し、及び引続いて
それらの化合物をジオール−1及び次いでジアクリレー
ト−含有ケイ素化合物、特にシロキサン類に転換するこ
とよりなる本発明により得られる。
これらのジアクリレート含有有機ケイ素化合物は基材に
塗布され、照射されて基材上に硬化シリコーン被膜を与
える。
塗布され、照射されて基材上に硬化シリコーン被膜を与
える。
第一の面において、本発明は、
(i)ある量の下記一般式を有するジオキソラQ ’
CHOCMM ’ H21 (ii)少なくとも1個のケイ素結合水素原子を含有す
る水素化ケイ素化合物、及び (iii )ある量のヒドロシリル化(hydrost
latfon)触媒よりなる成分を混合し、該混合の条
件及び(i)、(ii)及び(iii )の量がジオキ
ソラン化合物と水素化ケイ素化合物の間にヒドロシリル
化反応を起こさせるために十分なものであることにより
、下記一般式を有する少なくとも1個のケイ素結合ジオ
キソラン基を含有するジオキソラン置換有機ケイ素化合
物を形成する方法: co、。
CHOCMM ’ H21 (ii)少なくとも1個のケイ素結合水素原子を含有す
る水素化ケイ素化合物、及び (iii )ある量のヒドロシリル化(hydrost
latfon)触媒よりなる成分を混合し、該混合の条
件及び(i)、(ii)及び(iii )の量がジオキ
ソラン化合物と水素化ケイ素化合物の間にヒドロシリル
化反応を起こさせるために十分なものであることにより
、下記一般式を有する少なくとも1個のケイ素結合ジオ
キソラン基を含有するジオキソラン置換有機ケイ素化合
物を形成する方法: co、。
(式中、Q′は一価の脂肪族不飽和有機基であり、Mは
1〜6個の炭素原子を含有する脂肪族不飽和基のない一
価炭化水素基であり、M′はH又はMであり、及びQは
ケイ素−炭素結合によりケイ素原子に結合している二価
有機基であり、水素化ケイ素及びジオキソラン置換有機
ケイ素化合物の全ての残りのケイ素原子価は一価炭化水
素基、−価ハロ炭化水素基、−個別水分解性基、水素原
子及びケイ素原子を連結する二価基よりなる群から選ば
れた脂肪族不飽和基のない基により飽和されている) に関する。
1〜6個の炭素原子を含有する脂肪族不飽和基のない一
価炭化水素基であり、M′はH又はMであり、及びQは
ケイ素−炭素結合によりケイ素原子に結合している二価
有機基であり、水素化ケイ素及びジオキソラン置換有機
ケイ素化合物の全ての残りのケイ素原子価は一価炭化水
素基、−価ハロ炭化水素基、−個別水分解性基、水素原
子及びケイ素原子を連結する二価基よりなる群から選ば
れた脂肪族不飽和基のない基により飽和されている) に関する。
上記脂肪族不飽和ジオキソラン化合物(i)の式におい
て、Q′は一価の脂肪族不飽和有機基を示す。Q′はヒ
ドロシリル化可能である即ち以下に説明する水素化ケイ
素と反応性である脂肪族不飽和結合を含有する任意の一
価有機基であり得るが、それは好ましくはオレフィン性
不飽和基である。Q′は好ましくは末端不飽和即ち開放
末端がジオキソラン部分の第四原子に直接或いは間接に
結合したCH,=CH−構造を有するのが好ましい。
て、Q′は一価の脂肪族不飽和有機基を示す。Q′はヒ
ドロシリル化可能である即ち以下に説明する水素化ケイ
素と反応性である脂肪族不飽和結合を含有する任意の一
価有機基であり得るが、それは好ましくはオレフィン性
不飽和基である。Q′は好ましくは末端不飽和即ち開放
末端がジオキソラン部分の第四原子に直接或いは間接に
結合したCH,=CH−構造を有するのが好ましい。
任意に、Q′は炭素及び水素に加えてケイ素原子を特別
に選ばれた部分で結合するためにのみ役立つ二価基に通
常見られるその他の原子を含むことができる。該その他
の原子としては、例えば非プロトン原子、イオウ及び窒
素原子などが挙げられる。非プロトンO,N及びS原子
としてはエーテル類、エステル類、アミド類の酸素原子
、アミド類及び三級アミン類の窒素原子及びチオエーテ
ル類、チオエステル類及びチオケトン類のイオウ原子が
挙げられる。
に選ばれた部分で結合するためにのみ役立つ二価基に通
常見られるその他の原子を含むことができる。該その他
の原子としては、例えば非プロトン原子、イオウ及び窒
素原子などが挙げられる。非プロトンO,N及びS原子
としてはエーテル類、エステル類、アミド類の酸素原子
、アミド類及び三級アミン類の窒素原子及びチオエーテ
ル類、チオエステル類及びチオケトン類のイオウ原子が
挙げられる。
好ましいQ′基の具体例としては、
CHz=CHCHzOCHz−5CH2=CH−1CH
z’=CHCHz−2CHz=CHCHzCHt−及び
CHz=C)IOCHt−などが挙げられる。
z’=CHCHz−2CHz=CHCHzCHt−及び
CHz=C)IOCHt−などが挙げられる。
ジオキソラン(i)のM基は1〜6個の炭素原子を有す
る任意の一価炭素原子基であり得る。それらは典型的に
はジオキソラン部分を製造するために使用されたアルデ
ヒド或いはケトンにそれらの起源を有する。従って、そ
れらはアルデヒド或いはケトン例えばグリコールとの反
応を容易に行い、ジオキソラン部分を形成する基である
。それらは又、本発明の目的のためには本発明のジオー
ル化合物を提供するために適当な時点においてジオキソ
ラン環からアルデヒド或いはケトン分子の容易な除去を
可能にする基である。
る任意の一価炭素原子基であり得る。それらは典型的に
はジオキソラン部分を製造するために使用されたアルデ
ヒド或いはケトンにそれらの起源を有する。従って、そ
れらはアルデヒド或いはケトン例えばグリコールとの反
応を容易に行い、ジオキソラン部分を形成する基である
。それらは又、本発明の目的のためには本発明のジオー
ル化合物を提供するために適当な時点においてジオキソ
ラン環からアルデヒド或いはケトン分子の容易な除去を
可能にする基である。
M基の具体例としてはメチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、フェニル基及びシクロヘキシル基などが挙げられ
る。M′基は水素原子或いはM基のいづれかである。M
及びM′は所望に応じて同−或いは異ってよいが、しか
し、M及びM′は好ましくは共に炭化水素基量も好まし
くはメチル基である。
ル基、フェニル基及びシクロヘキシル基などが挙げられ
る。M′基は水素原子或いはM基のいづれかである。M
及びM′は所望に応じて同−或いは異ってよいが、しか
し、M及びM′は好ましくは共に炭化水素基量も好まし
くはメチル基である。
本発明の方法のために適した脂肪族不飽和ジオキソラン
(i)の具体例としては CHz=CHC)IzOCHzCHOCMez 及び
CI!0 CHz=CHCHzOC″□C)lOcPhHI LO (式中Meはメチル基を表わし、phはフェニル基を表
わす) が挙げられる。
(i)の具体例としては CHz=CHC)IzOCHzCHOCMez 及び
CI!0 CHz=CHCHzOC″□C)lOcPhHI LO (式中Meはメチル基を表わし、phはフェニル基を表
わす) が挙げられる。
本発明において使用されるジオキソラン類はグリコール
類とアセトアルデヒド或いはベンズアルデヒドなどのア
ルデヒドにより環状アセタール類であるジオキソラン類
を形成するか、或いはアセトン或いはアセトフェノンな
どのケトンと環状ケタール類であるジオキソラン類を形
成する。
類とアセトアルデヒド或いはベンズアルデヒドなどのア
ルデヒドにより環状アセタール類であるジオキソラン類
を形成するか、或いはアセトン或いはアセトフェノンな
どのケトンと環状ケタール類であるジオキソラン類を形
成する。
水素化ケイ素化合物(ii)はヒドロシリル化に関与す
るのに利用可能である分子当り平均少なくとも1個のケ
イ素結合水素原子を含有する限り任意の構造を有し得る
。適当なケイ素水素化化合物の具体例としては、複数の
ケイ素原子を含有する水素化シラン及び水素化ケイ素例
えば水素化シロキサン、水素化ジルカルパン及び水素化
シロキサン−ジルカルパンなどが挙げられる。
るのに利用可能である分子当り平均少なくとも1個のケ
イ素結合水素原子を含有する限り任意の構造を有し得る
。適当なケイ素水素化化合物の具体例としては、複数の
ケイ素原子を含有する水素化シラン及び水素化ケイ素例
えば水素化シロキサン、水素化ジルカルパン及び水素化
シロキサン−ジルカルパンなどが挙げられる。
水素原子によって飽和されていない水素化ケイ素の任意
のケイ素原子価は一価炭化水素基、−価ハロ炭化水素基
、−個展水分解性基及びケイ素原子を連結する二価基よ
りなる群から選ばれた脂肪族不飽和基のない基により飽
和されている。
のケイ素原子価は一価炭化水素基、−価ハロ炭化水素基
、−個展水分解性基及びケイ素原子を連結する二価基よ
りなる群から選ばれた脂肪族不飽和基のない基により飽
和されている。
ケイ素原子を連結する該二価基の具体例としては、シロ
キサン基を与える炭素原子、シラザン結合を与える窒素
原子、及びシリカルパン基を与える脂肪族飽和炭化水素
、炭化水素エーテル、ハロ炭化水素エーテル及びハロ炭
化水素基などが挙げられる。この二価基は所望に応じて
同−或いは異種であり得るが、しかしそれらは好ましく
は全て酸素原子であるのがよい。即ち、複数のケイ素原
子を含有する水素化ケイ素(ii )は好ましくは水素
化シロキサンである。
キサン基を与える炭素原子、シラザン結合を与える窒素
原子、及びシリカルパン基を与える脂肪族飽和炭化水素
、炭化水素エーテル、ハロ炭化水素エーテル及びハロ炭
化水素基などが挙げられる。この二価基は所望に応じて
同−或いは異種であり得るが、しかしそれらは好ましく
は全て酸素原子であるのがよい。即ち、複数のケイ素原
子を含有する水素化ケイ素(ii )は好ましくは水素
化シロキサンである。
ここにおいて又、R基としても称される該−価炭化水素
基の具体例としては1〜20個の炭素原子を有するアル
キル基、例えばCH,−1CH3C1+z−1(CH3
)2CH−、C6H13−1C11HI7−1CIOH
21−及びC2゜H41−,3〜8個の炭素原子を有す
る脂環基例えばシクロヘキシル基、6〜20個の炭素原
子を有するアリール基例えばフェニル、トリル、キシリ
ル、アントラシル及びキセニル基など、及び7〜20個
の炭素原子を有するアラルキル基例えばベンジル及び2
−フェニルエチル基などが挙げられる。本発明の目的の
ために典型的な一価炭化水素基はメチル基及びフェニル
基である。
基の具体例としては1〜20個の炭素原子を有するアル
キル基、例えばCH,−1CH3C1+z−1(CH3
)2CH−、C6H13−1C11HI7−1CIOH
21−及びC2゜H41−,3〜8個の炭素原子を有す
る脂環基例えばシクロヘキシル基、6〜20個の炭素原
子を有するアリール基例えばフェニル、トリル、キシリ
ル、アントラシル及びキセニル基など、及び7〜20個
の炭素原子を有するアラルキル基例えばベンジル及び2
−フェニルエチル基などが挙げられる。本発明の目的の
ために典型的な一価炭化水素基はメチル基及びフェニル
基である。
ここにおいてR基としても称される該−価ハロ炭化水素
基の具体例としてはその1個以上の水素原子がハロゲン
原子好ましくはフ・ノ素或いは塩素、しかし又臭素その
他のハロゲン原子を包含するハロゲン原子により置換さ
れた上記任意の一価炭化水素基が挙げられる。その好ま
しい具体例としてはクロロアルキル基例えばクロロプロ
ピル基及びクロロイソブチル基、フルオロアルキル基例
えばC,Fz、、−+CHzC)Iz−(式中、nは1
〜10の値を有する)及びハロフェニル基例えば塩素化
及び/又はフッ素化フェニル基などが挙げられる。
基の具体例としてはその1個以上の水素原子がハロゲン
原子好ましくはフ・ノ素或いは塩素、しかし又臭素その
他のハロゲン原子を包含するハロゲン原子により置換さ
れた上記任意の一価炭化水素基が挙げられる。その好ま
しい具体例としてはクロロアルキル基例えばクロロプロ
ピル基及びクロロイソブチル基、フルオロアルキル基例
えばC,Fz、、−+CHzC)Iz−(式中、nは1
〜10の値を有する)及びハロフェニル基例えば塩素化
及び/又はフッ素化フェニル基などが挙げられる。
芸においても又Zとしても称される該−個別水分解性基
の具体例としては、ハロゲン原子、好ましくは塩素原子
、アルコキシ基、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、
及びイソプロポキシ基、アルコキシアルコキシ基、例え
ばメトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基及びメトキ
シイソプロポキシ基、アミド基、例えばアセトアミド及
びN−メチルアセトアミド、及びオキシム基例えばメチ
ルエチルケトキシモ基などが挙げられる。
の具体例としては、ハロゲン原子、好ましくは塩素原子
、アルコキシ基、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、
及びイソプロポキシ基、アルコキシアルコキシ基、例え
ばメトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基及びメトキ
シイソプロポキシ基、アミド基、例えばアセトアミド及
びN−メチルアセトアミド、及びオキシム基例えばメチ
ルエチルケトキシモ基などが挙げられる。
水素化ケイ素(ii)は一般式R,5iH7(3−0(
式中、Z及びRは上記−個別水分解性基及び一価炭化水
素及びハロ炭化水素基をそれぞれ表わし、好ましい具体
例を包含する)を有する任意の水素化シランであり得る
。aの値は0.1.2或いは3であることが出来、それ
によりR:+5iH−Z:+SiHの範囲の水素化シラ
ンを包含する。存在する場合には、Zは好ましくは塩素
であり、Rはメチル基である。
式中、Z及びRは上記−個別水分解性基及び一価炭化水
素及びハロ炭化水素基をそれぞれ表わし、好ましい具体
例を包含する)を有する任意の水素化シランであり得る
。aの値は0.1.2或いは3であることが出来、それ
によりR:+5iH−Z:+SiHの範囲の水素化シラ
ンを包含する。存在する場合には、Zは好ましくは塩素
であり、Rはメチル基である。
本発明の目的のために適当な水素化シランの具体例とし
ては、R35tH%例えばMe3SiH、MezPhS
iH。
ては、R35tH%例えばMe3SiH、MezPhS
iH。
PhzMeSiH、C4FqCHzCHz(Me)zs
iH及びCF3CHgCHg (Me) zsiH;
RzS5CIH、例えばMezSiClll。
iH及びCF3CHgCHg (Me) zsiH;
RzS5CIH、例えばMezSiClll。
MePhSiCIH、PhzSiCIH、C4F’wC
HzCHz(Me)SiCIH及びCFsCHzCHz
(Me)SiCIH; R31C1+Fl 、例えばM
eSiCIz)I 、 Ph5iCIJ 、 CJgC
lhCHzSiClzH及びCFICHzCHzSiC
lzH;及びCI、+SiHなどが挙げられる。
HzCHz(Me)SiCIH及びCFsCHzCHz
(Me)SiCIH; R31C1+Fl 、例えばM
eSiCIz)I 、 Ph5iCIJ 、 CJgC
lhCHzSiClzH及びCFICHzCHzSiC
lzH;及びCI、+SiHなどが挙げられる。
水素化ケイ素(ii)は文武RJSiOtz−b> /
2を有する少なくとも1個のシロキサン単位及び存在す
る場合には式Re5iO(4−e) /□の任意のその
他のシロキサン単位を含有する任意の水素化シロキサン
でもあり得る。Rは上記一価炭化水素及びハロ炭化水素
基を示し、その好ましい具体例を包含する。
2を有する少なくとも1個のシロキサン単位及び存在す
る場合には式Re5iO(4−e) /□の任意のその
他のシロキサン単位を含有する任意の水素化シロキサン
でもあり得る。Rは上記一価炭化水素及びハロ炭化水素
基を示し、その好ましい具体例を包含する。
bの値はQ、1又は2であることができ、及びCの値は
0,1.2又は3であることができ、それにより三置換
即ち鎖−末端単位乃至未置換即ち網目単位の範囲のシロ
キサン単位を許容する。
0,1.2又は3であることができ、それにより三置換
即ち鎖−末端単位乃至未置換即ち網目単位の範囲のシロ
キサン単位を許容する。
水素化シロキサン(ii)中に存在することのできる典
型的シロキサン単位の具体例としてはR35iO+/−
z単位、例えばMe+5t01zz 、 PhMezS
i017z及びCFzC1lzCHJe2SiO+zz
; RzHSiol/z単位例えばHMe2SiO+
zz及びllPhMesio+7z ; R2SiOz
/z単位例えばMe2SiOzzz 、 MePhS
iOz/z +CFzCHzCHzMeSiOzzz
l Pt+2SiOz/z及びCF3CPzCFzCF
zCHzCHJeSiOzzz + RH5iOzzz
、例えばMeHSjOzyz 、 CFzCHzCH
z(H)SiOzzz 、 PhHSiOzzz及びC
4F、CHzCHz(H)Si(hzz ; R31o
3zz単位、例えばMeSiO+zz 、 Ph5iO
+zz 、 CF3CHzCH2SiOz/z及びCF
+CFzChChCHzCfltSiO:+/z ;
HSiO*zz ; 及び5iOa/zなどが挙げら
れる。
型的シロキサン単位の具体例としてはR35iO+/−
z単位、例えばMe+5t01zz 、 PhMezS
i017z及びCFzC1lzCHJe2SiO+zz
; RzHSiol/z単位例えばHMe2SiO+
zz及びllPhMesio+7z ; R2SiOz
/z単位例えばMe2SiOzzz 、 MePhS
iOz/z +CFzCHzCHzMeSiOzzz
l Pt+2SiOz/z及びCF3CPzCFzCF
zCHzCHJeSiOzzz + RH5iOzzz
、例えばMeHSjOzyz 、 CFzCHzCH
z(H)SiOzzz 、 PhHSiOzzz及びC
4F、CHzCHz(H)Si(hzz ; R31o
3zz単位、例えばMeSiO+zz 、 Ph5iO
+zz 、 CF3CHzCH2SiOz/z及びCF
+CFzChChCHzCfltSiO:+/z ;
HSiO*zz ; 及び5iOa/zなどが挙げら
れる。
水素化シロキサン(ii)は気体、液体、或いは固体形
態などの任意の物理的形態及び線状、環状、分岐或いは
網目構造などの任意の化学構造を有し得るが、それは好
ましくは次式で表わされる線状或いは環状構造を有する
液体物質である:(R’ Me2SiO)w(Me2S
iO)x(MeR’ SiO)y(MeHSiO)z(
SiMezR’ )w(式中、R′は該R基及び水素原
子よりなる群から選ばれた基を示す)。
態などの任意の物理的形態及び線状、環状、分岐或いは
網目構造などの任意の化学構造を有し得るが、それは好
ましくは次式で表わされる線状或いは環状構造を有する
液体物質である:(R’ Me2SiO)w(Me2S
iO)x(MeR’ SiO)y(MeHSiO)z(
SiMezR’ )w(式中、R′は該R基及び水素原
子よりなる群から選ばれた基を示す)。
線状及び環状水素化シロキサン類はそれらが被覆組成物
に特に接着剤−剥離被覆組成物における硬化性成分とし
て有効である液体硬化性ジアクリレート含有化合物組成
物を与えるので、ジオキソラン含有シロキサン類の製造
のための水素化シロキサン反応物質(ii)として好ま
しい。
に特に接着剤−剥離被覆組成物における硬化性成分とし
て有効である液体硬化性ジアクリレート含有化合物組成
物を与えるので、ジオキソラン含有シロキサン類の製造
のための水素化シロキサン反応物質(ii)として好ま
しい。
この式において、x、y、z及びx+y+zは0以上の
平均値を有し、Wは共に0又は1の値を有するが、ただ
し、水素化シロキサンの分子当り平均少なくとも1個の
ケイ素結合水素原子が存在する。
平均値を有し、Wは共に0又は1の値を有するが、ただ
し、水素化シロキサンの分子当り平均少なくとも1個の
ケイ素結合水素原子が存在する。
例えば上記式を有する線状水素化シロキサンでは各Wは
1の値を有しかつx+y+zは0以上の平均値を有する
ことにより次式及び25℃において1センチスト一ク程
度の粘度乃至数百刃センチストークスの粘度を有する水
素化シロキサンを与える。
1の値を有しかつx+y+zは0以上の平均値を有する
ことにより次式及び25℃において1センチスト一ク程
度の粘度乃至数百刃センチストークスの粘度を有する水
素化シロキサンを与える。
R’ Me2SiO(Me2SiO) x(MeR’
5in) y(MeHSiO)、SiMeJ ’原線状
水素化シロキサンの好ましい具体例としては次のものが
挙げられる: Me2SiO(Me2SiO)x(MeHSiO)、S
tMe、 ;HMe2SiO(Me2SiO)xSiM
ezH及びHMe2SiO(Me2SiO)x(MeH
SiO)、SiMeJ。
5in) y(MeHSiO)、SiMeJ ’原線状
水素化シロキサンの好ましい具体例としては次のものが
挙げられる: Me2SiO(Me2SiO)x(MeHSiO)、S
tMe、 ;HMe2SiO(Me2SiO)xSiM
ezH及びHMe2SiO(Me2SiO)x(MeH
SiO)、SiMeJ。
(式中、2は1〜、例えば50の値を有し、Xは例えば
0〜数百の値を有する。) 該線状水素化シロキサンの追加の具体例としては次のも
のが挙げられる: Me2SiO(Me2SiO)x(MeHSiO)y(
MetlSiO)gsiMez ;HMe2SiO(M
egSiO) 、(MeRSiO) 、SiMeJ
及びHMe、SiO(Me、5iO) 、(MeRSi
O) y(MeHSiO) gsiMezH。
0〜数百の値を有する。) 該線状水素化シロキサンの追加の具体例としては次のも
のが挙げられる: Me2SiO(Me2SiO)x(MeHSiO)y(
MetlSiO)gsiMez ;HMe2SiO(M
egSiO) 、(MeRSiO) 、SiMeJ
及びHMe、SiO(Me、5iO) 、(MeRSi
O) y(MeHSiO) gsiMezH。
(式中、Rは例えばフェニル基、アルキル基或いはフッ
素化基例えばCP3CH2C)Ig−又はChChCh
CFzCHzCHz−を表わし、Xは例えば0〜数百の
値を有し、yは1〜例えば数百の値を有し、2は1〜例
えば50の値を有する。) 上記一般式を有する環状水素化シロキサンでは、各Wは
Oの値を有しかつx+y+zは3以上の値を有すること
により次式及び25°において1センチストークの低い
粘度を有する液体或いは低−融点水素化シロキサンを与
える: (MegSiO) X(MeR’ 5in) y(Me
HSiO) t。
素化基例えばCP3CH2C)Ig−又はChChCh
CFzCHzCHz−を表わし、Xは例えば0〜数百の
値を有し、yは1〜例えば数百の値を有し、2は1〜例
えば50の値を有する。) 上記一般式を有する環状水素化シロキサンでは、各Wは
Oの値を有しかつx+y+zは3以上の値を有すること
により次式及び25°において1センチストークの低い
粘度を有する液体或いは低−融点水素化シロキサンを与
える: (MegSiO) X(MeR’ 5in) y(Me
HSiO) t。
該環状水素化シロキサンの具体例としては次のものが挙
げられる; (MegSiO)g(MeHSiO)z及び(Me2S
iO)x(MeHSiO)y(MeHSiO)−;(式
中、Rはフェニル基、アルキル基又はCFzCHzCH
z又はCF+CF3CFzChCHzCHz−などのフ
ッ素化基を示し、Xは例えば0〜10の値を有し、yは
1〜例えば10の値を有し、2は1〜例えば10の値を
有する)。
げられる; (MegSiO)g(MeHSiO)z及び(Me2S
iO)x(MeHSiO)y(MeHSiO)−;(式
中、Rはフェニル基、アルキル基又はCFzCHzCH
z又はCF+CF3CFzChCHzCHz−などのフ
ッ素化基を示し、Xは例えば0〜10の値を有し、yは
1〜例えば10の値を有し、2は1〜例えば10の値を
有する)。
10個のケイ素原子を有するポリ (メチル水素)シク
ロシロキサン類が好ましい環状水素化シロキサンである
。
ロシロキサン類が好ましい環状水素化シロキサンである
。
水素化ケイ素(ii )は又任意の水素化ジルカルパン
或いは水素化シロキサン−ジルカルパンであり得る。水
素化ジルカルパンはケイ素原子を結合する水素原子が二
価有機基により置換されることにより重合体骨格中にケ
イ素−酸素結合よりもむしろ、ケイ素−炭素結合を与え
る構造的に水素化シロキサンに類似した公知化合物であ
る。該二価有機基の典型例は上記の通りである。水素化
ジルカルパンの典型例としては水素化シルエチレン及び
水素化シルフェニレンが挙げられる。
或いは水素化シロキサン−ジルカルパンであり得る。水
素化ジルカルパンはケイ素原子を結合する水素原子が二
価有機基により置換されることにより重合体骨格中にケ
イ素−酸素結合よりもむしろ、ケイ素−炭素結合を与え
る構造的に水素化シロキサンに類似した公知化合物であ
る。該二価有機基の典型例は上記の通りである。水素化
ジルカルパンの典型例としては水素化シルエチレン及び
水素化シルフェニレンが挙げられる。
上記化合物に加えて水素化ケイ素(ii)は又1個を越
える水素原子を有するケイ素原子を含有するケイ素化合
物よりなり得るが、しかし、その様なケイ素多水素化物
は上記水素化ケイ素よりも取扱いがより困難である。
える水素原子を有するケイ素原子を含有するケイ素化合
物よりなり得るが、しかし、その様なケイ素多水素化物
は上記水素化ケイ素よりも取扱いがより困難である。
ヒドロシル化触媒(iii )はケイ素−水素結合の要
素を脂肪族不飽和結合の部位、特に末端オレフィン性不
飽和結合に付加することを容易にするために有効な周知
の試薬の任意のものであり得る、ヒドロシリル化触媒と
しては、遊離ラジカル開始剤、光開始剤及び貴金属化合
物が挙げられる。
素を脂肪族不飽和結合の部位、特に末端オレフィン性不
飽和結合に付加することを容易にするために有効な周知
の試薬の任意のものであり得る、ヒドロシリル化触媒と
しては、遊離ラジカル開始剤、光開始剤及び貴金属化合
物が挙げられる。
適当な遊離ラジカル開始剤の具体例としてはレドックス
対、過ホウ酸塩、過炭酸塩、光化学系、アゾ−ビス(イ
ソブチロニトリル)などのアゾ化合物、ベンゾイルパー
オキシドなどのアシル過酸化物、ジーし一ブチルバーオ
キシドなどのアルキル過酸化物及びキュメンハイドロパ
ーオキシドなどのハイドロパーオキシドなどが挙げられ
るが、これらに限られるものではない。
対、過ホウ酸塩、過炭酸塩、光化学系、アゾ−ビス(イ
ソブチロニトリル)などのアゾ化合物、ベンゾイルパー
オキシドなどのアシル過酸化物、ジーし一ブチルバーオ
キシドなどのアルキル過酸化物及びキュメンハイドロパ
ーオキシドなどのハイドロパーオキシドなどが挙げられ
るが、これらに限られるものではない。
適当な光開始剤の具体例としては、ベンゾイン、ベンゾ
インアルキルエーテル例えばメチル、エチル、イソプロ
ピル又はイソブチルベンゾインエーテル、ジェトキシア
セトフェノンなどのアセトフェノン誘導体例えばジェト
キシアセトフェノン、ジー及びトリクロロアセトフェノ
ン類、α、α−ジメトキシーα−フェニルアセトフヱノ
ン、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2
−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1
−オン、メチルフェニルグリオキシレート、4−ベンゾ
イルベンジル−トリメチルアンモニウムクロライド、α
−アシルオキシムエステル類例えば1−フェニル−1,
2−プロパンジオン−2−(0−エトキシカルボニルオ
キシム)、チオキサンクン及びその誘導体、N)l基及
びアゾ−ビス(イソブチロニトリル)などの連鎖移動剤
と組合わされたベンゾフェノンなどが挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。
インアルキルエーテル例えばメチル、エチル、イソプロ
ピル又はイソブチルベンゾインエーテル、ジェトキシア
セトフェノンなどのアセトフェノン誘導体例えばジェト
キシアセトフェノン、ジー及びトリクロロアセトフェノ
ン類、α、α−ジメトキシーα−フェニルアセトフヱノ
ン、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2
−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1
−オン、メチルフェニルグリオキシレート、4−ベンゾ
イルベンジル−トリメチルアンモニウムクロライド、α
−アシルオキシムエステル類例えば1−フェニル−1,
2−プロパンジオン−2−(0−エトキシカルボニルオ
キシム)、チオキサンクン及びその誘導体、N)l基及
びアゾ−ビス(イソブチロニトリル)などの連鎖移動剤
と組合わされたベンゾフェノンなどが挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。
貴金属含有化合物の具体例としては、白金族金属含有触
媒化合物が挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。ここに白金族とはルテニウム、ロジウム、パラジ
ウム、オスミウム、イリジウム及び白金を意味する。成
分(iii )は白金族金属、白金族金属を有する担体
例えばシリカゲル或いは粉末化木炭、或いは白金族金属
の化合物或いは錯体であり得る。
媒化合物が挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。ここに白金族とはルテニウム、ロジウム、パラジ
ウム、オスミウム、イリジウム及び白金を意味する。成
分(iii )は白金族金属、白金族金属を有する担体
例えばシリカゲル或いは粉末化木炭、或いは白金族金属
の化合物或いは錯体であり得る。
本発明の方法において、好ましい白金含有触媒成分はそ
の有機ケイ素系における容易な分散性の理由により通常
利用可能な六水和物の形態或いは無水形態のいづれかで
あるクロロ白金酸の形態である。特に有用なりロロ白金
酸の形態はそれが脂肪族不飽和有機ケイ素化合物例えば
ライリング(Willing)の米国特許第3.419
.593号明細書に開示されているジビニルテトラメチ
ルジシロキサンと反応された際に得られる組成物である
。
の有機ケイ素系における容易な分散性の理由により通常
利用可能な六水和物の形態或いは無水形態のいづれかで
あるクロロ白金酸の形態である。特に有用なりロロ白金
酸の形態はそれが脂肪族不飽和有機ケイ素化合物例えば
ライリング(Willing)の米国特許第3.419
.593号明細書に開示されているジビニルテトラメチ
ルジシロキサンと反応された際に得られる組成物である
。
本発明の方法に用いられるヒドロシリル化触媒(iii
)の量は水素化ケイ素(ii >のケイ素結合水素原
子とジオキソラン化合物(i)の脂肪族不飽和結合の間
の反応を促進するのに十分な量がある限り、狭く限定さ
れるものではない。該触媒成分の正確な必要量は特別な
触媒に応じて異り、容易に予測することはできない。し
かしながら、クロロ白金酸については酸量は(i)+(
ii)の百万部に対して1重量部の白金の程度に低くあ
り得る。
)の量は水素化ケイ素(ii >のケイ素結合水素原
子とジオキソラン化合物(i)の脂肪族不飽和結合の間
の反応を促進するのに十分な量がある限り、狭く限定さ
れるものではない。該触媒成分の正確な必要量は特別な
触媒に応じて異り、容易に予測することはできない。し
かしながら、クロロ白金酸については酸量は(i)+(
ii)の百万部に対して1重量部の白金の程度に低くあ
り得る。
好ましくは、該量は同一基準に基づいて少なくとも10
重量部である。
重量部である。
本発明の方法において用いられるジオキソラン化合物(
i)と水素化ケイ素化合物(ii)の相対量は重要でな
く、それに関する唯一の要請は反応生成物が上記一般式
を有する平均少なくとも1個のケイ素結合ジオキソラン
基を含有するように十分な前者の量がなければならない
ということである。
i)と水素化ケイ素化合物(ii)の相対量は重要でな
く、それに関する唯一の要請は反応生成物が上記一般式
を有する平均少なくとも1個のケイ素結合ジオキソラン
基を含有するように十分な前者の量がなければならない
ということである。
本発明の方法は必要に応じて該ジオキソラン基に加えて
任意の数の未反応ケイ素結合水素原子を含有するように
実施することができる。或いは又、この方法は必要に応
じて実質的に全てのケイ素結合水素原子が反応されるよ
うに実施することができる。
任意の数の未反応ケイ素結合水素原子を含有するように
実施することができる。或いは又、この方法は必要に応
じて実質的に全てのケイ素結合水素原子が反応されるよ
うに実施することができる。
成分(i)及び(ii )の必要量は水素化ケイ素のケ
イ素結合水素含量、反応させるべき所望のケイ素結合水
素原子数及び次の一般化されたヒドロシリル化反応の化
学量論についての知識から計算することができる: この反応は反応される各ケイ素結合水素原子に対して1
個の脂肪族不飽和結合基を必要とするが、特に全ケイ素
結合水素原子が反応される場合には反応が所望程度に確
実に起こるためには前者の若干過剰が用いられるのが典
型的である。
イ素結合水素含量、反応させるべき所望のケイ素結合水
素原子数及び次の一般化されたヒドロシリル化反応の化
学量論についての知識から計算することができる: この反応は反応される各ケイ素結合水素原子に対して1
個の脂肪族不飽和結合基を必要とするが、特に全ケイ素
結合水素原子が反応される場合には反応が所望程度に確
実に起こるためには前者の若干過剰が用いられるのが典
型的である。
本発明の方法は、該ヒドロシリル化反応を起こさせるよ
うな任意の適当な方法で実施することができる。例えば
、ヒドロシリル化触媒(iii )が白金含有物質より
なる場合には、反応は室温で起こり、必要反応物質の単
なる混合以上の如何なることも必要とされない。しかし
ながら、一般的に更に反応を促進することが望ましく、
この目的のためには加熱を有利に使用することができる
。
うな任意の適当な方法で実施することができる。例えば
、ヒドロシリル化触媒(iii )が白金含有物質より
なる場合には、反応は室温で起こり、必要反応物質の単
なる混合以上の如何なることも必要とされない。しかし
ながら、一般的に更に反応を促進することが望ましく、
この目的のためには加熱を有利に使用することができる
。
反応及び/又は反応物質及び/又は生成物の取扱いを容
易にするために必要に応じて反応物質(i)、(ii)
及び(iii )と1以上の溶媒を混合することができ
る。該溶媒は目的ヒドロシリル化反応を妨害してはなら
ず、好ましくはこの方法の反応物質或いは生成物と反応
すべきではない。
易にするために必要に応じて反応物質(i)、(ii)
及び(iii )と1以上の溶媒を混合することができ
る。該溶媒は目的ヒドロシリル化反応を妨害してはなら
ず、好ましくはこの方法の反応物質或いは生成物と反応
すべきではない。
適当な溶媒としては、通常有機ケイ素技術において用い
られる脂肪族飽和炭化水素類、エステル類、ケトン類、
ハロ炭素類、エーテル類及びアルコール類が挙げられる
。それらの具体例としてはヘキサン、トルエン、キシレ
ン、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、トリクロロ
エチレン、ジエチルエーテル、ジオキサン、エチレング
リコールジメチルエーテル、メタノール、エタノール及
びイソプロパツールなどが挙げられる。
られる脂肪族飽和炭化水素類、エステル類、ケトン類、
ハロ炭素類、エーテル類及びアルコール類が挙げられる
。それらの具体例としてはヘキサン、トルエン、キシレ
ン、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、トリクロロ
エチレン、ジエチルエーテル、ジオキサン、エチレング
リコールジメチルエーテル、メタノール、エタノール及
びイソプロパツールなどが挙げられる。
該溶媒は非反応性に関して同一の限定をもって以下に示
される本発明の他の面において用いることができる。
される本発明の他の面において用いることができる。
要約すると、上記本発明の第一の面は下記一般式を有す
る少なくとも1個のケイ素結合ジオキソラン基を含有す
るジオキソラン置換有機ケイ素化合物の形成を含んでな
るものであるニ ーQCHOCM門′ H20 本発明のこの第一の面は更にこの方法により調製される
以下に説明されるジオキソラン置換有機ケイ素化合物に
関するものである。
る少なくとも1個のケイ素結合ジオキソラン基を含有す
るジオキソラン置換有機ケイ素化合物の形成を含んでな
るものであるニ ーQCHOCM門′ H20 本発明のこの第一の面は更にこの方法により調製される
以下に説明されるジオキソラン置換有機ケイ素化合物に
関するものである。
本発明のジオキソラン置換オルガノシラン類は下記一般
的を有するものである: Li−a+ ■ (式中、Zは該−個別水分解性基であり、aは0゜1.
2又は3の値を有し、Rは該−側腹化水素基及びハロ炭
化水素基である)。
的を有するものである: Li−a+ ■ (式中、Zは該−個別水分解性基であり、aは0゜1.
2又は3の値を有し、Rは該−側腹化水素基及びハロ炭
化水素基である)。
その好ましい実施態様はZが塩素であり、RがMeであ
り、及び該ジオキソラン基の各々が下記一般式を有する
有機ケイ素化合物が挙げられるニーCHzCHzCH2
0CHzCHOCMezH20 (式中Meはメチル基である)。
り、及び該ジオキソラン基の各々が下記一般式を有する
有機ケイ素化合物が挙げられるニーCHzCHzCH2
0CHzCHOCMezH20 (式中Meはメチル基である)。
本発明のジオキソラン置換オルガノシロキサン類は下記
一般式を有する少な(とも1個のオルガノシロキサン単
位を含有し: 0 (F−b) /z RbSiQCHOCMM ’ CH,0 その具体例としてはケイ素結合水素がジオキソラン基で
置換された上記水素化シロキサンを包含する。全ての他
のシロキサン単位は存在する場合には上記の如く一般式
RcH4SiO<a−e−a+ y□を有する。
一般式を有する少な(とも1個のオルガノシロキサン単
位を含有し: 0 (F−b) /z RbSiQCHOCMM ’ CH,0 その具体例としてはケイ素結合水素がジオキソラン基で
置換された上記水素化シロキサンを包含する。全ての他
のシロキサン単位は存在する場合には上記の如く一般式
RcH4SiO<a−e−a+ y□を有する。
上記単位式において、bは0,1又は2の値を有し、C
及びc+dは0,1.2又は3の値を有し、dはO又は
1の値を有し、Rは該−側腹化水素及びハロ炭化水素基
である。
及びc+dは0,1.2又は3の値を有し、dはO又は
1の値を有し、Rは該−側腹化水素及びハロ炭化水素基
である。
本発明の好ましいジオキソラン置換オルガノシロキサン
類は下記一般式を有する: (XMezS iO) w (MezS iO) x
(MeXS io) y (MeHS io) z (
S iMezX) w(式中、XはR基、水素原子及び
ジオキソラン基よりなる群から選ばれる)。
類は下記一般式を有する: (XMezS iO) w (MezS iO) x
(MeXS io) y (MeHS io) z (
S iMezX) w(式中、XはR基、水素原子及び
ジオキソラン基よりなる群から選ばれる)。
x、y及び2の平均値は0以上であり得るが、但し次の
限定がある。線状オルガノシロキサンについては、各W
は1の値を存しかつx+y+zは0以上の値を有し、環
状オルガノシロキサンについては各Wは0の値を有しか
つx+y+zは少なくとも3の平均値を有し、オルガノ
シロキサンのモル当り、平均少なくとも1個の該ケイ素
結合ジオキソラン基が存在する。該ジオキソラン基の各
々は好ましくは次式を有する: (式中、Meはメチル基である)。
限定がある。線状オルガノシロキサンについては、各W
は1の値を存しかつx+y+zは0以上の値を有し、環
状オルガノシロキサンについては各Wは0の値を有しか
つx+y+zは少なくとも3の平均値を有し、オルガノ
シロキサンのモル当り、平均少なくとも1個の該ケイ素
結合ジオキソラン基が存在する。該ジオキソラン基の各
々は好ましくは次式を有する: (式中、Meはメチル基である)。
該好ましいジオキソラン置換オルガノシラン及びオルガ
ノシロキサンの具体例としては、各分子内のケイ素結合
水素原子の少なくとも1個がジオキソラン基、好ましく
は で置換されている上記水素化シラン及びシロキサンが挙
げられる。
ノシロキサンの具体例としては、各分子内のケイ素結合
水素原子の少なくとも1個がジオキソラン基、好ましく
は で置換されている上記水素化シラン及びシロキサンが挙
げられる。
これらのジオキソラン置換有機ケイ素化合物は、少なく
とも1個のケイ素結合ジオキソラン基を含有するジオキ
ソラン置換有機ケイ素化合物と、(iv)ある量の加水
分解化合物及びアルコール分解化合物よりなる群から選
ばれた化合物よりなる分解剤と混合し、該混合の条件及
び分解剤の量が全ての該ジオキソラン基をジオール基に
変えるに十分であることにより下記一般式を有する少な
くとも1個のケイ素結合ジオール基を含有するジオール
置換有機ケイ素化合物を形成する一QCHCHzOH H (Qは既述の意味を有し、ジオール置換有機ケイ素化合
物の全ての残りのケイ素原子価は一価炭化水素基、−価
ハロ炭化水素基、−個別水分解性基、ヒドロキシル基、
水素原子及びケイ素原子に連結する二価基よりなる群か
ら選ばれる脂肪族不飽和基のない基により飽和されてい
る) ことよりなる本発明の第二の面において有用である。
とも1個のケイ素結合ジオキソラン基を含有するジオキ
ソラン置換有機ケイ素化合物と、(iv)ある量の加水
分解化合物及びアルコール分解化合物よりなる群から選
ばれた化合物よりなる分解剤と混合し、該混合の条件及
び分解剤の量が全ての該ジオキソラン基をジオール基に
変えるに十分であることにより下記一般式を有する少な
くとも1個のケイ素結合ジオール基を含有するジオール
置換有機ケイ素化合物を形成する一QCHCHzOH H (Qは既述の意味を有し、ジオール置換有機ケイ素化合
物の全ての残りのケイ素原子価は一価炭化水素基、−価
ハロ炭化水素基、−個別水分解性基、ヒドロキシル基、
水素原子及びケイ素原子に連結する二価基よりなる群か
ら選ばれる脂肪族不飽和基のない基により飽和されてい
る) ことよりなる本発明の第二の面において有用である。
本発明のこの第二の面において、分解剤はジオキソラン
基をジオール基に転換するために用いられる。勿論、有
機ケイ素化合物中に存在する任意のケイ素結合加水分解
性基はこの分解剤により影響を及ぼされ、前記該ケイ素
結合ジオール基及び−側腹化水素基、−価ハロ炭化水素
基、−個別水分解性基、水素原子、及びケイ素原子を連
結する二価基に加えてケイ素結合ヒドロキシル基を含有
するケイ素化合物が得られる。
基をジオール基に転換するために用いられる。勿論、有
機ケイ素化合物中に存在する任意のケイ素結合加水分解
性基はこの分解剤により影響を及ぼされ、前記該ケイ素
結合ジオール基及び−側腹化水素基、−価ハロ炭化水素
基、−個別水分解性基、水素原子、及びケイ素原子を連
結する二価基に加えてケイ素結合ヒドロキシル基を含有
するケイ素化合物が得られる。
本発明のこの面において用いられるジオキソラン置換有
機ケイ素化合物はその好ましい実Mf!態様及び以下に
開示される実施例における実施B様を含む上記のもので
ある。
機ケイ素化合物はその好ましい実Mf!態様及び以下に
開示される実施例における実施B様を含む上記のもので
ある。
分解剤(iv)は加水分解及び/又はアルコール分解化
合物よりなる任意の手段であり得る。加水分解化合物の
具体例としては気体、液体、固体形状の水及び水提供化
合物を包含する。アルコール分解の化合物の具体例とし
てはメタノール及びエタノールなどのアルコール類、エ
チレングリコールなどのグリコール類、及びポリオール
類などが挙げられる。分解剤は更に溶媒などの加水分解
及びアルコール分解化合物のための担体を含み得る。
合物よりなる任意の手段であり得る。加水分解化合物の
具体例としては気体、液体、固体形状の水及び水提供化
合物を包含する。アルコール分解の化合物の具体例とし
てはメタノール及びエタノールなどのアルコール類、エ
チレングリコールなどのグリコール類、及びポリオール
類などが挙げられる。分解剤は更に溶媒などの加水分解
及びアルコール分解化合物のための担体を含み得る。
本発明のこの方法において用いられるジオキソラン置換
有機ケイ素化合物及び分解剤(iv)の相対量は重要で
なく、それに関する唯一の要件は反応生成物が上記式を
有する平均少なくとも1個のケイ素結合ジオール基を有
するように後者の十分な量がなければならないというこ
とである。好ましくは、この方法は実質的に全てのケイ
素結合ジオキソラン基が該ジオール基に転換され、及び
全てのケイ素結合加水分解性基が存在する場合には除去
されるように実施される。
有機ケイ素化合物及び分解剤(iv)の相対量は重要で
なく、それに関する唯一の要件は反応生成物が上記式を
有する平均少なくとも1個のケイ素結合ジオール基を有
するように後者の十分な量がなければならないというこ
とである。好ましくは、この方法は実質的に全てのケイ
素結合ジオキソラン基が該ジオール基に転換され、及び
全てのケイ素結合加水分解性基が存在する場合には除去
されるように実施される。
成分(iv)の必要最少量はジオキソラン置換有機ケイ
素化合物の加水分解性基含量及び次の一般化された反応
の化学量論の知識から計算することができる 一5i−Z+1lOY→−5t−OY + H2j −QCHOCMM ’ + 2HOY−−QCHCHz
OH+ (YO) zCMM ’″ 1 CIl□OO)1 これらの反応は各ケイ素結合Zに対して1分子の分解剤
(olysis agent) HOY (YはH或い
はメチル或いはヒドロキシエチルなどの有機基を示す)
及び各ジオキソラン基に対して2個の分解剤を必要とす
るが、反応が所望程度に確実に起こるようにするために
は大過剰の分解剤が使用されるのが典型的である。
素化合物の加水分解性基含量及び次の一般化された反応
の化学量論の知識から計算することができる 一5i−Z+1lOY→−5t−OY + H2j −QCHOCMM ’ + 2HOY−−QCHCHz
OH+ (YO) zCMM ’″ 1 CIl□OO)1 これらの反応は各ケイ素結合Zに対して1分子の分解剤
(olysis agent) HOY (YはH或い
はメチル或いはヒドロキシエチルなどの有機基を示す)
及び各ジオキソラン基に対して2個の分解剤を必要とす
るが、反応が所望程度に確実に起こるようにするために
は大過剰の分解剤が使用されるのが典型的である。
本発明の方法は任意の適当な方法で実施することができ
る。例えば、分解剤が水である場合には、反応は一般的
に室温で起こり、必要反応@8質の単なる混合以外の何
も必要とされない。しかしながら、一般的には反応を更
に促進することが望ましく、この目的のためには加熱を
有利に用いることができる。分解剤がアルコールである
場合には、アルコール分解反応を例えばHcl、或いは
ChSOJを用いて触媒することが好ましい。
る。例えば、分解剤が水である場合には、反応は一般的
に室温で起こり、必要反応@8質の単なる混合以外の何
も必要とされない。しかしながら、一般的には反応を更
に促進することが望ましく、この目的のためには加熱を
有利に用いることができる。分解剤がアルコールである
場合には、アルコール分解反応を例えばHcl、或いは
ChSOJを用いて触媒することが好ましい。
要約すると、上記本発明の方法の第二の面は次式を有す
る少なくとも1個のケイ素結合ジオール基を含有する以
下に更に説明するジオール置換有機ケイ素化合物の形成
を含んでなるものである。
る少なくとも1個のケイ素結合ジオール基を含有する以
下に更に説明するジオール置換有機ケイ素化合物の形成
を含んでなるものである。
−QCHCH20)1
■
H
本発明のこの第二の面は更にこの方法によって製造され
るジオール置換有機ケイ素化合物に関する。
るジオール置換有機ケイ素化合物に関する。
本発明のジオール置換オルガノシラン頻は次式%式%
Qが−CHzC1bCToOCHz−であるその実施態
様が好ましい。
様が好ましい。
本発明のジオール置換オルガノシロキサン類は次式を有
する少なくとも1個のオルガノシラン単位を含有し: 0(ゴーb)/2 Rb5iQC)lcHzoll H その具体例としてはケイ素結合水素がジオール基により
置換された上記水素化シロキサンを包含する。その中に
その他のシロキサン単位がある場合にはそれらは全て上
記の如く式ReHaSiOu−c−a、y□を有する。
する少なくとも1個のオルガノシラン単位を含有し: 0(ゴーb)/2 Rb5iQC)lcHzoll H その具体例としてはケイ素結合水素がジオール基により
置換された上記水素化シロキサンを包含する。その中に
その他のシロキサン単位がある場合にはそれらは全て上
記の如く式ReHaSiOu−c−a、y□を有する。
上記単位式において、bは0.1又は2の値を有し、C
及びc+dは0,1.2又は3の値を有し、dは0又は
1の値を有し、Rは該−側腹化水素及びハロ炭化水素基
である。
及びc+dは0,1.2又は3の値を有し、dは0又は
1の値を有し、Rは該−側腹化水素及びハロ炭化水素基
である。
本発明の好ましいジオール置換オルガノシロキサン類は
下記一般式を有する: (LMe2SiO) w (MezS io) x (
MeLSiO) y (MeH3iO) z (SiM
e2L) w(式中、Meはメチル基であり、LはR基
、水素基及びジオール基よりなる群から選ばれる)。
下記一般式を有する: (LMe2SiO) w (MezS io) x (
MeLSiO) y (MeH3iO) z (SiM
e2L) w(式中、Meはメチル基であり、LはR基
、水素基及びジオール基よりなる群から選ばれる)。
水素化シロキサンについて上記した如く、x、y、及び
2は0以上の平均値を有するが、但し、線状オルガノシ
ロキサンについては各Wは1の値を有しかつz+y+z
は平均1以上の値を有し、環状オルガノシロキサン類に
ついては各Wは0の値を有しかつx+y+zは少なくと
も3の平均値を有し、オルガノシロキサンのモル当り平
均少なくとも1個の該ケイ素結合ジオール基が存在する
。該ジオール基の各々は次式を有するのが好ましい。
2は0以上の平均値を有するが、但し、線状オルガノシ
ロキサンについては各Wは1の値を有しかつz+y+z
は平均1以上の値を有し、環状オルガノシロキサン類に
ついては各Wは0の値を有しかつx+y+zは少なくと
も3の平均値を有し、オルガノシロキサンのモル当り平
均少なくとも1個の該ケイ素結合ジオール基が存在する
。該ジオール基の各々は次式を有するのが好ましい。
−CHzCHzCHzOCHzCl(CHzOtlH
該ジオール置換オルガノシロキサン類の具体例としては
、各分子内におけるケイ素結合水素原子の少なくとも1
個がジオール基、好ましくは−CHzCHzCHzOC
HzCHOH■ CH20)1 により置換されている上記水素化シロキサン類が挙げら
れる。
、各分子内におけるケイ素結合水素原子の少なくとも1
個がジオール基、好ましくは−CHzCHzCHzOC
HzCHOH■ CH20)1 により置換されている上記水素化シロキサン類が挙げら
れる。
これらのジオール置換有機ケイ素化合物は、少な(とも
1個のケイ素結合ジオール基を含有するジオール置換有
機ケイ素化合物と (V)ある量の次式を有するアクリル化合物C)lz=
cR” C0G (R″はH或いはCH3であり、及びGは)\ロゲン基
、ヒドロキシ基、アルコキシ基及びCH2・CR” G
O□−よりなる群から選ばれる) を混合し、アクリル化合物の酸量及び該混合の条件が該
ジオール基の全てをジアクリレート基に転換するのに十
分であることにより下記一般式を有する少なくとも1個
のケイ素結合ジアクリレート基を含有するジアクリレー
ト置換有機ケイ素化合物を形成する: R″ −QCHCI1.O□CC=CHz 0□CC=CHZ rr (式中、Q及びR″は既述の意味を有し、ジアクリレー
ト置換有機ケイ素化合物の全ての残りのケイ素原子価は
一価炭化水素基、−価〕−ロ炭化水素基、−個別水分解
性基、水素原子及びケイ素原子に連結する二価基より選
ばれた脂肪族不飽和基のない基により飽和されている) ことよりなる本発明の第三の面において有用である。
1個のケイ素結合ジオール基を含有するジオール置換有
機ケイ素化合物と (V)ある量の次式を有するアクリル化合物C)lz=
cR” C0G (R″はH或いはCH3であり、及びGは)\ロゲン基
、ヒドロキシ基、アルコキシ基及びCH2・CR” G
O□−よりなる群から選ばれる) を混合し、アクリル化合物の酸量及び該混合の条件が該
ジオール基の全てをジアクリレート基に転換するのに十
分であることにより下記一般式を有する少なくとも1個
のケイ素結合ジアクリレート基を含有するジアクリレー
ト置換有機ケイ素化合物を形成する: R″ −QCHCI1.O□CC=CHz 0□CC=CHZ rr (式中、Q及びR″は既述の意味を有し、ジアクリレー
ト置換有機ケイ素化合物の全ての残りのケイ素原子価は
一価炭化水素基、−価〕−ロ炭化水素基、−個別水分解
性基、水素原子及びケイ素原子に連結する二価基より選
ばれた脂肪族不飽和基のない基により飽和されている) ことよりなる本発明の第三の面において有用である。
本発明のこの第三の面において、アクリル化合物はジオ
ール基をジアクリレート基に転換するために用いられる
。勿論、このジオール置換有機ケイ素化合物内に存在す
る任意のケイ素結合ヒドロキシル基はこのアクリル化合
物により影響を受け、ケイ素−酸素結合アクリルオキシ
基を含有するケイ素化合物が上記該ケイ素結合ジアクリ
レート基及び−側腹化水素基、−価ハロ炭化水素基、−
個別水分解性基、水素原子及びケイ素原子を連結する二
価基に加えて得られることがある。
ール基をジアクリレート基に転換するために用いられる
。勿論、このジオール置換有機ケイ素化合物内に存在す
る任意のケイ素結合ヒドロキシル基はこのアクリル化合
物により影響を受け、ケイ素−酸素結合アクリルオキシ
基を含有するケイ素化合物が上記該ケイ素結合ジアクリ
レート基及び−側腹化水素基、−価ハロ炭化水素基、−
個別水分解性基、水素原子及びケイ素原子を連結する二
価基に加えて得られることがある。
本発明のこの面において用いられるジオール置換有機ケ
イ素化合物はその好ましい実施態様及び以下に開示され
る実施態様を含む上記のものである。
イ素化合物はその好ましい実施態様及び以下に開示され
る実施態様を含む上記のものである。
アクリル化合物(v)はカルビノール基をアクリレート
或いはメタクリレート基に転換する一般式CH,・CR
” COGを有する任意の化合物であり得る。
或いはメタクリレート基に転換する一般式CH,・CR
” COGを有する任意の化合物であり得る。
適当なアクリル化合物の具体例としては、アクリル及び
メタクリル酸、アクリル及びメタクリルクロライド、ア
クリル及びメタクリル酸無水物及びアクリル及びメタク
リルエステル類例えばメチルメタクリレート及びエチル
アクリレートなどが挙げられる。
メタクリル酸、アクリル及びメタクリルクロライド、ア
クリル及びメタクリル酸無水物及びアクリル及びメタク
リルエステル類例えばメチルメタクリレート及びエチル
アクリレートなどが挙げられる。
アクリル化合物はジオール基のジアクリレート基への転
換を促進するために更に酸或いはアルカリ触媒を含むこ
とができる。
換を促進するために更に酸或いはアルカリ触媒を含むこ
とができる。
本発明のこの方法において用いられるジオール置換有機
ケイ素化合物とアクリル化合物(v)の相対量は重要で
なく、これに関する唯一の要件は反応生成物が上記式を
有する平均少なくとも1個のケイ素結合ジアクリレート
基を含有するように十分な量の後者がなければならない
ということである。好ましくは、この方法は実質的に全
てのケイ素結合ジオール基が該ジアクリレート基に転換
されるように実施される。
ケイ素化合物とアクリル化合物(v)の相対量は重要で
なく、これに関する唯一の要件は反応生成物が上記式を
有する平均少なくとも1個のケイ素結合ジアクリレート
基を含有するように十分な量の後者がなければならない
ということである。好ましくは、この方法は実質的に全
てのケイ素結合ジオール基が該ジアクリレート基に転換
されるように実施される。
成分(V)の必要最少量はジオール置換有機ケイ素化合
物のジオール基含量及び次の一般化された反応の化学量
論の知識から計算されるニー5i−OH+ C1l□=
CR” COG→−5iO□CCR” =Ctlz +
G)1−QCHCH20H+zCH2=CR” CO
G→−QCHC)120□CCR” =C1lz +
2GI10HO□CCR” エCH2 これらの反応は各ケイ素結合0)1に対して1分子のア
クリル化合物及び各ジオール基に対して2分子のアクリ
ル化合物を必要とするが、反応が所望程度確実におこる
ようにするために大過剰のアクリル化合物が用いられる
のが典型的である。
物のジオール基含量及び次の一般化された反応の化学量
論の知識から計算されるニー5i−OH+ C1l□=
CR” COG→−5iO□CCR” =Ctlz +
G)1−QCHCH20H+zCH2=CR” CO
G→−QCHC)120□CCR” =C1lz +
2GI10HO□CCR” エCH2 これらの反応は各ケイ素結合0)1に対して1分子のア
クリル化合物及び各ジオール基に対して2分子のアクリ
ル化合物を必要とするが、反応が所望程度確実におこる
ようにするために大過剰のアクリル化合物が用いられる
のが典型的である。
本発明の方法は、任意の適当な方法により実施すること
ができる。例えば、アクリル化合物のG基が塩素或いは
アクリルオキシである場合には反応は通常室温で起こり
、必要反応物質の単なる混合以外の何物も必要とされな
い。しかしながら、反応を更に促進するのが通常望まし
く、この目的のために加熱を有利に用いることができる
。アクリル化合物のG基がヒドロキシ或いはアルコキシ
である場合には、反応は典型的に加熱及び酸性或いはア
ルカリ物質による触媒を必要とする。
ができる。例えば、アクリル化合物のG基が塩素或いは
アクリルオキシである場合には反応は通常室温で起こり
、必要反応物質の単なる混合以外の何物も必要とされな
い。しかしながら、反応を更に促進するのが通常望まし
く、この目的のために加熱を有利に用いることができる
。アクリル化合物のG基がヒドロキシ或いはアルコキシ
である場合には、反応は典型的に加熱及び酸性或いはア
ルカリ物質による触媒を必要とする。
要約すると、本発明の方法の第三の面は上記の如く下記
一般式を有する少なくとも1個のケイ素結合ジアクリレ
ート基を含有する以下において更に説明するジアクリレ
ート置換有機ケイ素化合物の形成を含んでなるものであ
る。
一般式を有する少なくとも1個のケイ素結合ジアクリレ
ート基を含有する以下において更に説明するジアクリレ
ート置換有機ケイ素化合物の形成を含んでなるものであ
る。
R/1
一ロCHCH,0□CC=CHz
■
0zCG=CHz
本発明の第三の面は更にこの方法により製造されるジア
クリレート−有機ケイ素化合物、及び該化合物を含んで
なる硬化性被覆組成物に関する。
クリレート−有機ケイ素化合物、及び該化合物を含んで
なる硬化性被覆組成物に関する。
本発明のジアクリレート置換オルガノシラン類は次式を
有する: RzS!QC)ICHzOzCCR” :CHz0□
CCR″=CHz Qが−cH2c)12cl12oc)12−であるその
実施態様が好ましい。
有する: RzS!QC)ICHzOzCCR” :CHz0□
CCR″=CHz Qが−cH2c)12cl12oc)12−であるその
実施態様が好ましい。
本発明のジアクリレート置換オルガノシラン類は次式を
有する少なくとも1個のオルガノシロキサン単位を含有
し: O(ゴーb)/z R″ RbSiQC)ICHzOzCC=CJI□0□CC−
CH2 R″ その具体例としてはケイ素結合水素がジアクリレート基
により置換された上記水素化シロキサン単位を包含する
。その他のシロキサン単位がある場合にはそれらは全て
上記の如き式RcH4SiOta−c−a+ /2を有
する。
有する少なくとも1個のオルガノシロキサン単位を含有
し: O(ゴーb)/z R″ RbSiQC)ICHzOzCC=CJI□0□CC−
CH2 R″ その具体例としてはケイ素結合水素がジアクリレート基
により置換された上記水素化シロキサン単位を包含する
。その他のシロキサン単位がある場合にはそれらは全て
上記の如き式RcH4SiOta−c−a+ /2を有
する。
上記単位式において、bは0.1又は2の値を有し、C
及びc+dは0,1.2又は3の値を有し、dは0又1
の値を有し、Rは該−側腹化水素及びハロ炭化水素基で
ある。
及びc+dは0,1.2又は3の値を有し、dは0又1
の値を有し、Rは該−側腹化水素及びハロ炭化水素基で
ある。
本発明の好ましいジアクリレート置換オルガノシロキサ
ン類は下記一般式を有する: (AMe2S to) w (MezS iO) X
(MeAS iO) y(MeH5io) z (S
iMe2A) w(式中、Meはメチル基であり、Aは
R基、水素原子及びジアクリレート基よりなる群から選
ばれる)。
ン類は下記一般式を有する: (AMe2S to) w (MezS iO) X
(MeAS iO) y(MeH5io) z (S
iMe2A) w(式中、Meはメチル基であり、Aは
R基、水素原子及びジアクリレート基よりなる群から選
ばれる)。
水素化シロキサンについて、上記の如く、X。
y、及び2は0以上の平均値を有するが、但し、線状オ
ルガノシロキサン類に対しては各Wは1の値を有しかつ
x+y+zは0以上の平均値を有し、環状オルガノシロ
キサン類に対して各WはOの値を有しかつX+y+Zは
少なくとも3の平均値を有し、オルガノシロキサンのモ
ル当り平均少なくとも1個の該ケイ素結合ジアクリレー
ト基が存在する。好ましくは、該ジアクリレート基の各
々は次式を有するニ ーCH2C)12C″□0CHzC″CHzO□CC)
l=cH20□CCH=CH2 該好ましいジアクリレート置換オルガノシロキサンの具
体例としては、各分子内の少なくとも1個のケイ素結合
水素原子がジアクリレート基、好ましくは −CHzCHzCHzOCHzCHOzCC)I=CH
zCHzOzCCtl=CHz により置換されている上記水素化シロキサン類が挙げら
れる。
ルガノシロキサン類に対しては各Wは1の値を有しかつ
x+y+zは0以上の平均値を有し、環状オルガノシロ
キサン類に対して各WはOの値を有しかつX+y+Zは
少なくとも3の平均値を有し、オルガノシロキサンのモ
ル当り平均少なくとも1個の該ケイ素結合ジアクリレー
ト基が存在する。好ましくは、該ジアクリレート基の各
々は次式を有するニ ーCH2C)12C″□0CHzC″CHzO□CC)
l=cH20□CCH=CH2 該好ましいジアクリレート置換オルガノシロキサンの具
体例としては、各分子内の少なくとも1個のケイ素結合
水素原子がジアクリレート基、好ましくは −CHzCHzCHzOCHzCHOzCC)I=CH
zCHzOzCCtl=CHz により置換されている上記水素化シロキサン類が挙げら
れる。
上記その好ましい実施態様を含む本発明のジアクリレー
ト置換有機ケイ素化合物はアクリレート含有化合物を含
有する放射線硬化性被覆組成物に典型的に用いられる成
分を更に含むことができる。
ト置換有機ケイ素化合物はアクリレート含有化合物を含
有する放射線硬化性被覆組成物に典型的に用いられる成
分を更に含むことができる。
該その他の成分の具体例としては溶媒及び反応性稀釈剤
を含む稀釈剤、光開始剤、光増感剤及び触媒などの硬化
剤及び接着剤剥離性被覆組成物に対してはシロキサン樹
脂及び有機官能シロキサン類などの制御剥離添加剤など
が挙げられる。
を含む稀釈剤、光開始剤、光増感剤及び触媒などの硬化
剤及び接着剤剥離性被覆組成物に対してはシロキサン樹
脂及び有機官能シロキサン類などの制御剥離添加剤など
が挙げられる。
これらのジアクリレート置換有機ケイ素化合物はジアク
リレート置換有機ケイ素化合物を含んでなる組成物を基
材に塗布し、その後塗布された被膜を該有機ケイ素化合
物が固体状態に転換されるまでアクリレート重合性放射
線に曝露することよりなり、該有機ケイ素化合物が下記
一般式を有する少なくとも1個のケイ素結合ジアクリレ
ート基を含有することを特徴とする方法: rr ■ −QCHCH,O□CC,CH2 0□CC=CL (式中、Qはケイ素−炭素結合によりケイ素原子に結合
している二価有機基であり、R11はH又はCH,であ
り、ジアクリレート置換有機ケイ素化合物の全ての残り
のケイ素原子価は一価炭化水素基、−価ハロ炭化水素基
、−個別水分解性基、水素原子及びケイ素原子に連結す
る二価基よりなる群から選ばれた脂肪族不飽和基のない
基により飽和されている) よりなる本発明の第四の側面において有用である。
リレート置換有機ケイ素化合物を含んでなる組成物を基
材に塗布し、その後塗布された被膜を該有機ケイ素化合
物が固体状態に転換されるまでアクリレート重合性放射
線に曝露することよりなり、該有機ケイ素化合物が下記
一般式を有する少なくとも1個のケイ素結合ジアクリレ
ート基を含有することを特徴とする方法: rr ■ −QCHCH,O□CC,CH2 0□CC=CL (式中、Qはケイ素−炭素結合によりケイ素原子に結合
している二価有機基であり、R11はH又はCH,であ
り、ジアクリレート置換有機ケイ素化合物の全ての残り
のケイ素原子価は一価炭化水素基、−価ハロ炭化水素基
、−個別水分解性基、水素原子及びケイ素原子に連結す
る二価基よりなる群から選ばれた脂肪族不飽和基のない
基により飽和されている) よりなる本発明の第四の側面において有用である。
本発明の方法においては、基材に塗布される有機ケイ素
化合物は、その好ましい実施態様を含む上記ジアクリレ
ート置換有機ケイ素化合物の任意のものであり得る。
化合物は、その好ましい実施態様を含む上記ジアクリレ
ート置換有機ケイ素化合物の任意のものであり得る。
本発明の方法により被覆することのできる基材の具体例
としては、紙、金属箔、重合体フィルム、光学繊維及び
織物などの柔軟性基材及び重合体積層体例えば回路板、
セラミックガラス及びレンガなどのケイ素質基材、木材
基材及び成形、流延及び打抜き金属製品などの比較的非
柔軟性基材が挙げられ、本発明の硬化性被膜は接着剤剥
離技術、封止及びフォトレジストなどの電子技術、グラ
フィック技術などに有用である。
としては、紙、金属箔、重合体フィルム、光学繊維及び
織物などの柔軟性基材及び重合体積層体例えば回路板、
セラミックガラス及びレンガなどのケイ素質基材、木材
基材及び成形、流延及び打抜き金属製品などの比較的非
柔軟性基材が挙げられ、本発明の硬化性被膜は接着剤剥
離技術、封止及びフォトレジストなどの電子技術、グラ
フィック技術などに有用である。
本発明の被覆組成物は、各種組成、形状、大きさ及び用
途の基材に塗布することができる。この方法の好ましい
実施態様において、柔軟基材は基材に接着剤剥離表面を
与える目的で被覆される。
途の基材に塗布することができる。この方法の好ましい
実施態様において、柔軟基材は基材に接着剤剥離表面を
与える目的で被覆される。
本発明のジアクリレート置換シロキサン類が、基材に塗
布され重合される場合にはシロキサン置換ポリアクリレ
ート被膜が提供される。被覆組成物の相対的シロキサン
含量に応じて硬化被膜はポリアクリレートに類似したも
のからポリオルガノシロキサン類に1(luしたものの
範囲の物性を有することが期待される。
布され重合される場合にはシロキサン置換ポリアクリレ
ート被膜が提供される。被覆組成物の相対的シロキサン
含量に応じて硬化被膜はポリアクリレートに類似したも
のからポリオルガノシロキサン類に1(luしたものの
範囲の物性を有することが期待される。
本発明の方法においては、被覆組成物の薄い被膜例えば
1fl厚のものが公知の方法例えばスプレー法、ロール
法、展着法或いはへヶ塗り法により塗布され、その後直
ちに或いは短時間後に放射線に曝露される。
1fl厚のものが公知の方法例えばスプレー法、ロール
法、展着法或いはへヶ塗り法により塗布され、その後直
ちに或いは短時間後に放射線に曝露される。
接着剤剥離技術においては、柔軟性基材例えば紙、重合
体フィルム、重合体被覆紙或いは金属箔が柔軟性基材に
基材の連当り0.5〜2ボンドの被覆重量で被覆するこ
とにより接着剤剥離性とされる。塗布組成物の硬化後こ
の様に処理された表面を遊離状態或いは製品の表面に配
置された接着剤と密着される。この接着剤剥離性表面は
その際接着剤が使用される迄、接着剤の一面の保護層と
しての役割を果し、使用時にはそれは容易に接着剤から
除去することができる。
体フィルム、重合体被覆紙或いは金属箔が柔軟性基材に
基材の連当り0.5〜2ボンドの被覆重量で被覆するこ
とにより接着剤剥離性とされる。塗布組成物の硬化後こ
の様に処理された表面を遊離状態或いは製品の表面に配
置された接着剤と密着される。この接着剤剥離性表面は
その際接着剤が使用される迄、接着剤の一面の保護層と
しての役割を果し、使用時にはそれは容易に接着剤から
除去することができる。
塗布被膜は任意の適当な手段、例えば化学的、放射性或
いは熱的手段により硬化することができる。塗布被膜を
熱的或いは紫外線照射により硬化する場合には、塗布組
成物は重合開始剤を含有すべきである。本発明の好まし
い実施態様においては、塗布組成物は電子線照射により
硬化され、組成物は添加開始剤を必要としない。
いは熱的手段により硬化することができる。塗布被膜を
熱的或いは紫外線照射により硬化する場合には、塗布組
成物は重合開始剤を含有すべきである。本発明の好まし
い実施態様においては、塗布組成物は電子線照射により
硬化され、組成物は添加開始剤を必要としない。
塗布被覆組成物を硬化するために用いられる放射線はア
クリル系エステルの重合を開始するのに有効である任意
の放射線例えば良く知られた電子線及び/又は紫外線で
ある。より詳細な情報のために、アクリル−含有単量体
の重合を教える標準的参考文献の任意のものを参照する
ことができる。
クリル系エステルの重合を開始するのに有効である任意
の放射線例えば良く知られた電子線及び/又は紫外線で
ある。より詳細な情報のために、アクリル−含有単量体
の重合を教える標準的参考文献の任意のものを参照する
ことができる。
本明細書においては、カーク−オスマーエンサイクロペ
ディア・オン・ケミストリー・アンド・テクノロジー(
Kirk−Othmer Encyclopedia
of Chemi−stry and Technol
ogy) ; John Wiley and 5on
s %N、J、、第二版、1972年、Vol、 I、
274〜284頁及びエンサイクロペディア・オン・ポ
リマー・サイエンス・アンド・テクノロジー(Ency
clopedia ofPolymer 5cienc
e and Technology);John Wi
leyand 5ons、、 Nu、、1966年、V
ol、 I、 177〜197頁を挙げる。
ディア・オン・ケミストリー・アンド・テクノロジー(
Kirk−Othmer Encyclopedia
of Chemi−stry and Technol
ogy) ; John Wiley and 5on
s %N、J、、第二版、1972年、Vol、 I、
274〜284頁及びエンサイクロペディア・オン・ポ
リマー・サイエンス・アンド・テクノロジー(Ency
clopedia ofPolymer 5cienc
e and Technology);John Wi
leyand 5ons、、 Nu、、1966年、V
ol、 I、 177〜197頁を挙げる。
以下の実施例は本発明を更に例示するために開示するも
のであり、特許請求の範囲に掲げられる本発明を限定す
るものではない。特に断りのない限り全ての部数及び%
は重量基準であり、全ての温度は摂氏である。Me、P
h及びVi はそれぞれメチル、フェニル及びビニル基
を示す。
のであり、特許請求の範囲に掲げられる本発明を限定す
るものではない。特に断りのない限り全ての部数及び%
は重量基準であり、全ての温度は摂氏である。Me、P
h及びVi はそれぞれメチル、フェニル及びビニル基
を示す。
全てのジオキソラン置換を機ケイ素化合物はプロトン核
磁気共鳴分光光度法(nmr)及び赤外分光光度法(i
r)により特徴を決定した。それらは全てメチレンジオ
キソラン部分のイソプロピリデン基に特徴的なnmrに
おけるδ=1.3における2個の単重項(テトラメチル
シランから)及びirにおける1375cm−’におけ
る二重項を示した。
磁気共鳴分光光度法(nmr)及び赤外分光光度法(i
r)により特徴を決定した。それらは全てメチレンジオ
キソラン部分のイソプロピリデン基に特徴的なnmrに
おけるδ=1.3における2個の単重項(テトラメチル
シランから)及びirにおける1375cm−’におけ
る二重項を示した。
全てのジオール置換存機ケイ素化合物はnmr及びir
により特徴決定された。それらは全てメチレンジオキソ
ラン部分のイソプロピリデン基に特徴的なnmrにおけ
るδ=1.3における二つの単重項及びirにおける1
375cm−’における二重項の不存在、及びカルビノ
ールOHの特徴的なirにおける3600ロ1における
顕著な吸収の存在を示した。
により特徴決定された。それらは全てメチレンジオキソ
ラン部分のイソプロピリデン基に特徴的なnmrにおけ
るδ=1.3における二つの単重項及びirにおける1
375cm−’における二重項の不存在、及びカルビノ
ールOHの特徴的なirにおける3600ロ1における
顕著な吸収の存在を示した。
次の二つの実施例は本発明の方法を用いた本発明のジオ
キソラン置換シラン頚の製造を例示するものである。
キソラン置換シラン頚の製造を例示するものである。
1崖±1
5部の4−アリルオキシメチ、ルー2.2−ジメチル−
1,3−ジオキソラン及びヒドロシリル化触媒である0
、002部の(PhC=CC(OH) (CH,) P
h) 2Ptを冷却器、添加漏斗及び温度計のついたフ
ラスコ内で混合した。メチルジクロロシラン3.5部を
添加漏斗により混合物中に添加し、混合物を71°に加
熱した。78°において穏やかな発熱がおこり、これは
それが反応温度を91”に上昇させた。発熱が収まった
後、反応液を減圧蒸留して6.5部の0、7 Torr
において100〜103°の沸点を有する4−(3′−
メチルジクロロシリルプロポキシメチル)−2,2−ジ
メチル−1,3−ジオキソランを得た。
1,3−ジオキソラン及びヒドロシリル化触媒である0
、002部の(PhC=CC(OH) (CH,) P
h) 2Ptを冷却器、添加漏斗及び温度計のついたフ
ラスコ内で混合した。メチルジクロロシラン3.5部を
添加漏斗により混合物中に添加し、混合物を71°に加
熱した。78°において穏やかな発熱がおこり、これは
それが反応温度を91”に上昇させた。発熱が収まった
後、反応液を減圧蒸留して6.5部の0、7 Torr
において100〜103°の沸点を有する4−(3′−
メチルジクロロシリルプロポキシメチル)−2,2−ジ
メチル−1,3−ジオキソランを得た。
4−アリルオキシメチル−2,2−ジメチル−1,3−
ジオキソランはアセトン225部、3−アリルオキシ−
1,2−プロパンジオール195部及びトルエン480
部を磁性撹拌棒及び還流冷却器を取付けた水トラツプを
付したフラスコ内で混合することにより調製した。濃硫
酸4部をフラスコに添加し、混合物を加熱還流した。最
初の170部の流出物は水トラツプを介して除去し、そ
の後還流を行い水を水トラツプ内に集めた。13時間後
、反応液を冷却し、重炭酸ナトリウム水溶液で中和し、
水及びトルエンを蒸留後真空蒸留して161部の4.5
Torrにおいて57〜58°の沸点を有する4−ア
リルオキシメチル−2,2−ジメチル−1,3=ジオキ
ソランを得た。
ジオキソランはアセトン225部、3−アリルオキシ−
1,2−プロパンジオール195部及びトルエン480
部を磁性撹拌棒及び還流冷却器を取付けた水トラツプを
付したフラスコ内で混合することにより調製した。濃硫
酸4部をフラスコに添加し、混合物を加熱還流した。最
初の170部の流出物は水トラツプを介して除去し、そ
の後還流を行い水を水トラツプ内に集めた。13時間後
、反応液を冷却し、重炭酸ナトリウム水溶液で中和し、
水及びトルエンを蒸留後真空蒸留して161部の4.5
Torrにおいて57〜58°の沸点を有する4−ア
リルオキシメチル−2,2−ジメチル−1,3=ジオキ
ソランを得た。
実見■1
5部の4−アリルオキシメチル−2,2−ジメチル−1
,3−ジオキソラン及び0.002部の(PhC=CG
(OH) (C)Iz)Ph) zPtを冷却器、添加
漏斗及び温度計を付したフラスコ内で混合した。ジメチ
ルクロロシラン5部を添加漏斗を介して混合物に添加し
、混合物を70°に25分間加熱した。反応液を次いで
冷却し、減圧蒸留して5.2部の0.7Torrにおい
て98〜105°の沸点を有する4−(3’−ジメチル
クロロシリルプロポキシメチル)−2゜2−ジメチル−
1,3−ジオキソランを得た。
,3−ジオキソラン及び0.002部の(PhC=CG
(OH) (C)Iz)Ph) zPtを冷却器、添加
漏斗及び温度計を付したフラスコ内で混合した。ジメチ
ルクロロシラン5部を添加漏斗を介して混合物に添加し
、混合物を70°に25分間加熱した。反応液を次いで
冷却し、減圧蒸留して5.2部の0.7Torrにおい
て98〜105°の沸点を有する4−(3’−ジメチル
クロロシリルプロポキシメチル)−2゜2−ジメチル−
1,3−ジオキソランを得た。
次の二つの実施例は本発明の方法を用いた本発明のジオ
キソラン置換オルガノシロキサン類の製造を例示するも
のである。
キソラン置換オルガノシロキサン類の製造を例示するも
のである。
実上拠ユ
20部の4−アリルオキシメチル−2,2−ジメチル−
1,3−ジオキソラン、0.006部の4%の白金を含
有し米国特許3,419.593号のライリング(Wi
lling)の方法に従って調製されたヒドロシリル化
触媒及び分子当り平均約20個のケイ素原子を含有する
水素−末端ポリジメチルシロキサンをフラスコ内で混合
した。穏やかな発熱が起こり、それは反応液の温度を7
0°に上昇させ、それをその温度に5時間保つために外
部加熱が用いられた。5時間後に取られた反応液の赤外
線スペクトルはケイ素結合水素原子が残存しないことを
示した。この生成物には構造XMe2SiO(Me2S
iO) +eSiMeJ(式中、Xは −CHzCHzCHzOCHzCHOCMezCH20
を表わす) が分光分析データ及びヒドロシリル化反応の性質に基づ
いて与えられた。
1,3−ジオキソラン、0.006部の4%の白金を含
有し米国特許3,419.593号のライリング(Wi
lling)の方法に従って調製されたヒドロシリル化
触媒及び分子当り平均約20個のケイ素原子を含有する
水素−末端ポリジメチルシロキサンをフラスコ内で混合
した。穏やかな発熱が起こり、それは反応液の温度を7
0°に上昇させ、それをその温度に5時間保つために外
部加熱が用いられた。5時間後に取られた反応液の赤外
線スペクトルはケイ素結合水素原子が残存しないことを
示した。この生成物には構造XMe2SiO(Me2S
iO) +eSiMeJ(式中、Xは −CHzCHzCHzOCHzCHOCMezCH20
を表わす) が分光分析データ及びヒドロシリル化反応の性質に基づ
いて与えられた。
実施■↓
25”、。部の4−アリルオキシ−2,2−ジメチル−
1,3−ジオキソラン、0.02部の実施例3で説明し
たヒドロシリル化触媒及び41.4部の分子当り平均約
14個のジメチルシロキサン単位及び2個のメチル水素
シロキサン単位を含有する水素−ジメチルシロキサン−
末端ポリジメチルシロキサンーコーメチルー水素シロキ
サンをフラスコ内で混合した。穏やかな発熱が生じ反応
液の温度を70°に24時間保つために外部加熱を用い
た。
1,3−ジオキソラン、0.02部の実施例3で説明し
たヒドロシリル化触媒及び41.4部の分子当り平均約
14個のジメチルシロキサン単位及び2個のメチル水素
シロキサン単位を含有する水素−ジメチルシロキサン−
末端ポリジメチルシロキサンーコーメチルー水素シロキ
サンをフラスコ内で混合した。穏やかな発熱が生じ反応
液の温度を70°に24時間保つために外部加熱を用い
た。
24時間後に取られた反応液の赤外線スペクトルはケイ
素結合水素原子が残存しないことを示した。
素結合水素原子が残存しないことを示した。
この生成物には分光分析データ及びヒドロシリル化反応
の性質に基づいて次の構造が与えられた:XMe2Si
O(Me2SiO) + 4 (MeXSiO) zS
iMeJ(式中、Xは −CIlzCHzCHzOCHzCHOCMezCH2
0を表わす)。
の性質に基づいて次の構造が与えられた:XMe2Si
O(Me2SiO) + 4 (MeXSiO) zS
iMeJ(式中、Xは −CIlzCHzCHzOCHzCHOCMezCH2
0を表わす)。
次の三つの実施例は本発明の方法を用いた本発明のジオ
ール置換オルガノシロキサン類の製造を例示するもので
ある。
ール置換オルガノシロキサン類の製造を例示するもので
ある。
災施五i
実施例1において開示した本発明のシラン4.4部を1
5部の菓留水に添加した。5分後、均質な溶液が得られ
、それから水を蒸留により除去し、高粘稠残渣を得た。
5部の菓留水に添加した。5分後、均質な溶液が得られ
、それから水を蒸留により除去し、高粘稠残渣を得た。
この残渣には次の構造が与えられた:
(MeSiO)y
蓋
C1(2CH2CH20CH2CH(OH) CH20
H(式中、yは3以上の値を有した)。
H(式中、yは3以上の値を有した)。
1隻開工
実施例2において開示された本発明のシラン2部を2部
の蒸留水に添加した。均質な溶液が得られ90°で10
分間加熱後、減圧蒸留して1.02部q) 0.7 T
orrにおいて232〜234°の沸点を有する粘稠留
出物を得た。残渣にはそのnmr及びirスペクトルに
基づき次の構造が与えられた:(MezSi) zo CHzCHzCHzOCHzC)((叶)C[(zol
I実詣±ユ 実施例3において開示された本発明のシロキサン98部
を3部の濃塩酸を含有する30部のメタノールに添加し
た。反応液を74°のヘッド温度に蒸留してメタノール
を除去し、高粘稠残渣を残し、これを更に80°及び3
0Torrにおいて揮発分を除去した。残渣を冷却及び
濾過して83.5部の4.0%のカルビノール含量を有
する粘稠液体を得た。理論カルビノール含量4,0%。
の蒸留水に添加した。均質な溶液が得られ90°で10
分間加熱後、減圧蒸留して1.02部q) 0.7 T
orrにおいて232〜234°の沸点を有する粘稠留
出物を得た。残渣にはそのnmr及びirスペクトルに
基づき次の構造が与えられた:(MezSi) zo CHzCHzCHzOCHzC)((叶)C[(zol
I実詣±ユ 実施例3において開示された本発明のシロキサン98部
を3部の濃塩酸を含有する30部のメタノールに添加し
た。反応液を74°のヘッド温度に蒸留してメタノール
を除去し、高粘稠残渣を残し、これを更に80°及び3
0Torrにおいて揮発分を除去した。残渣を冷却及び
濾過して83.5部の4.0%のカルビノール含量を有
する粘稠液体を得た。理論カルビノール含量4,0%。
この流体にはこの構造が与えられた: LMe2SiO
(Me2SiO) IesiMe2L(式中、Lはジオ
ール基−CthCHzCHzOCHzC)I(OH)C
HzOHを示す)。
(Me2SiO) IesiMe2L(式中、Lはジオ
ール基−CthCHzCHzOCHzC)I(OH)C
HzOHを示す)。
以下の三つの実施例は本発明のその他のシラン類及びシ
ロキサン類を用いた本発明のシラン類及びシロキサン類
の製造を例示するものである。
ロキサン類を用いた本発明のシラン類及びシロキサン類
の製造を例示するものである。
去止桝l
実施例2において開示される本発明のシランをその50
.3部を32部のN−メチルアセタミドとトルエン中に
おいて混合することによりもう一つのシランに転換した
。発熱反応が収まった後、混合物を2時間攪拌した。反
応生成物を濾過し、濾液を蒸発濃縮し、濃縮物を減圧蒸
留して41.3部の2Torrにおいて140〜143
°の沸点を有する目的4−(3′−メチルアセタミドジ
メチルシリルプロポキシメチル) −2、2−ジメチ
ル−1,3−ジオキソランを得た。この蒸留物のnmr
はジオキソラン部分が元のま\であることを示した。
.3部を32部のN−メチルアセタミドとトルエン中に
おいて混合することによりもう一つのシランに転換した
。発熱反応が収まった後、混合物を2時間攪拌した。反
応生成物を濾過し、濾液を蒸発濃縮し、濃縮物を減圧蒸
留して41.3部の2Torrにおいて140〜143
°の沸点を有する目的4−(3′−メチルアセタミドジ
メチルシリルプロポキシメチル) −2、2−ジメチ
ル−1,3−ジオキソランを得た。この蒸留物のnmr
はジオキソラン部分が元のま\であることを示した。
次星貫ユ
式 LMe2SiO(MezSi、O)+s+SiM
e2L(式中、Lはジオール基−C112C11□C)
120c)IZC)l(OH)CH20Hを示す) を有する本発明のシロキサン14.33部を100部の
オクタメチルシクロテトラシロキサン、0.2部のトリ
フルオロメタンスルホン酸と混合し、混合物を70’で
3時間攪拌加熱した。高粘稠流体を炭酸カルシウムで中
和し、濾過して0.69%のカルビノール含量(理論量
0.59%)及び式LMe2SiO(Me2SiO)
+4SiMe2L(式中、Lはジオール基−CHzCH
zCHzOCHzCH(OH)CHzOHを表わす)を
有する無色流体を得た。
e2L(式中、Lはジオール基−C112C11□C)
120c)IZC)l(OH)CH20Hを示す) を有する本発明のシロキサン14.33部を100部の
オクタメチルシクロテトラシロキサン、0.2部のトリ
フルオロメタンスルホン酸と混合し、混合物を70’で
3時間攪拌加熱した。高粘稠流体を炭酸カルシウムで中
和し、濾過して0.69%のカルビノール含量(理論量
0.59%)及び式LMe2SiO(Me2SiO)
+4SiMe2L(式中、Lはジオール基−CHzCH
zCHzOCHzCH(OH)CHzOHを表わす)を
有する無色流体を得た。
実施■土1
式LMe2SiO(Me2SiO)+aSiMe2L
−(式中、Lはジオール基 −CHzCHzCHzOCHzCH(OH)CHzOH
を表わす)を有する本発明のシロキサン31.6部を0
.5部のKO)l 、6.96部のアミノエチルアミノ
イソブチル−メチル−ジメトキシシラン及び100部の
オクタメチルシクロテトラシロキサンと混合し、混合物
を150゛で6時間攪拌加熱した。高粘度流体を二酸化
炭素で中和し、5部のフラー土を添加した。生成物を濾
過して1.63%(理論値1.70%)のカルビノール
+アミノ含量及び式 LMe2SiO(Me2SiO)qb(MeRSiO)
zsiMe2L (式中、Lは−C12C1l□CHz
OCHzCH(OH)CHzOH基を示し、及びRは−
CHzCH(CHz)CI2NHC/HzCHzNHz
基を示す)を有する黄色流体を得た。
−(式中、Lはジオール基 −CHzCHzCHzOCHzCH(OH)CHzOH
を表わす)を有する本発明のシロキサン31.6部を0
.5部のKO)l 、6.96部のアミノエチルアミノ
イソブチル−メチル−ジメトキシシラン及び100部の
オクタメチルシクロテトラシロキサンと混合し、混合物
を150゛で6時間攪拌加熱した。高粘度流体を二酸化
炭素で中和し、5部のフラー土を添加した。生成物を濾
過して1.63%(理論値1.70%)のカルビノール
+アミノ含量及び式 LMe2SiO(Me2SiO)qb(MeRSiO)
zsiMe2L (式中、Lは−C12C1l□CHz
OCHzCH(OH)CHzOH基を示し、及びRは−
CHzCH(CHz)CI2NHC/HzCHzNHz
基を示す)を有する黄色流体を得た。
以下の三つの実施例は本発明の方法を用いた本発明のジ
アクリルオキシ置換オルガノシロキサン類の製造及び用
途を例示する。
アクリルオキシ置換オルガノシロキサン類の製造及び用
途を例示する。
実施燃上上
実施例7に開示された構造
LMe2SiO(Me2SiO) + esiMe2L
を有する本発明のシロキサン12.6部を0.06部の
ハイドロキノン、0.03部の濃硫酸、18部のトルエ
ン及び2.5部のアクリル酸と冷却器を頂部に付した水
トラツプを付属したフラスコ内で混合した。
を有する本発明のシロキサン12.6部を0.06部の
ハイドロキノン、0.03部の濃硫酸、18部のトルエ
ン及び2.5部のアクリル酸と冷却器を頂部に付した水
トラツプを付属したフラスコ内で混合した。
反応液を加熱還流し、全ての反応水をトラ・ノブ内に集
めた。反応生成物を次いで50°及び30Torrで揮
発分を除去し、式AMe2SiO(MezStO) +
5Sil’1e2A(式中、Aは次式を有するジアクリ
ルオキシ基を示すニ ーC)1zc11zc)1zOcHzcH(O□CC)
l=c)12)CH□0□CCH=Clz)を有する目
的シロキサンを得た。
めた。反応生成物を次いで50°及び30Torrで揮
発分を除去し、式AMe2SiO(MezStO) +
5Sil’1e2A(式中、Aは次式を有するジアクリ
ルオキシ基を示すニ ーC)1zc11zc)1zOcHzcH(O□CC)
l=c)12)CH□0□CCH=Clz)を有する目
的シロキサンを得た。
実施±11
実施例11において開示した式
%式%
を有するシロキサン2部をIrgacure500光開
始剤と混合し、得られた混合物をスーパーカレンダリン
グされたクラフト紙上に被覆した。被覆紙を45フイ一
ト/分の速度で2本の紫外線ランプの下を通過させたと
ころ、被膜をべとつき物質、こすり落ち、及び移動のな
い密着剥離性被膜に硬化させた。
始剤と混合し、得られた混合物をスーパーカレンダリン
グされたクラフト紙上に被覆した。被覆紙を45フイ一
ト/分の速度で2本の紫外線ランプの下を通過させたと
ころ、被膜をべとつき物質、こすり落ち、及び移動のな
い密着剥離性被膜に硬化させた。
実1」[L炙
実施例11において開示された式
ΔMe2SiO(Me2SiO)+sSiMe2Aを有
するシロキサンをスーパーカレンダリングされたクラフ
ト紙上に被覆し、被覆紙を5メガラフトの電子線に曝露
したところ、被膜をべとつき物質、こすり落ち及び移動
のない密着剥離性被膜に硬化させた。
するシロキサンをスーパーカレンダリングされたクラフ
ト紙上に被覆し、被覆紙を5メガラフトの電子線に曝露
したところ、被膜をべとつき物質、こすり落ち及び移動
のない密着剥離性被膜に硬化させた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(i)ある量の下記一般式を有するジオキソラン化
合物: ▲数式、化学式、表等があります▼ (ii)少なくとも1個のケイ素結合水素原子を含有す
る水素化ケイ素化合物及び (iii)ある量のヒドロシリル化触媒よりなる成分を
混合し、該混合の条件及び(i)、(ii)及び(ii
i)の量がジオキソラン化合物と水素化ケイ素化合物の
間にヒドロシリル化反応を起こさせるために十分なもの
であることにより、下記一般式を有する少なくとも1個
のケイ素結合ジオキソラン基を含有するジオキソラン置
換有機ケイ素化合物を形成することを特徴とする方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Q′は一価の脂肪族不飽和有機基であり、Mは
1〜6個の炭素原子を含有する脂肪族不飽和基のない一
価炭化水素基であり、M′はH又はMであり、及びQは
ケイ素−炭素結合によりケイ素原子に結合している二価
有機基であり、水素化ケイ素及びジオキソラン置換有機
ケイ素化合物の全ての残りのケイ素原子価は一価炭化水
素基、一価ハロ炭化水素基、一価加水分解性基、水素原
子及びケイ素原子を連結する二価基よりなる群から選ば
れた脂肪族不飽和基のない基により飽和されている) 2、水素化ケイ素化合物が一般式R_aSiHZ_(_
3_−_a_)(式中、Zは該一価加水分解性基であり
、aは0、1、2或いは3の値を有し、Rは該一価炭化
水素及びハロ炭化水素基である) を有する水素化シランである特許請求の範囲第1項記載
の方法。 3、Zが水素であり、RがMeであり、及びジオキソラ
ン化合物が次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Mはメチル基である) を有する特許請求の範囲第2項記載の方法。 4、水素化シランが下記一般式を有する水素化シロキサ
ンである特許請求の範囲第1項記載の方法。 (R′Me_2SiO)_w(Me_2SiO)_x(
MeR′SiO)_y(MeHSiO)_2(SiMe
_2R′)_w (式中、Meはメチル基であり、R′は水素原子及びR
基よりなる群から選ばれ、x、y及びzは0以上の平均
値を有し、線状水素化シロキサンについては各wは1の
値を有しかつx+y+zは0以上の平均値を有し、環状
水素化シロキサンについては各wは0の値を有しかつx
+y+zは少なくとも3の平均値を有し、水素化シロキ
サンのモル当り平均少なくとも1個のケイ素結合水素原
子が存在する) 5、ジオキソラン化合物が次式を有する特許請求の範囲
第4項記載の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 6、更にジオキソラン置換有機ケイ素化合物に (iv)ある量の加水分解化合物及びアルコール分解化
合物よりなる群から選ばれた化合物よりなる分解剤を混
合し、該混合の条件及び分解剤の量が全ての該ジオキソ
ラン基をジオール基に変えるに十分であることにより下
記一般式を有する少なくとも1個のケイ素結合ジオール
基を含有するジオール置換有機ケイ素化合物を形成する
ことよりなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Qは既述の意味を有し、ジオール置換有機ケイ素
化合物の全ての残りのケイ素原子価は一価炭化水素基、
一価ハロ炭化水素基、一価加水分解性基、ヒドロキシル
基、水素原子及びケイ素原子を連結する二価基よりなる
群から選ばれる脂肪族不飽和基のない基により飽和され
ている) 7、ジオキソラン置換有機ケイ素化合物が下記一般式を
有するオルガノシランである特許請求の範囲第6項記載
の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Zは該一価加水分解性基であり、aは0、1、2
又は3の値を有し、Rは該一価炭化水素及びハロ炭化水
素基である) 8、Zが塩素であり、RがMeであり、該ジオキソラン
基の各々が下記一般式を有する特許請求の範囲第7項記
載の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Meはメチル基である) 9、ジオキソラン置換有機ケイ素化合物が下記一般式を
有するオルガノシロキサンである特許請求の範囲第6項
記載の方法。 (XMe_2SiO)_w(Me_2SiO)_x(M
eXSiO)_y(MeHSiO)_2(SiMe_2
X)_w (式中Meはメチル基であり、Xは水素原子、R基及び
ジオキソラン基よりなる群から選ばれ、x、y及びzは
0以上の平均値を有し、線状オルガノシロキサンについ
ては各wは1の値を有しかつx+y+zは0以上の平均
値を有し、環状オルガノシロキサンについては各wは0
の値を有しかつx+y+zは少なくとも3の平均値を有
し、オルガノシロキサンのモル当り平均少なくとも1個
の該ケイ素結合ジオキソラン基が存在する) 10、該ジオキソラン基の各々が下記一般式を有する特
許請求の範囲第9項記載の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 11、更にジオール置換有機ケイ素化合物に (v)ある量の次式を有するアクリル化合物 CH_2=CR″COG (式中R″はH或いはCH_3であり、Gはハロゲン基
、ヒドロキシ基、アルコキシ基及びCH_2=CR″C
O_2よりなる群から選ばれる)を混合し、アクリル化
合物の該量及び該混合の条件が該ジオール基の全てをジ
アクリレート基に転換するのに十分であることにより下
記一般式を有する少なくとも1個のケイ素結合ジアクリ
レート基を含有するジアクリレート置換有機ケイ素化合
物を形成することを特徴とする特許請求の範囲第6項記
載の方法: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Q及びR″は既述の意味を有し、ジアクリレー
ト置換有機ケイ素化合物の全ての残りのケイ素原子価は
一価炭化水素基、一価ハロ炭化水素基、一価加水分解性
基、水素原子及びケイ素原子を連結する二価基より選ば
れた脂肪族不飽和基のない基により飽和されている)。 12、ジオール置換有機ケイ素化合物が下記一般式を有
するオルガノシロキサンである特許請求の範囲第11項
記載の方法。 (LMe_2SiO)_w(Me_2SiO)_x(M
eLSiO)_y(MeHSiO)_z(SiMe_2
L)_w (式中、Meはメチル基であり、LはR基、水素原子及
びジオール基よりなる群から選ばれ、x、y及びzは0
以上の平均値を有し、線状オルガノシロキサンについて
は各wは1の値を有しかつx+y+zは0以上の平均値
を有し、環状オルガノシロキサンについては各wは0の
値を有しかつx+y+zは少なくとも3の平均値を有し
、オルガノシロキサンのモル当り平均少なくとも1個の
該ケイ素結合ジオキソラン基が存在する) 13、該ジオール基の各々が次式を有する特許請求の範
囲第12項記載の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 14、下記一般式を有する少なくとも1個のケイ素結合
ジオキソラン基を含有することを特徴とするジオキソラ
ン置換有機ケイ素化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Qはケイ素−炭素結合によりケイ素原子に結合
している二価有機基であり、Mは1〜6個の炭素原子を
含有する脂肪族不飽和基のない一価炭化水素基であり、
M′はH或いはMであり、水素化ケイ素及びジオキソラ
ン置換有機ケイ素化合物の全ての残りのケイ素原子価は
一価炭化水素基、一価ハロ炭化水素基、一価加水分解性
基、水素原子及びケイ素原子を連結する二価基よりなる
群から選ばれた脂肪族不飽和基のない基により飽和され
ている) 15、次式を有する特許請求の範囲第14項記載の有機
ケイ素化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Zは該一価加水分解性基であり、aは0、1、2
又は3の値を有し、Rは該一価炭化水素基及びハロ炭化
水素基である) 16、Zが塩素であり、RがMeであり、該ジオキソラ
ン基の各々が次式を有する特許請求の範囲第15項記載
の有機ケイ素化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Meはメチル基である) 17、次式を有する特許請求の範囲第14項記載の有機
ケイ素化合物。 (XMe_2SiO)_w(Me_2SiO)_x(M
eXSiO)_y(MeHSiO)_2(SiMe_2
X)_w (式中、Meはメチルであり、Xは水素原子、R基及び
ジオキソラン基よりなる群から選ばれ、x、y及びzは
0以上の平均値を有し、線状オルガノシロキサンについ
ては各wは1の値を有しかつx+y+zは0以上の平均
値を有し、環状オルガノシロキサンについては各wは0
の値を有しかつx+y+zは少なくとも3の平均値を有
し、オルガノシロキサンのモル当り平均少なくとも1個
の該ケイ素結合ジオキソラン基が存在する) 18、該ジオキソラン基の各々が次式を有する特許請求
の範囲第17項記載の有機ケイ素化合物。 19、下記一般式を有する少なくとも1個のケイ素結合
ジオール基を含有するジオール置換有機ケイ素化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Qはケイ素−炭素結合によりケイ素原子に結合
された二価有機基であり、ジオール置換有機ケイ素化合
物の全ての残りのケイ素原子価は一価炭化水素基、一価
ハロ炭化水素基、一価加水分解性基、ヒドロキシル基、
水素原子及びケイ素原子を連結する二価基よりなる群か
ら選ばれる脂肪族不飽和基のない基により飽和されてい
る) 20、下記一般式を有する特許請求の範囲第19項記載
の有機ケイ素化合物。 (LMe_2SiO)_w(Me_2SiO)_x(M
eLSiO)_y(MeHSiO)_z(SiMe_2
L)_w (式中、Meはメチル基であり、LはR基、水素原子及
びジオール基よりなる群から選ばれ、x、y及びzは0
以上の平均値を有し、線状オルガノシロキサンについて
は各wは1の値を有しかつx+y+zは0以上の平均値
を有し、環状オルガノシロキサンについては各wは0の
値を有しかつx+y+zは少なくとも3の平均値を有し
、オルガノシロキサンのモル当り平均少なくとも1個の
該ケイ素結合ジオキソラン基が存在する) 21、各ジオール基の各々が次式を有する特許請求の範
囲第20項記載の有機ケイ素化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 22、下記一般式を有する少なくとも1個のケイ素結合
ジアクリレート基を含有するジアクリレート置換有機ケ
イ素化合物を含んでなる組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (茲にQはケイ素−炭素結合によりケイ素原子に結合し
ている二価有機基であり、R″はH又はCH_3であり
、ジアクリレート置換有機ケイ素化合物の全ての残りの
ケイ素原子価は一価炭化水素基、一価ハロ炭化水素基、
一価加水分解性基、水素原子及びケイ素原子に連結する
二価基よりなる群から選ばれた脂肪族不飽和基のない基
により飽和されている) 23、有機ケイ素化合物が下記一般式を有する特許請求
の範囲第22項記載の組成物。 (AMe_2Si0)_w(Me_2SiO)_x(M
eASiO)_y(MeHSiO)_z(SiMe_2
A)_w (式中、Meはメチル基であり、AはR基、水素原子及
びジアクリレート基よりなる群から選ばれ、x、y及び
zは0以上の平均値を有し、線状オルガノシロキサンに
ついては各wは1の値を有しかつx+y+zは0以上の
平均値を有し、環状オルガノシロキサンについては各w
は0の値を有しかつx+y+zは少なくとも3の平均値
を有し、オルガノシロキサンのモル当り平均少なくとも
1個の該ケイ素結合ジアクリレート基が存在する) 24、該ジアクリレート基の各々が次式を有する特許請
求の範囲第23項記載の組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 25、ジアクリレート置換有機ケイ素化合物を含んでな
る組成物を基材に塗布し、その後塗布された被膜を該有
機ケイ素化合物が固体状態に転換されるまでアクリレー
ト重合性放射線に曝露することよりなり、該有機ケイ素
化合物が下記一般式を有する少なくとも1個のケイ素結
合ジアクリレート基を含有することを特徴とする方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Qはケイ素−炭素結合によりケイ素原子に結合
している二価有機基であり、R″はH又はCH_3であ
り、ジアクリレート置換有機ケイ素化合物の全ての残り
のケイ素原子価は一価炭化水素基、一価ハロ炭化水素基
、一価加水分解性基、水素原子及びケイ素原子を連結す
る二価基よりなる群から選ばれた脂肪族不飽和基のない
基により飽和されている) 26、有機ケイ素化合物が下記一般式を有する特許請求
の範囲第25項記載の方法。 (AMe_2SiO)_w(Me_2SiO)_x(M
eASiO)_y(MeHSiO)_z(SiMe_2
A)_w (式中、Meはメチル基であり、AはR基、水素原子及
びジアクリレート基よりなる群から選ばれ、x、y及び
zは0以上の平均値を有し、線状オルガノシロキサンに
ついては各wは1の値を有しかつx+y+zは0以上の
平均値を有し、環状オルガノシロキサンについては各w
は0の値を有しかつx+y+zは少なくとも3の平均値
を有し、オルガノシロキサンのモル当り平均少なくとも
1個の該ケイ素結合ジアクリレート基が存在する) 27、該ジアクリレート基の各々が次式を有する特許請
求の範囲第26項記載の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US91489986A | 1986-10-03 | 1986-10-03 | |
US914899 | 1986-10-03 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP36123191A Division JPH05306305A (ja) | 1986-10-03 | 1991-12-25 | ジアクリレートケイ素化合物の製造方法及び用途 |
JP36123291A Division JPH06298773A (ja) | 1986-10-03 | 1991-12-25 | ジオール置換有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63101388A true JPS63101388A (ja) | 1988-05-06 |
Family
ID=25434929
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24817087A Pending JPS63101388A (ja) | 1986-10-03 | 1987-10-02 | ジオキソラン置換有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
JP36123191A Withdrawn JPH05306305A (ja) | 1986-10-03 | 1991-12-25 | ジアクリレートケイ素化合物の製造方法及び用途 |
JP36123291A Withdrawn JPH06298773A (ja) | 1986-10-03 | 1991-12-25 | ジオール置換有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP36123191A Withdrawn JPH05306305A (ja) | 1986-10-03 | 1991-12-25 | ジアクリレートケイ素化合物の製造方法及び用途 |
JP36123291A Withdrawn JPH06298773A (ja) | 1986-10-03 | 1991-12-25 | ジオール置換有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0266895A3 (ja) |
JP (3) | JPS63101388A (ja) |
FI (1) | FI874335A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017154545A1 (ja) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | Jsr株式会社 | レジストプロセス用膜形成材料、パターン形成方法及び重合体 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3830592A1 (de) * | 1988-09-08 | 1990-04-12 | Consortium Elektrochem Ind | (meth)acryloxygruppen enthaltende fluessigkristalline polyorganosiloxane |
JPH02255688A (ja) * | 1989-03-29 | 1990-10-16 | Toshiba Silicone Co Ltd | ヒドロキシル基含有有機ケイ素化合物 |
US4954269A (en) * | 1989-07-10 | 1990-09-04 | Dow Corning Corporation | Dioxolane functional silicon compounds and method for their preparation and use |
DE4002922A1 (de) * | 1990-02-01 | 1991-08-08 | Wacker Chemie Gmbh | Alkenyloxygruppen aufweisende siloxancopolymere, deren herstellung und verwendung |
US5371128A (en) * | 1994-01-14 | 1994-12-06 | Dow Corning Corporation | Hot-melt silicone pressure sensitive adhesive with siloxylated allyloxypropane diol copolymers as additives |
US8097565B2 (en) * | 2003-06-30 | 2012-01-17 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Silicone hydrogels having consistent concentrations of multi-functional polysiloxanes |
JP4605018B2 (ja) * | 2004-02-16 | 2011-01-05 | 東亞合成株式会社 | 有機ケイ素化合物の製造方法並びにジオールを有する有機ケイ素樹脂及びその製造方法 |
JP5051383B2 (ja) * | 2008-04-25 | 2012-10-17 | 信越化学工業株式会社 | (メタ)アクリル変性シロキサン化合物及びそれを含有する硬化性組成物 |
BR112012007064A2 (pt) * | 2009-09-29 | 2016-04-19 | Interfacial Soluitons Ip Llc | mistura compatibilizadora para composições poliméricas |
DE102010028182A1 (de) | 2010-04-26 | 2011-10-27 | Momentive Performance Materials Gmbh | Hydrophile Polyorganosiloxane |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1179741A (fr) * | 1956-08-15 | 1959-05-27 | Dow Corning | Dioxolanes organosiliciques |
US3932464A (en) * | 1971-12-03 | 1976-01-13 | Dynamit Nobel Aktiengesellschaft | Siliceous dioxolane derivatives |
DE2559259A1 (de) * | 1975-12-31 | 1977-07-14 | Dynamit Nobel Ag | Silane mit verkappten funktionellen gruppen als haftvermittler |
US4293678A (en) * | 1979-11-26 | 1981-10-06 | Union Carbide Corporation | Radiation-curable acrylated epoxy silicone compositions |
US4259467A (en) * | 1979-12-10 | 1981-03-31 | Bausch & Lomb Incorporated | Hydrophilic contact lens made from polysiloxanes containing hydrophilic sidechains |
US4260725A (en) * | 1979-12-10 | 1981-04-07 | Bausch & Lomb Incorporated | Hydrophilic contact lens made from polysiloxanes which are thermally bonded to polymerizable groups and which contain hydrophilic sidechains |
US4568566A (en) * | 1984-10-30 | 1986-02-04 | General Electric Company | Acrylic-functional silicone resin compositions |
-
1987
- 1987-10-01 EP EP87308712A patent/EP0266895A3/en not_active Withdrawn
- 1987-10-02 JP JP24817087A patent/JPS63101388A/ja active Pending
- 1987-10-02 FI FI874335A patent/FI874335A/fi not_active Application Discontinuation
-
1991
- 1991-12-25 JP JP36123191A patent/JPH05306305A/ja not_active Withdrawn
- 1991-12-25 JP JP36123291A patent/JPH06298773A/ja not_active Withdrawn
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
CHEMICAL ABSTRACTS=1967 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017154545A1 (ja) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | Jsr株式会社 | レジストプロセス用膜形成材料、パターン形成方法及び重合体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0266895A3 (en) | 1990-03-07 |
JPH06298773A (ja) | 1994-10-25 |
FI874335A (fi) | 1988-04-04 |
EP0266895A2 (en) | 1988-05-11 |
FI874335A0 (fi) | 1987-10-02 |
JPH05306305A (ja) | 1993-11-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100338136B1 (ko) | 오르가노폴리실록산 및 오르가노폴리실록산의 제조방법 | |
EP0146307B1 (en) | Radiation activated hydrosilation | |
EP0543384B1 (en) | Epoxy-containing organopolysiloxane and method for the preparation thereof | |
EP0541988B1 (en) | Organopolysiloxane and method for the preparation thereof | |
US5270423A (en) | Organosilicon compounds and compositions containing them | |
JPH0718078A (ja) | オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 | |
US5486565A (en) | Organosilicon compounds and low temperature curing organosiloxane compositions containing same | |
JPS6035934B2 (ja) | チオ官能性ポリシロキサン重合体の製法 | |
JPH0832763B2 (ja) | シルフェニレンを含有するuv硬化可能なエポキシ官能性シリコ―ン | |
JPH06166740A (ja) | ペンダントシリコーン樹脂を担持するuv硬化性エポキシシリコーン | |
US5512605A (en) | One-part UV-curable epoxy silicone compositions | |
JPH0236134B2 (ja) | ||
JPH0832762B2 (ja) | Uv硬化性エポキシシリコ―ン | |
JPS63101388A (ja) | ジオキソラン置換有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
KR100344475B1 (ko) | 오가노실록산화합물 | |
TW593441B (en) | Film-forming silicone resin composition | |
JPS6330562A (ja) | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | |
US4908228A (en) | Dioxolane, diol and diacrylate silicon compounds and method for their preparation and use | |
JP3022101B2 (ja) | 剥離性オルガノポリシロキサン組成物及び剥離紙 | |
JPH04348127A (ja) | アルケニル基を有するシロキサンコポリマー、その製造方法、その組成物及び粘着性物質を固着防止する被覆の製造方法 | |
JPH0633343B2 (ja) | オルガノシリコーン処理シリカ及びそれを含む組成物、並びにその組成物の製造方法 | |
DE69930825T2 (de) | Verfahren zur Herstellung funktionalisierter Siloxane, Zusammensetzungen, die solche Siloxane enthalten und daraus hergestellte Artikel | |
JP2000086765A (ja) | 有機ケイ素組成物 | |
US2590812A (en) | Siloxanes having hydrogen atoms directly attached to silicon atoms | |
US4661616A (en) | Benzoic and benzacrylic acid esters |