JPH0832763B2 - シルフェニレンを含有するｕｖ硬化可能なエポキシ官能性シリコ―ン - Google Patents

シルフェニレンを含有するｕｖ硬化可能なエポキシ官能性シリコ―ン

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JPH0832763B2
JPH0832763B2 JP3073631A JP7363191A JPH0832763B2 JP H0832763 B2 JPH0832763 B2 JP H0832763B2 JP 3073631 A JP3073631 A JP 3073631A JP 7363191 A JP7363191 A JP 7363191A JP H0832763 B2 JPH0832763 B2 JP H0832763B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエポキシ官能性のオルガ
ノポリシロキサンに係り、特に、シルアリ―レンを含有
するエポキシ官能性のオルガノポリシロキサンおよび絶
縁保護（コンフォ―マル）コ―ティングとしての用途に
係る。
【０００２】
【従来の技術】回路基板上に搭載される電子素子の保護
コ―ティングとしてＵＶ（紫外線）で硬化可能なシリコ
―ン組成物が広く認められるようになって来た。シリコ
―ンは耐湿性、熱安定性および比抵抗が良好であるので
この目的に対して理想的である。放射線で硬化可能なシ
リコ―ンの硬化化学はほとんどの場合遊離基機構であ
り、これには光開始剤のＵＶ光照射によって生じる遊離
基（フリ―ラジカル）の流量が高い必要がある。
【０００３】遊離基架橋プロセスの欠点は、このプロセ
スが大気中の酸素によって抑制されるということであ
る。この「酸素効果」は酸素透過性のシリコ―ンシステ
ムの場合特に厄介である。したがって、速やかな硬化応
答を得るには、雰囲気を窒素で置換して酸素による硬化
抑制を防止するか、またはアミン‐ベンゾフェノン型の
相乗触媒系を使用して酸素硬化に打勝つかしなければな
らない。
【０００４】生産用紫外線照射設備を不活性雰囲気で置
換するのは、特に広いウェブによる転換作業または高速
の処理をする場合には、容易ではないし経済的でもな
い。また、アミン‐ベンゾフェノン型の相乗触媒系は有
機のアクリレ―トＵＶ硬化樹脂では酸素による抑制を克
服するのに有用であるが、この系はジメチルシリコ―ン
ポリマ―には溶解しないことが多い。メルカプト‐シリ
コ―ンおよびアクリレ―ト化シリコ―ンをある種の光増
感剤と組合せることによって、不活性置換してなくても
速いＵＶ硬化を達成することは可能であるが、そのよう
な系は準安定であって貯蔵寿命と可使時間の制限を受け
易い。
【０００５】現在のところ、コンフォ―マルコ―ティン
グ、オプチカルファイバ―コ―ティングおよび電気素子
のカプセル封じに有用なＵＶ硬化性シリコ―ンコ―ティ
ングはケイ素に結合したメルカプト‐オレフィン基また
はアクリレ―ト基を含有している。たとえば、米国特許
第４，５５８，０８２号、第４，５８５，６６９号、第
４，５８７，１３７号、第４，４９６，２１０号および
第４，７８０，４８６号を参照されたい。
【０００６】しかしながら、メルカプト‐オレフィンや
アクリレ―トを使用することにはいくつかの欠点があ
る。たとえば、アクリレ―トは毒性があり、アクリレ―
トモノマ―とメルカプタンはいずれも極めて不快な匂い
を発してこれが硬化後の製品にも残存することがあり、
そして、これらを使用する際には予防／安全対策を講じ
なければならないために工業的応用が容易でない。
【０００７】したがって、メルカプト‐オレフィン官能
基やアクリレ―ト官能基を含有せず、しかもフリ―ラジ
カルによる架橋硬化プロセスを使用しないＵＶ硬化性シ
リコ―ン組成物からできたコンフォ―マルコ―ティング
ならびにオプチカルファイバ―や電気素子のカプセル封
じ用のコ―ティングを提供することが望ましい。
【０００８】カチオン（ラジカルではない）によるＵＶ
硬化プロセスは酸素による影響を受けないので、シリコ
―ンの高速塗装・硬化プロセスに適切である。シリコ―
ンのカチオンによるＵＶ硬化がエポキシ官能性のシリコ
―ンでは最も実用的であることが判明した。
【０００９】したがって、ＵＶで硬化可能なエポキシ官
能性シリコ―ン組成物でできたコンフォ―マルコ―ティ
ングならびにオプチカルファイバ―や電気素子のカプセ
ル封じ用のコ―ティングを提供することができれば望ま
しいであろう。
【００１０】現在、エポキシで官能化されたシリコ―ン
ポリマ―とシリコ―ンに混和できるヨ―ドニウム系光触
媒を含有するエポキシシリコ―ン組成物が剥離用コ―テ
ィングとして使用されている。
【００１１】高速で無溶剤型のシリコ―ン剥離剤による
加工処理要件のため、ＵＶ硬化性のエポキシシリコ―ン
剥離用組成物は、充填材を含まない低分子量で高度にオ
ルガノ官能化されたポリマ―（したがって、これから硬
化された膜は他のコ―ティング用途には不向きな脆性で
摩耗し易い弱い物質である）に限られている。
【００１２】引張強さが高くて伸び率が高い強靭なコン
フォ―マルコ―ティングが望まれている。
【００１３】したがって、コンフォ―マルコ―ティング
ならびにオプチカルファイバ―や電気素子のカプセル封
じ用のコ―ティングとして使用される改善された膜特性
を有するＵＶで硬化可能なエポキシ官能性のシリコ―ン
コ―ティングを提供することが望ましかったのである。
【００１４】さらに、改善された膜特性を有し、充填材
を使用しないエポキシ官能性のシリコ―ンコ―ティング
を提供することが望まれていた。充填材はＵＶ光を遮断
して、その結果硬化をひどく遅らせる傾向がある。ま
た、エポキシ官能性のシリコ―ンポリマ―などのような
低粘度のマトリックス中に充填材を配合するのは困難で
ある。
【００１５】
【発明の概要】したがって、本発明のひとつの目的は、
酸素によって抑制されることのない速いＵＶ硬化と共
に、コンフォ―マルコ―ティングならびにオプチカルフ
ァイバ―や電気素子のカプセル封じ用のコ―ティングと
して使用される改善された膜特性をあわせもつＵＶで硬
化可能なエポキシ官能性のシリコ―ンコ―ティングを提
供することである。
【００１６】本発明のさらに別の目的は、充填材を使用
しないで改善された膜特性をもつＵＶ硬化性のエポキシ
官能性シリコ―ンコ―ティングを提供することである。
【００１７】これらの目的は本発明で達成される。
【００１８】本発明は、 （Ａ）下記一般式を有するシルアリ―レン含有エポキシ
官能性ジオルガノポリシロキサン
【００１９】
【化１３】 （ここで、Ｅは２〜２０個の炭素原子を有するエポキシ
官能性の有機基を表わし、Ｒはそれぞれ独立して、１〜
８個の炭素原子を有する低級アルキル基であり、Ｒ1 は
６〜１４個の炭素原子を有する二価の芳香族有機基であ
り、ｘは０から約１００までの値である）、および
（Ｂ）触媒量の、１種または一組のオニウム塩光開始剤
からなる、紫外線で硬化可能な組成物を提供する。
【００２０】
【発明の詳細】本発明で使用するシルアリ―レン含有の
エポキシ官能性シリコ―ン組成物は、（１）白金触媒を
触媒量で存在させて化学量論的に過剰量のビス（ジオル
ガノシリル）アリ―レンをビニルジオルガノシロキシで
停止したポリジオルガノシロキサンと反応させるヒドロ
シレ―ション反応と、次いで行なわれる、（２）段階
（１）の生成物とエポキシ、たとえば４‐ビニルシクロ
ヘキセンオキシド（ＶＣＨＯ）との反応からなる段階的
プロセスによって製造される。このプロセスは次の反応
式で表わされる。
【００２１】
【化１４】 この生成物はシルアリ―レン残基とシロキサン残基をも
ちエポキシで停止した線状のシリコ―ンポリマ―であ
る。
【００２２】上記の式中で、Ｒは１〜約８個の炭素原子
を有する低級アルキルであり、メチル基が好ましい。Ｒ
1 は６〜約１４個の炭素原子を有する二価の芳香族有機
基（たとえば、フェニレン、トリレン、ナフタレン、
４，４′‐ビフェニレン、４，４′‐ジフェニレンエ―
テルなど）またはハロゲン化された二価の芳香族炭化水
素基（たとえば、クロロフェニレン、ブロモナフタレン
など）である。Ｒ1 はフェニレン基が最も好ましい。ｘ
は約０から約１００までの値であり、約０から約５０ま
でが好ましく、約１０から約３０までが最も好ましい。
Ｅ1 はオレフィン官能性とエポキシ官能性を両方とも有
する有機化合物である。Ｅは２〜２０個の炭素原子を有
するエポキシ官能性の有機基である。Ｅは４‐ビニルシ
クロヘキセンオキシドから誘導されるのが最も好まし
く、次式をもっている。
【００２３】
【化１５】 上記のプロセスの段階（１）で使用する好ましいビス
（ジオルガノシリル）アリ―レンはｐ‐ビス（ジメチル
シリル）ベンゼンである。
【００２４】上記プロセスの段階（１）で使用するビニ
ル官能性のシロキサンは、ジメチルビニルで連鎖停止し
た線状のポリジメチルシロキサン、ジメチルビニルで連
鎖停止したポリジメチル‐メチルビニルシロキサンコポ
リマ―、テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキ
サン、およびテトラメチルジビニルジシロキサンより成
る群の中から選択することができる。このビニル官能性
シロキサンはｓｙｍ‐テトラメチルジビニルジシロキサ
ンまたはジメチルビニルで連鎖停止した線状のポリジメ
チルシロキサンが好ましい。
【００２５】上記プロセスの段階（２）で使用する触媒
はビニル基の二重結合に水素を付加するのに有効な白金
金属触媒である。通常、シロキサンの百万部当たり約５
部（約５ ppm）の白金金属がこのヒドロシレ―ション反
応を促進するのに有効である。例としては、米国特許第
３，２２０，９７２号、第３，８１４，７３０号、第
３，７７５，４５２号および第３，７１５，３３４号
（これらはいずれも引用により本明細書に含ませること
とする）に例示されているものがある。特に有用なもの
は、カ―ルシュテット(Karstedt)の米国特許第３，８１
４，７３０号（引用により本明細書に含まれているもの
とする）に記載されているようにテトラメチルジビニル
ジシロキサンで処理してあるクロロ白金酸から誘導され
る白金触媒（以後、「Karstedt触媒」とする）である。
【００２６】上記プロセスの段階（２）で使用するのに
適したエポキシ化合物としては、リモネンオキシド、４
‐ビニルシクロヘキセンオキシド、アリルグリシジルエ
―テル、７‐エポキシ‐１‐オクテンなどのようなオレ
フィン性エポキシモノマ―がある。脂環式のエポキシド
はカチオンによる硬化応答がそのグリシジルエ―テル類
似体の硬化応答よりずっと速いので、脂環式エポキシド
が本発明で使用するのに好ましい。好ましい脂環式エポ
キシドは４‐ビニルシクロヘキセンオキシドである。
【００２７】したがって、本発明の最も好ましい態様に
おいては、成分（Ａ）のシルアリ―レン含有エポキシ官
能性シリコ―ンが次式を有する。
【００２８】
【化１６】 ただし、ｘは約１０〜約３０である。
【００２９】本発明の組成物の成分（Ｂ）は１種類のオ
ニウム塩光開始剤であるか、または一組のオニウム塩光
開始剤である。適切な光開始剤は次式を有するオニウム
塩である。 Ｒ2 Ｉ+ ＭＸn - Ｒ3 Ｓ+ ＭＸn - Ｒ3 Ｓｅ+ ＭＸn - Ｒ4 Ｐ+ ＭＸn - Ｒ4 Ｎ+ ＭＸn - ここで、Ｒで表わされる基は炭素原子１〜３０個の同一
または異なる有機基であることができ、たとえば、Ｃ
(1-8) アルコキシ、Ｃ(1-8) アルキル、ニトロ、クロ
ロ、ブロモ、シアノ、カルボキシ、メルカプトなどの中
から選択される１〜４個の一価の基で置換されているこ
ともできる炭素原子６〜２０個の芳香族炭素環式基であ
ることができ、また、たとえばピリジル、チオフェニ
ル、ピラニルなどを始めとする芳香族の複素環式基であ
ることもでき、ＭＸn - はＢＦ4 - 、ＰＦ6 - 、ＡｓＦ
6 - 、ＳｂＦ6 - 、ＳｂＣｌ6 - 、ＨＳＯ4 - 、ＣｌＯ
4 - などのような塩基性ではなく親核性でもないアニオ
ンである。
【００３０】本発明で使用するのに好ましいオニウム塩
はジアリ―ルヨ―ドニウム塩である。適したジアリ―ル
ヨ―ドニウム塩の例は、たとえば米国特許第４，８８
２，２０１号（引用により本明細書中に含まれるものと
する）に開示されている。これらの塩の中で最も好まし
いのは次式を有するものである。
【００３１】
【化１７】 その他の適切なジアリ―ルヨ―ドニウム塩の特定例とし
ては、ヘキサフルオロヒ酸ビス（ドデシルフェニル）ヨ
―ドニウムおよびヘキサフルオロアンチモン酸ビス（ド
デシルフェニル）ヨ―ドニウムがある。これらのヨ―ド
ニウム塩のうち最も好ましいのはヘキサフルオロアンチ
モン酸ビス（ドデシルフェニル）ヨ―ドニウムである。
【００３２】本発明の組成物中に存在する触媒の量は、
適正な重合が生起する限り臨界的なものではない。あら
ゆる触媒の場合と同様に、可能な最低の有効量を使用す
るのが好ましい。本発明の目的にとっては約０．５〜
５．０重量％の触媒濃度が適していることが判明してい
る。
【００３３】改良された物理的性質を得るために、本発
明のシルアリ―レン含有エポキシ官能性シリコ―ンに対
する式（Ｉ）中のｘの値は０程度に低くすることができ
る。通常ｘは約０から約１００までの範囲である。好ま
しくはｘが約１０〜約５０であり、約１０〜約３０であ
るのが最も好ましい。
【００３４】本発明の別の局面は、本発明のＵＶ硬化性
組成物の製造方法に関する。この硬化性組成物は、前記
したエポキシ官能性のシリコ―ンポリマ―とオニウム塩
光触媒とを単に一緒にするだけで製造される。本発明の
物品を製造するには、上記のような組成物をコンフォ―
マル（絶縁保護）コ―ティングとして使用しようとする
場合、この組成物を回路基板などのような基体に塗布し
た後、被覆された基体をその組成物を硬化させるのに充
分な紫外線に暴露し、最後にその物品を室温もしくは高
温に暴露するか、あるいはさらに長く紫外線照射に暴露
するかによって硬化を完了せしめる。
【００３５】さらに別の局面は、基体表面に、成分
（Ａ）と成分（Ｂ）からなる硬化した組成物を含有する
コ―ティングが設けられた基体からなる製品に関する。
【００３６】
【実施例の記載】当業者が本発明をより容易に実施する
ことができるように、限定ではなく例示の意味で以下に
実施例を挙げる。実施例１ ｓｙｍ‐テトラメチルジビニルジシロキサン１８．６
ｇ（０．１０モル）を５００mlのフラスコ中でヘキサン
１００ｇに分散させた。Karstedt白金触媒（活性白金５
％含有）を０．０３ｇ加え、混合物を攪拌しながら４８
℃に暖めた。この時点で、ヘキサン５０ｇに溶かしたｐ
‐ビス（ジメチルシリル）ベンゼン３８．８ｇの溶液を
ゆっくり滴下して加えた。発熱反応が起こり、フラスコ
の温度は５５℃まで上昇した。添加が完了した後反応混
合物を１時間４５℃に維持した。反応混合物のフ―リエ
変換（すなわち、コンピュ―タ―処理した）赤外分光
（ＦＴＩＲ）分析によって、この予備反応が生起したこ
とが確認された（１６００cm-1のビニル伸縮は消失し
た）。
【００３７】
【化１８】 ここで、反応混合物に対して５０℃で４‐ビニルシクロ
ヘキセンオキシド（ＶＣＨＯ）を２４．８ｇ加えた。第
二の発熱反応が観察された後、ＦＴＩＲ分析で２２００
cm-1のＳｉＨの強い吸収が消えたことが確かめられた。
次に、窒素を激しく掃気しながらこのバッチを１００℃
に暖めてヘキサンと未反応ＶＣＨＯを除いた。最終的
に、ブルックフィ―ルド(Brookfield)ＬＶＦ＃４粘度計
を用いて６０ rpmで測定した粘度が３８５０ cpsの流体
生成物を７８ｇ回収した。この生成物は２５℃での屈折
率（ＮD 25）が１．５１９２であり、次式で表わすこと
ができる。
【００３８】
【化１９】 このシルフェニレンを含有するエポキシ官能性のシリコ
―ンで、前記式（Ｉ）に示した「ｘ」の値は０である。比較例Ａ ビス（ジメチルシリル）ベンゼンの代わりにｓｙｍ‐
１，１，３，３‐テトラメチルジシロキサンを２６．８
ｇ（０．２モル）使用した以外は上記実施例１に記載し
たのとほとんど同じ反応を繰返した。粘度が７５cstk
（センチスト―クス）の生成物を回収した。この生成物
はＮD 25が１．４５３８であり、次式で表わすことがで
きる。
【００３９】
【化２０】 実施例２ ｐ‐ビス（ジメチルシリル）ベンゼン２１．３４ｇ
（０．１１モル）を５００ccのフラスコ中でヘキサン３
３ｇに分散させた。−ＣＨ＝ＣＨ2 を２．９７重量％含
有し次の概略式
【００４０】
【化２１】 を有するジメチルビニルシロキシで連鎖停止したポリジ
メチルシロキサン１００ｇとKarstedt触媒０．０５ｇと
をヘキサン５０ｇ中に含有して成る第二の溶液を調製し
た。この第二の溶液を滴下漏斗に入れ、６０℃で攪拌し
ている第一の溶液にゆっくり加えた。６０℃に１時間保
持した後、反応混合物のＦＴＩＲスペクトルをとったと
ころ、存在していたビニルがすべて反応していたことが
立証された。次に、ＶＣＨＯを加えて存在しているＳｉ
Ｈと反応させた。これは、２２００cm-1のＳｉＨの伸縮
の消失によって確かめられる。真空ストリッピングによ
って溶媒を除去するとＮD 25＝１．４４４９で粘度が３
１２cstkである流体生成物が１２８ｇ得られた。この物
質の分子構造は次式で表わされる。
【００４１】
【化２２】 このシルフェニレンを含有するエポキシ官能性のシリコ
―ンで、前記式（Ｉ）に示した「ｘ」の値は２１であ
る。比較例Ｂ ジメチル水素シロキシで連鎖が停止したジメチルシリ
コ―ン流体にＶＣＨＯを添加することによって、次式
【００４２】
【化２３】 の概略構造を有するエポキシで連鎖が停止した線状のポ
リジメチルシロキサンを製造した。この物質は５０cstk
の流体であり、ＮD 25＝１．４２３５であった。実施例３および４ ｘの値がそれぞれ１１２と５６であるジメチルビニル
シロキシで停止した線状のポリジメチルシロキサンを使
用して実施例１と２を繰返した。これらの物質の物理的
性質を下記表１にまとめて示す。
【００４３】上記実施例で製造した組成物の紫外線硬化
応答を次のようにして評価した。２‐エチル‐１，３‐
ヘキサンジオ―ルに溶かしたヘキサフルオロアンチモン
酸４‐オクチルオキシフェニルフェニルヨ―ドニウムの
５０重量／重量％溶液１．０重量％を４つの組成物の各
々と混合した。この光触媒を含む混合物をポリエチレン
クラフト基板に手操作で塗布して２ミルの厚みのコ―テ
ィングを作り、塗布したサンプルを、ＲＰＣモデル１２
０２ＱＣラボ・プロセッサ―(Lab Processor）ユニット
［ハノビア(Hanovia）製中圧水銀ＵＶランプを２つ備え
ている］に入れ、ランプ出力とコンベヤスピ―ドの操作
によって、液体のコ―ティングをスミア（しみ）や移行
のない固体表面に変換するのに必要な最小の紫外光量を
確認した。ＵＶ光量は、付属装置としてモデルＡ３０９
ライトバッグ(Model A309 Lightbug）を備えたインタ―
ナショナル・ライト(International Light）のモデル７
００Ａリサ―チ・フォトメ―タ―(Model 700A Research
Photometer)を用いて測定した。結果を下記表１に示
す。
【００４４】
【表１】 表 １ 実施例 ２ミル硬化に必要な 番 号 ＮD 25 粘 度 ＥＥＷ* ＵＶ光量 mJ／cm2 ーーーーーーーーーーーーーーーー １ １．５１９２ ３８５０ cps ４１１ ３９ 比較Ａ １．４５３８ ７５cstk ３５１ １７ ２ １．４４４９ ３１２cstk １２０２ ２３３ 比較Ｂ １．４２３５ ５０cstk ７１７ １０５ ３ １．４１３４ １８００ cps ８７７１ ＞１０，０００ ４ １．４２０３ ６３７cstk ３３６７ １，５００ ーーーーーーーーーーーーーーーー * ＥＥＷ＝推定したエポキシ当量重量 これらの硬化の結果は驚くには当たらない。というの
は、エポキシ当量重量が増大して架橋密度が減少するに
つれて通常硬化が遅くなる（したがって必要なＵＶ出力
は大きくなる）からである。
【００４５】実施例１と２および比較例ＡとＢで調製し
たコ―ティング組成物の厚いスラブを製造した。すなわ
ち、触媒を含む浴を１５．０ｇ秤量して直径１２cmの浅
いアルミニウム皿に入れた後、上面に焦点を結ばせた
２．２Ｊ／cm2 のＵＶ光をコ―ティングに当て、硬化し
たスラブを型から取出し、その後粘着質な底の面に１．
１Ｊ／cm2 の光量のＵＶを当てた。硬化したセクション
は約５０ミルの厚みであった。このスラブから標準ＡＳ
ＴＭ引張試験棒を切出し、インストロン(Instron）製の
引張試験機を用いてピ―クの引張強さと伸びを測定し
た。
【００４６】これらの実施例の物理的性質の測定結果を
下記表２に挙げる（各サンプルに対していくつかの測定
の平均）。
【００４７】
【表２】 表 ２ 実施例番号 引張(psi） 伸び
（％） １ １４８５ １
２．５ 比較例 Ａ ６７
５．４ ２ ２１７ ２４ 比較例 Ｂ ５未満* ５未
満* ３ ＊＊ ＊
＊ ４ ＊＊ ＊
＊ 表２注：* 試験片が脆過ぎて正確な測定ができなかっ
た。
【００４８】＊＊実施例３では、２ミルの膜に対して１
０Ｊ／cm2 のＵＶ光量では硬化の徴候が認められなかっ
たのでＵＶ硬化効率と膜の物理的性質は確定できなかっ
た。実施例４の組成物は１５００ｍＪ／cm2 のＵＶ光量
にさらすと［光触媒は０．５重量％のヘキサフルオロア
ンチモン酸（４‐オクチルオキシフェニル）フェニルヨ
―ドニウム］粘着性のない２ミルの膜に硬化した。この
物質の厚肉部は硬化が困難であることが分かった。伸び
が６０％で測定されたピ―クの引張強さ７５ psiは試験
片が硬化不足のため不正確であろう。
【００４９】測定された物理的性質を実施例１と比較例
Ａおよび実施例２と比較例Ｂで比較すると明らかなよう
に、エポキシシリコ―ン系にシルフェニレンを導入する
と、硬化速度が許容できない程に遅くなることなく硬化
した膜の性質が大きく改善される。
【００５０】上記の実施例は、エポキシ官能性のシロキ
サン中にシルフェニレン結合が存在するとポリマ―の物
理的性質が大幅に改良されることを示している。

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 （Ａ）一般式： 【化１】 ［式中、Ｅは２〜２０個の炭素原子を有するエポキシ官
    能性の有機基を表わし、Ｒはそれぞれ独立して、１〜８
    個の炭素原子を有する低級アルキル基であり、Ｒ1 は６
    〜１４個の炭素原子を有する二価の芳香族有機基であ
    り、ｘは０から約１００までの値である］を有するシル
    アリ―レン含有エポキシ官能性ジオルガノポリシロキサ
    ン、および（Ｂ）触媒量の光触媒または一組の光触媒か
    らなる、ＵＶ放射線で硬化可能な組成物。
  2. 【請求項２】 Ｒがメチル基である、請求項１記載の組
    成物。
  3. 【請求項３】 Ｒ1 がフェニレン基である、請求項１記
    載の組成物。
  4. 【請求項４】 Ｅが式： 【化２】 を有する、請求項１記載の組成物。
  5. 【請求項５】 成分（Ａ）が、式： 【化３】 （式中、ｘは約１０〜約３０に等しい）を有するシルフ
    ェニレン含有エポキシ官能性ジメチルポリシロキサンで
    ある、請求項１記載の組成物。
  6. 【請求項６】 ｘが約０から約５０までの範囲の数であ
    る、請求項１記載の組成物。
  7. 【請求項７】 ｘが約１０から約３０までの範囲の数で
    ある、請求項６記載の組成物。
  8. 【請求項８】 成分（Ｂ）が約０．５％から約５．０％
    までの範囲の量で存在する、請求項１記載の組成物。
  9. 【請求項９】 成分（Ｂ）がジアリ―ルヨ―ドニウム塩
    である、請求項１記載の組成物。
  10. 【請求項１０】 成分（Ｂ）が式： 【化４】 を有する、請求項９記載の組成物。
  11. 【請求項１１】 成分（Ｂ）がヘキサフルオロアンチモ
    ン酸ビス（ドデシルフェニル）ヨ―ドニウムである、請
    求項１０記載の組成物。
  12. 【請求項１２】 （Ａ）一般式： 【化５】 （式中、ｘは約１０〜約３０である）を有するシルフェ
    ニレン含有エポキシ官能性ジメチルポリシロキサン、お
    よび（Ｂ）約０．５〜約５．０％のヘキサフルオロアン
    チモン酸ビス（ドデシルフェニル）ヨ―ドニウムまたは
    式： 【化６】 を有するジアリ―ルヨ―ドニウム塩からなる、ＵＶ放射
    線で硬化可能な組成物。
  13. 【請求項１３】 （Ａ）一般式： 【化７】 ［式中、Ｅは２〜２０個の炭素原子を有するエポキシ官
    能性の有機基を表わし、Ｒはそれぞれ独立して、１〜８
    個の炭素原子を有する低級アルキル基であり、Ｒ1 は二
    価の芳香族有機基であり、ｘは０から約１００までの値
    である］を有するシルアリ―レン含有エポキシ官能性ジ
    オルガノポリシロキサン、および（Ｂ）触媒量の光触媒
    または一組の光触媒を混合することからなる、ＵＶで硬
    化可能な組成物の製造方法。
  14. 【請求項１４】 Ｒがメチル基である、請求項１３記載
    の方法。
  15. 【請求項１５】 Ｒ1 がフェニレン基である、請求項１
    ３記載の方法。
  16. 【請求項１６】 Ｅが４‐ビニルシクロヘキセンオキシ
    ドから誘導され、式： 【化８】 を有する、請求項１３記載の方法。
  17. 【請求項１７】 成分（Ａ）が、式： 【化９】 を有するシルフェニレン含有エポキシ官能性ジメチルポ
    リシロキサン［式中、Ｘは約１０から約３０までの数で
    ある］である、請求項１３記載の方法。
  18. 【請求項１８】 ｘが約０から約５０までの範囲の数で
    ある、請求項１３記載の方法。
  19. 【請求項１９】 ｘが約１０から約３０までの範囲の数
    である、請求項１８記載の方法。
  20. 【請求項２０】 成分（Ｂ）が約０．５％から約５．０
    ％までの範囲の量で存在する、請求項１３記載の方法。
  21. 【請求項２１】 成分（Ｂ）がジアリ―ルヨ―ドニウム
    塩である、請求項１３記載の方法。
  22. 【請求項２２】 成分（Ｂ）が式： 【化１０】 を有する、請求項２１記載の方法。
  23. 【請求項２３】 成分（Ｂ）がヘキサフルオロアンチモ
    ン酸ビス（ドデシルフェニル）ヨ―ドニウムである、請
    求項２１記載の方法。
  24. 【請求項２４】 （Ａ）一般式： 【化１１】 を有するシルフェニレン含有エポキシ官能性ジメチルポ
    リシロキサン［式中、Ｘは約１０から約３０までの数で
    ある］を、（Ｂ）約０．５〜約５．０％のヘキサフルオ
    ロアンチモン酸ビス（ドデシルフェニル）ヨ―ドニウム
    または式： 【化１２】 を有するジアリ―ルヨ―ドニウム塩と混合することから
    なる、ＵＶで硬化可能な組成物の製造方法。
  25. 【請求項２５】 請求項１記載の硬化した組成物からな
    るコ―ティングを表面に有する基体からなる製品。
  26. 【請求項２６】 基体が回路基板である、請求項２５記
    載の物品。
  27. 【請求項２７】 請求項１２記載の硬化した組成物から
    なるコ―ティングを表面に有する基体からなる製品。
  28. 【請求項２８】 基体が回路基板である、請求項２７記
    載の物品。
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