JPS63100613A - 磁気デイスク用基板めつき治具 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ０発明の属する技術分野〕 本発明は、高密度記録再生用磁気ディスク装置に用いら
れる磁気ディスクの製造において、基板に下地層として
無電解めっき法でニッケル（Ｎｉ）　−りん（Ｐ）合金
層を形成するときに用いるめっき治具に関する。

〔従来技術とその問題点〕

近年、高密度記録再生の磁気記録装置には薄膜磁気ディ
スクが用いられるようになってきている。

薄膜磁気ディスクは、例えば、ディスク状アルミニウム
合金基板の表面に下地層として無電解めっきでＮ１−Ｐ
合金層を形成した後、その上にスパッタ法で非磁性金属
下地層、薄膜磁性層を均一に形成し、さらに、その上に
保護潤滑膜を形成して作製される。

このような薄膜磁気ディスクの製造において、アルミニ
ウム合金基板の表面に下地層として無電解めっき法でＮ
１−Ｐ合金層を成膜する場合、欠陥の少ない均質な膜を
均一な膜厚で、かつ、量産性良く成膜することが要求さ
れる。そのための方法として、一般に第１図に示すよう
なめっき治具に基板を複数枚セットし、めっき前処理を
施した後、めっき槽内の取付台に装着し、取付台を介し
てめっき治具を自転あるいは自公転させながら、従って
基板が自転あるいは自公転しながらめっきを行う。

従来、このようなめっき治具の構成材料には、ポリプロ
ピレン（ＰＰ）などの樹脂、ステンレス鋼などの金属が
用いられていた。

ところが、ＰＰなどの樹脂で作製されためっき治具は、
使用によって治具が収縮してしまうという欠点と、前処
理によって材料である樹脂そのものの性質が変質劣化し
てしまうという欠点があり、治具の寿命が短いという問
題があった。

また、ステンレス鋼１例えば５ＵＳ３０４などの金属で
作製されためっき治具は、前処理において治具自体が反
応し、続いて行うめっきにおいて治具自体にもＮ１−Ｐ
合金が付着するため、めっきを−回行う毎に治具に付着
したＮ１−Ｐ合金を剥離しなければならないという問題
があった。

０発明の目的〕 本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであって、磁
気ディスク用基板に下地層としてＬ　　Ｐ合金無電解め
っきを施すときに用いるめっき治具として、めっきおよ
びその前処理に用いる処理液に対する耐性が強く、耐熱
性も優れており、変質。

変形が少なくて使用寿命が長く、かつ、めっき治具自体
へのＮ１−Ｐ合金の析出付着がなく、その剥離作業を必
要としないめっき治具を提供することを目的とする。

〔発明の要点〕

本発明の目的は、めっきおよびその前処理において、基
板を保持するために用いるめっき治具を噌ラミックを材
料として作製することによって達成される。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。

第１図に本発明によるめっき治具の一実施例の概念的側
面図を示す。めっき治具ｌの形・状は従来のめっき治具
と同じであり、材質が従来のＰＰや５ＵＳ３０４と異な
りセラミックからなる。めっき治具１は支持軸２と取付
部４からなり、支持軸２には溝３が複数個（２０〜３０
個程度）設けられている。

支持軸の先端Ａよりディスク基板５の穴６をとおして各
溝に基板をゆるくはめる。その状態を第２図に示す。第
２図は溝３０部分を拡大した側面図であって、基板５（
断面を示す）がディスクの穴６により支持軸２にとおさ
れ、溝３にゆるやかにはめられている。基板の自重で基
板の穴と溝の軸の一部とは接触しており、支持軸２が軸
まわりに自転すると、それにつれて基板５も回転するよ
うになっている。

このように、めっき治具１の支持軸２の各溝３に基板５
がセットされ、めっきの前処理が施され、次にめっき槽
に設置された取付台に、めっき治具１が複数本、取付部
４によりリング状に水平に取り付けられ、リングの中心
を軸として公転しながら各々自転し、このようにして自
公転せしめられている基板５の表面にＮ１−Ｐ合金の無
電解めっきが施される。

比較例１としてＰＰ、比較例２として５ＵＳ３０４を材
料とし実施例と同じ構造のめっき治具を作製し、これら
三種類のめっき治具を用いて、各々３０回ずつ第１表に
示すプロセス、浴、処理条件でめっきを行った。その後
のめっき治具の状態を調べた結果を第２表に示す。第２
表において○印は良好で問題がなかったことを示し、Ｘ
印は不良であった。

ことを示す。

第１表 箪２表 第１表に見られるとおり、無電解Ｎ＋−Ｐ合金めっきの
プロセスにおいては、浴温が純水の約２０℃からめっき
液の約９０℃とかなり大幅に変わり、しかも、高温、低
温がほぼ交互になっているので、これらのプロセス中基
板を支持しているめっき治具はかなり大きな熱サイクル
を受けることになる。

ＰＰはセラミックや５ＩＩＳ３０４に比して熱膨張係数
が２桁はど大きいため、ＰＰを材料とする比較例１はめ
っきプロセス中の熱サイクルによる膨張、収縮が大きく
、３０回繰り返し使用すると治具の収縮劣化が現れ第２
表のとおりＸ印となる。このような収縮劣化のために、
第２図にＢとして示す溝幅が狭くなり、めっき中基板が
スムーズに自転しなくなり、基板の内径部にめっきの被
着しない部分が生じるという問題がでてくる。また、め
っき治具の熱変形のために隣接する基板が接触して不良
となる問題も生じてくる。

また、めっきの前処理においては強アルカリ性浴や強酸
性浴が用いられる。これらに対して、セラミック、　５
ＵＳ３０４は充分耐性があるが、ＰＰは耐性が小さく、
比較例１においては変質劣化が起きて、第２表に示すよ
うにｘ印となる。

５ＵＳ３０４を用いた比較例２は熱や浴に対して安定で
、収縮、変形、変質劣化はみられないが、前処理により
めっき治具自体が反応して活性化し、続いてのめっき処
理で治具にＮ１−Ｐ合金が被着してしまう。そのため、
めっき終了後、治具に被着したＮ＋　　Ｐ合金を取り除
かなければならず、治具を硝酸に８〜１０時間浸漬して
Ｎ１−Ｐ合金層を剥離することが必要となり、めっき治
具の使用効率が低く量産に不向きである。実施例、比較
例１においては、このような治具へのＮ１−Ｐ合金の析
出被着はおこらない。このようにして第２表に示すとお
り、セラミックからなる実施例の治具が総合的に優れた
量産に適した治具であることが明らかである。

〔発明の効果〕

本発明によれば、めっきおよびその前処理に基板を保持
するために用いるめっき治具をセラミックにより作製す
る。耐熱性、耐薬品性に優れたセラミックを用いること
により、めっきおよびその前処理に用いる処理液に対し
て耐性が強く変質劣化をせず、変形も少なくて使用寿命
が長く、かつ、めっき治具自体へのＮ＋−Ｐ合金の被着
がなく、その剥離作業を必要としないで、長期にわたっ
てメンテナンスフリーで使用できる量産に適しためっき
治具を得ることができる。

また、熱的・機械的強度の大きいセラミックを用いてい
るので、めっき治具の変形、特に支持軸の曲がりが発生
せず、従って、めっき治具への基板の装着、取りはずし
が自動化できることになり実用的効果は極めて大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例および従来例の一例のめっき治
具の概念的側面図、第２図はめっき治具の支持軸の溝部
および溝に基板を装着した状態を示す概念的側面図であ
る。 １　めっき治具、２　支持軸、３　溝、４　取付部、５
　基板。 ￥５１図 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １）磁気ディスク用基板表面に下地層として無電解めっ
   き法でニッケル（Ｎｉ）−りん（Ｐ）合金層を形成する
   際に、めっき処理およびその前処理を行うために用いる
   前記基板を保持するめっき治具がセラミックよりなるこ
   とを特徴とする磁気ディスク用基板めっき治具。