JPS6299346A - 新規メタクリル酸エステル - Google Patents
新規メタクリル酸エステルInfo
- Publication number
- JPS6299346A JPS6299346A JP23647085A JP23647085A JPS6299346A JP S6299346 A JPS6299346 A JP S6299346A JP 23647085 A JP23647085 A JP 23647085A JP 23647085 A JP23647085 A JP 23647085A JP S6299346 A JPS6299346 A JP S6299346A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- hydroxyphenyl
- sulfone
- bis
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は次式（１）で示される新規な化合物に関する。
本発明によってｊ２供される上記式（Ｉ）で示される新
規な化合物は、重合性の二重結合とフェノール性のＯＨ
基を共に有するもので反応条件を選ぶことによってそれ
ぞれ別個に反応させることができる反応性モノマーとじ
て有用である。例えば上記式（Ｉ）で示される化合物を
それ自身で重合させるか、または、各種のオレフィン性
二重結合を有する化合物と共重合させることにより高分
子顕色剤、高分子劣化防止剤等反応性高分子または態能
性高分子として種々の応用分野が期待される。
規な化合物は、重合性の二重結合とフェノール性のＯＨ
基を共に有するもので反応条件を選ぶことによってそれ
ぞれ別個に反応させることができる反応性モノマーとじ
て有用である。例えば上記式（Ｉ）で示される化合物を
それ自身で重合させるか、または、各種のオレフィン性
二重結合を有する化合物と共重合させることにより高分
子顕色剤、高分子劣化防止剤等反応性高分子または態能
性高分子として種々の応用分野が期待される。
〈従来の技術〉
下記式（Ｉ）で示される化合物については文獣等にそれ
を特定する物性等の記載がない。
を特定する物性等の記載がない。
〈発明が解決しようとする問題点〉
本発明の目的は、それ自体が高礪能を有するモツマーで
反応性高分子またはぼ化性高分子の原料モノマーとして
期待されるきわめて有用な新規な化合物を提供すること
にある。
反応性高分子またはぼ化性高分子の原料モノマーとして
期待されるきわめて有用な新規な化合物を提供すること
にある。
く問題点を解決するための手段および作用〉本発明者ら
は、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホンのモノメ
タクリレート（式１）を合成すべく鋭意検討した結果、
ビス〈４−ヒドロキシフェニル）スルホンを下記式＜ｆ
ｆ）で示したジナトリウム塩として水に溶解し、これと
メタクリル酸クロライドを反応させることによって下記
式（Ｉ）で示される化合物を析出させ、これを酸で中和
することにより下記式（Ｉ＞で示される新規な化合物ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）スルホンのモノメタクリ
レートが選択的に合成できることを見出し本発明を完成
させた。
は、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホンのモノメ
タクリレート（式１）を合成すべく鋭意検討した結果、
ビス〈４−ヒドロキシフェニル）スルホンを下記式＜ｆ
ｆ）で示したジナトリウム塩として水に溶解し、これと
メタクリル酸クロライドを反応させることによって下記
式（Ｉ）で示される化合物を析出させ、これを酸で中和
することにより下記式（Ｉ＞で示される新規な化合物ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）スルホンのモノメタクリ
レートが選択的に合成できることを見出し本発明を完成
させた。
以下、本発明における新規物質の製造方法を実施例によ
り具体的に説明し、得られた新規物質を構造決定するた
めの分析結果をも同時に示すが、本発明の新規物質の製
造方法が以下の実施例のみに限定されないことは言うま
でもない。
り具体的に説明し、得られた新規物質を構造決定するた
めの分析結果をも同時に示すが、本発明の新規物質の製
造方法が以下の実施例のみに限定されないことは言うま
でもない。
実施例１
撹拌機、温度計および滴下ロートを備えた５ｅのフラス
コにビス（４−ヒドロキシフェニル）ス／Ｌ、ホ／１５
０ｇ（０，６０ｍｏｌ＞ 、７［（１ｊト’Ｊウム５２
．８Ｇ （１，３２ｍａｔ＞を水２．１１に溶解した
溶液を仕込み、水冷下、激しく攪拌しながらメタクリル
酸クロライド６２．７ｉ１１ （０，６ｍｏｌ）を３
時間かけて滴下した。滴下中、反応系中のｉ温度は６℃
以下に保った。滴下終了後さらに１時間Ｗ！拌を続けた
。反応終了後、反応液をろ過し得られた固体を水洗した
。
コにビス（４−ヒドロキシフェニル）ス／Ｌ、ホ／１５
０ｇ（０，６０ｍｏｌ＞ 、７［（１ｊト’Ｊウム５２
．８Ｇ （１，３２ｍａｔ＞を水２．１１に溶解した
溶液を仕込み、水冷下、激しく攪拌しながらメタクリル
酸クロライド６２．７ｉ１１ （０，６ｍｏｌ）を３
時間かけて滴下した。滴下中、反応系中のｉ温度は６℃
以下に保った。滴下終了後さらに１時間Ｗ！拌を続けた
。反応終了後、反応液をろ過し得られた固体を水洗した
。
この水洗した固体を１．５％塩化水素水溶液２ｇに分散
させ、攪拌しながら１時間反応させた。
させ、攪拌しながら１時間反応させた。
反応中、反応系中の温度は６℃以下に保った。反応終了
後、生成物ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホンの
モノメタクリレートが固体で分散しているのでこれをろ
過してとり、水洗後、減圧乾燥し１３７．４（＋のビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルホンのモノメタクリレ
ートを得た。
後、生成物ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホンの
モノメタクリレートが固体で分散しているのでこれをろ
過してとり、水洗後、減圧乾燥し１３７．４（＋のビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルホンのモノメタクリレ
ートを得た。
組成率は７２．０％であった。
さらに上記反応により得られたビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）スルホンのモノメタクリレートをクロロホルム
より再結晶することによって精製した。
ェニル）スルホンのモノメタクリレートをクロロホルム
より再結晶することによって精製した。
次に得られたこの新規物質の構造決定のための分析結果
を示す。
を示す。
・融点 １４６．０℃〜１４７．１℃
・元素分析値
Ｃ（％） ）−１（％） Ｓ（％）理論圃 ６０
，３７ ４．４０ １０．０６分析値 ６０．
２８ ４．３５ １０．０１・ ＨＮＭＲ（溶媒
： ｄ６− Ｄ Ｍ Ｓ Ｏ、内部漂準物’ｉ：（：
ＴＭＳ ） δ＝ １．９９６ ｐｐｍ （ｓｉｎｇｌｅｔ ３
Ｈ） −ＣＨ３δ＝ ５，９３１ ｆｅ’ｎ−（ｓｉｎ
ｇｌｅｔＨ） ＝ ＣＨδ−６，３００１１ｐｕ （ｓ
ｉｎｇｌｅｔ Ｈ） −ＣＨδ＝ １０．６８３ ｒｒ
ｔｎ−（ｓｉｎｇｌｅｔ Ｈ＞ −０８・質量分析スペ
クトル Ｅｌ ｍ／ｅ＝３１８（Ｍ”） ・赤外線吸収スペクトル（ｋ３ｒ錠剤）３４１０ ｃ
ｍ、 （シｏ−Ｈ） ３１００、３０４０ Ｃ能 （芳香族ν。−Ｈ）１７３
０ＣＩｒＬ（ν（＝Ｑ ） １６４０ｃＩｒＬ−１（オレフィンνｃ＝ｃ ＞１５８
０ＣＴＬ（芳香族νｃ ＝ｃ ＞１１０５ＣｒｒＬ（ν
８ｏ） なお、この赤外線吸収スペクトルを第１図に示す。
，３７ ４．４０ １０．０６分析値 ６０．
２８ ４．３５ １０．０１・ ＨＮＭＲ（溶媒
： ｄ６− Ｄ Ｍ Ｓ Ｏ、内部漂準物’ｉ：（：
ＴＭＳ ） δ＝ １．９９６ ｐｐｍ （ｓｉｎｇｌｅｔ ３
Ｈ） −ＣＨ３δ＝ ５，９３１ ｆｅ’ｎ−（ｓｉｎ
ｇｌｅｔＨ） ＝ ＣＨδ−６，３００１１ｐｕ （ｓ
ｉｎｇｌｅｔ Ｈ） −ＣＨδ＝ １０．６８３ ｒｒ
ｔｎ−（ｓｉｎｇｌｅｔ Ｈ＞ −０８・質量分析スペ
クトル Ｅｌ ｍ／ｅ＝３１８（Ｍ”） ・赤外線吸収スペクトル（ｋ３ｒ錠剤）３４１０ ｃ
ｍ、 （シｏ−Ｈ） ３１００、３０４０ Ｃ能 （芳香族ν。−Ｈ）１７３
０ＣＩｒＬ（ν（＝Ｑ ） １６４０ｃＩｒＬ−１（オレフィンνｃ＝ｃ ＞１５８
０ＣＴＬ（芳香族νｃ ＝ｃ ＞１１０５ＣｒｒＬ（ν
８ｏ） なお、この赤外線吸収スペクトルを第１図に示す。
第１図は実施例１で得られたビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）スルホンのモノメタクリレートの赤外線吸収スペ
クトル図である。 特許出願人 日本触媒化学工業株式会社代 理
人 山 口 剛 男 、゛手
続 補 正 占 （方式）昭和６１
年２月 １３日
ニル）スルホンのモノメタクリレートの赤外線吸収スペ
クトル図である。 特許出願人 日本触媒化学工業株式会社代 理
人 山 口 剛 男 、゛手
続 補 正 占 （方式）昭和６１
年２月 １３日
Claims (1)
- （１）次式（ I ）で示される新規メタクリル酸エステ
ル。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23647085A JPS6299346A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 新規メタクリル酸エステル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23647085A JPS6299346A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 新規メタクリル酸エステル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6299346A true JPS6299346A (ja) | 1987-05-08 |
Family
ID=17001216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23647085A Pending JPS6299346A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 新規メタクリル酸エステル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6299346A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05163207A (ja) * | 1991-12-18 | 1993-06-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性フェノ−ル誘導体 |
| US5948847A (en) * | 1996-12-13 | 1999-09-07 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Undercoating composition for photolithographic patterning |
| KR20210014563A (ko) | 2019-07-30 | 2021-02-09 | 프리메탈스 테크놀로지스 재팬 가부시키가이샤 | 시일 장치 및 호퍼 장치 그리고 입상물의 냉각 장치 |
-
1985
- 1985-10-24 JP JP23647085A patent/JPS6299346A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05163207A (ja) * | 1991-12-18 | 1993-06-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性フェノ−ル誘導体 |
| US5948847A (en) * | 1996-12-13 | 1999-09-07 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Undercoating composition for photolithographic patterning |
| KR20210014563A (ko) | 2019-07-30 | 2021-02-09 | 프리메탈스 테크놀로지스 재팬 가부시키가이샤 | 시일 장치 및 호퍼 장치 그리고 입상물의 냉각 장치 |
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