JPS6295525A - 感光性樹脂組成物およびそれを用いるパタ−ンの作製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （−ＣＨ２−Ｃ＋　　　　　　　　　　　Ｉ０ＯＲ２ （Ｂ）　　非置換または置換基を有する芳香族アルデヒ
ドおよび芳香族ケトンよシ選択される化合物の一種また
は二種以上を含有する感光性樹脂組成物。

２）　　（Ａ）の共重合体が非共役な二重結合を２個以
上有する鎖状若しくは環状テルペンアルコールのアクリ
ル、浚またはメタクリル酸のエステルとアクリル酸また
はメタクリル酸のアルキルエステルとの共重合体である
特許請求の範囲第１項記載の感光性樹脂組成物。

３）に）の共重合体が、ゲラニルメタクリレート、ネリ
ルメタクリレート、イソゲラニルメタクリレート、ファ
ルネソルメタクリレート、ゲラニルゲラニルメタクリレ
ートのうち、１つないしはそれ４）　　（Ｂ）の化合物
が、ベンズアルデヒド、ベンゾ７二ノン、３−ベンゾイ
ルベンゾフェノンｔりｌｄ３゜物。

５）イ（ト）一般式Ｉの構造単位を＄モル優以上含む重
合体又は共重合体、および （−ＣＨ２−Ｃ＋１ 〇〇ＯＲ２ 、式中、　Ｒ１は水素原子または炭素数１〜４の但）非
置換または置換基を有する芳香族アルデヒドおよび芳香
族ケトンより選択される化合物の一槌または二種以上を
含有する感光性樹脂組成物よね薄膜を形成する工程、（
ロ）上記薄膜に選択的に紫外線を照射する工程、 ぐ９（Ｂ）の化合物を除去する工、程 を順次行なうことを特徴とするノくターンの作製方法。

（６）（Ｂ）の化合物を特徴とする特許請求の範囲第５
項記載のパターンの作製方法＾ （７）除去する手段が減圧及び／または加熱下に行なわ
れる特許請求の範囲第６項記載のノくタ一本発明は屈折
率差とレリーフ構造を併せもつノ（ターンの形成に適し
た感光性樹脂組成物、およびそれを用いたパターンの作
製方法に関する。

〔従来の技術〕

従来知られている感光性樹脂の多くに、感光基をもつ化
合物と高分子化合物から成るものや、感光基をもつ高分
子化合物であり、その多くは光によっての架憫反応や高
分子の崩壊反応を利用し光により露光部が離溶化または
易溶化することを利用し、溶剤を用いて、非露光部また
は、露光部を除去するなどの方法によシレリー７ノくタ
ーンを作製していた。また特殊な感光性樹脂の例として
、２−ナフタレンチオールをドープしたメタクリル酸メ
チルとメタクリル酸グリシジルとの共重合体の誘導体を
用いたフォトロッキング法が知られている（　Ｗ　Ｊ、
ＴｏｍＬｉｓｏｎ他Ａｐｐｌｉｅｄ　・Ｐｈｙｓｉｃｓ
　Ｌｅｔｔｅｒａ、第２６巻第６号第３０３〜３０６頁
、１９７５年）。この方法は比較的（４発性の、よｐ高
い屈折率を有する物質をドープした樹脂から塗膜を形成
し、次いで紫外線を照射し、露光部のドープ物質を“ロ
ッキングし、続いて末露光部のドープ物質を蒸発除去す
ることによシ露光部と非露光部とに屈折率差を有するパ
ターンを形成する方法である。この報告によれば露光部
では末露光部に比べてＦＡ厚が約１０％増加すると報告
されている。

〔発明が解決すべき問題点〕

前者の通常の感光性樹脂は屈折率差を設けることを目的
としていないので得られるレリーフッくターンにおける
屈折率差はほとんどないか、あっても極めて小さい。ま
た後者のフォトロッキング法に採用される感光性樹脂も
露光部分と非露光部分の屈折率差及び凹凸部分の厚み変
化の値が十分でない。加入て、感光性樹脂を各種プラス
チック性の光学素子として婚利用する場合は高い透明性
が要求される。また職感光性樹脂組成物は光照射によシ
早い応答速度を示し、且つ鮮明なパターンが形成される
ことが要求される。

本発明の目的は、屈折率の変化と同時に０表面レリーフ
構造を生じさせる新規°な感光性樹脂組成物、特に露光
部分の屈折率が非露光部分の屈折率より高く、シかも、
露光部分が非露光部分よりも厚みの増加する、即ち凸な
構造となシ、且つ反応速度が早く、且つ鮮明なパターン
を描ける感光性樹脂組成物を提供することにある。また
本発明の他の目的は、前記の感光性樹脂組成物を用いる
屈折率差とレリーフ構造をあわせもつパターンの作製方
法を提供することにある。そして本発明の別の目的は光
学的透明性に優れたパターンを提供することである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者らは上記の目的に鑑みて装量検討したところ、
エステルのアルコール残基に光反応性の非共役型二重結
合を２個以上有するアクリル酸又はメタクリル酸エステ
ル系重合体又は共重合体と芳香族ケトン又は芳香族アル
デヒドよりなる感光性樹脂組成物は光反応性が高いこと
を見い出した。

更に該感光性組成物は選択的に紫外線を照射後、未反応
の芳香族ケトン又は芳香族アルデヒドを除去することに
より露光部分と非露光部分との間で大きな屈折率差と凹
凸差が得られることを見い出した。

即ち本発明の第１の発明は感光性樹脂組成物に関し 四　一般式Ｉの構造単位を２゛モルチ以上含む重合体又
は共重合体（以下単にポリマーＡという）、および ■ （−ＣＨ２−Ｃ＋１ 蕾 ０ＯＲ２ ■）非置換または置換基を有する芳香族アルデヒドおよ
び芳香族ケトンより選択される化合物（以下単に化合物
（ロ）という）の一種または二種以上を含有することを
特徴とする。

また、本発明の第２の発明は上記感光性樹脂組成物を用
いたパターンの作製方法であり、（イ）上記感光性樹脂
組成物より薄膜を形成する工程、 （ロ）上記薄膜に選択的に紫外線を照射する工程、（ハ
）化合物（Ｂ）を除去する工程 を順次行なうことを特徴とする。

本発明の組成物におけるポリマー（５）はエステルのア
ルコール残基内に互いに非共役の二重結合を２個以上有
する構造単位を含む。該構造単位は通常２モルチ以上で
あり、好ましくは５モルチ以上である。エステル基に結
合した互いに非共役の二重結合はその三重環エネルギー
が７５〜８５ｄ１モルの範囲にあり、光励起によυ本発
明の組成物における化合物Φ）との反応性が極めて高い
。互いに共役した二重結合は三重環エネルギーが本発明
の組成物における化合物向の三重環エネルギー（６４〜
７４ｄ１モルの範囲にある）よシも低いため光反応よシ
も光励起エネルギーの移動が優先して起こり、光反応が
生起しない。

上記ポリマー（へ）は一般式（１）の構造を有せばその
製法は特に問わない。即ち、アクリル酸又はメタクリル
酸を含む重合体を用い、分子内に非共役の二重結合を２
個以上有するアルコール、例えばゲラニオール等のテル
ペン系アルコールと反応させること（高分子エステル化
反応）によシ得ることができる。しかるに、一般式（１
）に対応するアクリル酸誘導体の単独重合又は他のコモ
ノマーとの共重合によって入手したポリマーは特に好適
に用いられる。このようなアクリル酸誘導体としては、
ゲラニルメタクリレート、ゲラニルアクリレート、ネリ
ルメタクリレート、ネリルアクリレート、イソゲラニル
メタクリレート、イソゲラニルアクリレート、ラバンジ
ュリルメタクリレート、ラバンジュリルアクリレート、
６−メチルゲラニルメタクリレート、６−メチルゲラニ
ルアクリレート、１−メチルゲラニルメタクリレート、
１−メチルゲラニルアクリレート、６−エチルゲラニル
メタクリレート、６−エチルゲラニルアクリレート、ペ
リリルメタクリレート、ペリリルアクリレート等の非共
役な二重結合を２個有する鎖状若しくは環状テルペン系
アルコールとアクリル酸又はメタクリル酸とのエステル
、ファルネソルメタクリレート、ファルネソルアクリレ
ート、ゲラニルゲラニルメタクリレート、７ラニルゲラ
ニルアクリレート、β−７クロゲラニルゲラニルメタク
リレート、β−シクロゲラニルゲラニルアクリレート等
の非共役二重結合を３個以上有する鎖状若しくは環状テ
ルペン系アルコールとアクリル酸又はメタクリル酸との
エステルが好適な例として挙げられる。共重合に付され
るコモノマーとしては上述のアクリル酸エステル誘導体
と共重合するモノマーであればよく、例えば、メタクリ
ル酸；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸シクロヘキシル等のメタクリル酸
アルキルエステル；アクリル酸ニアクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチ
ル、アクリル酸シクロヘキシル等のアクリル酸アルキル
エステル、メタクリル酸アミド、アクリル酸アミド、ス
チレ／：α−メチルスチレン等の置換スチレンが例示さ
れる。これらのコモノマーはフッ素で置換されていても
よい。

前述のアルコール残基中に炭素−炭素二重結合を残存さ
せるようなポリマーの合成は、アクリル酸誘導体モノマ
ーのアルコール残基の炭素−炭素二重結合にシス、もし
くはトランスに２つめ、るいは３つ以上のアルキル基が
置換している場合は一般にラジカル重合またはアニオン
重合で合成でき、炭素−炭素二重結合がビニル基、又は
ビニリデン基を構成する場合にはアニオン重合によって
容易に合成しうる。重合の際に、上記炭素−炭素二重結
合が副反応によシ若干賀化する場合もめルうるがポリマ
ー（５）においては二重結合は実質的に共重合に関与し
てないのがよい。ポリマー四の分子量には特に制限はな
いが、一般に数平均分子量で１０００〜１００万の範囲
にある。ポリマー（ホ）中の構造単位（１）は七ツマ一
単位で５モルチ以上において、化合物（Ｂ）との反応に
よシ顕著な性質変化が観測される。

次に本発明の組成物における化合物（Ｂ）としては非ホ
僕マたはｔｉｔｉ型のベンズアルデヒド、ベンゾフェノ
ン筺たはそれらの誘導体が例示され、一般式で表現する
と次の■またはｍ式で示される。

（但し式（ｎ）または（２）においてＸｌ−Ｘｓは水素
原子、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数１〜７のアル
コキシ基、アリルオキシ基、またはノ・ロゲン原子を表
わし、　Ｘ７〜Ｘｔｏは水素原子またはノ・ロゲン原子
を表わす。またｎは０または整数を示す）上式において
好ましい化合物はＸｌ−Ｘｔｏは水素でアリ、弐■にお
いてｎが１又は２の化合物であるＯ 化合物の）の好適な例としては、ベンゾフェノン：３−
または４−メチルベンゾフェノン、３または４−メトキ
シベンゾフェノン、３．３−または４゜４′−ジメチル
ベンゾフェノン、３，３または４，４−ジメトキシベン
ゾフェノン、２．３、または４−クロルベンゾフェノン
、３，４．５−１リメチルペンゾフエノン、３，４．５
−トリメトキシベンゾフェノン等の置換ヘンシフエノン
類、３−ベンゾイルベンゾフェノン：３−（３４たは４
−メチルペンシイ→。

−３′またハ４′メチルベンゾフェノン、ａ−（ａまた
は４−メトキシベンゾイル）−３′または４′メチルベ
ンゾフエノン、３．３−ジベンゾイルベンゾフェノン等
の置換３−ベンゾイルベンゾフェノンＩＡｓベンズアル
デヒド：３ｔたは４−メチルベンズアルデヒド、３ｉた
は４−メトキシベンズアルデヒド、３，４ジメチルベン
ズアルデヒド、３．４−ジメトキシベンズアルデヒド等
の置換ベンズアルデヒド類が挙げられる。これらの化合
＊φ）はカルボニル基に対してオルソ位にメチル基、エ
チル基、インプロピル基等の置換基を有さないので、光
照射による分子内水素引き抜き等の副反応が少ない利点
を有する。本発明ではベンズアルデヒド、ベンゾフェノ
ン、３−ベンゾイルベンゾフェノン、３゜３′−ジベン
ゾイルベンゾフェノンが感光性、合成の容易さ等からｌ
待に好ましく、また３−ベンゾイルベンゾフェノン、３
，３−ジベンゾイルベンゾフェノンが、感光性、屈折率
差およびレリーフ構造の生成等から特に好ましい化合物
に）である。

本発明の組成物は前述のポリマー（５）と化合物（Ｂ）
の組み合わせからなる感光性樹脂組成物であり、この組
成物に例えば３００〜４２０−の光を照射することで（
ト）と（Ｂ）が反応し、性質が変化する。本発明におけ
る（５）と（Ｂ）の光化学反応は次式のようなバｆ　ル
／　・ヒュツヒ（Ｐａｔｅｒｎｏ−Ｂｉｊｃｈｉ　）反
応が主反応である。

（式中ｐｈはフェニル基、Ｒ，Ｒ’、Ｗ′、Ｒｕｔおよ
びＲ″″は水素原子または置換基を示す） 従って化合物の）の三重環エネルギーが、ポリマー（５
）の三重環エネルギーよりも低いことが必要である。ま
た化合物向の励起三重項状聾は一般にｎ！ｒ＊性が強い
ことが要求され、ππ性の強い化合物は好ましくない。

また、本発明で用いられるポリマーに）はアルコール残
基中に反応する二重結合を２つ以上含んでいるため、ア
ルコール残基中に炭素−炭素二重結合が１つのものに比
べ、反応性が大きく、反応初期でも大きな屈折率変化と
、大きなレリーフ構造を達成できるという利点を有する
。

仄に本発明の組成物を用いるパターン形成法の一タリに
ついて述べる。

ポリマー四と化合物ＣＢ）とを溶解する溶媒に両者を溶
解し、キャスティング法、バーコード法、スピンコード
法等の一般的な方法で塗膜が形成される。該塗膜は必要
に応じて減圧下或は加熱することにより溶剤を除去し本
発明の組成物の膜となる。

載脱はフィルムであっても木版上に形成された薄膜であ
ってもよい。膜形成法は所望の膜の厚さ、または膜の形
態によって、種々の方法が選ばれる。

一般にＩ７い場合にはキャスティング法、薄い場合には
バーコード法、またはスピンコード法が選ばれるがこれ
ら以外の方法でもかまわない。ポリマー込）と化合物０
）の割合は、特にｄ：限定されないが一般に貞Ｓｋ比で
１０；１から１：１０の範囲内で任欽に選択される。ポ
リマー（５）中の非共役二重結合を有するアルコール残
基に対して化合物（ｆｌ）はモル比で１０：１〜１：２
０の範囲内で任意に選択され、好ましくは５：１〜１：
１０の範囲内である０ 露光は３００〜４２０　ｎｍの光が用いられる。たとえ
ば高圧水銀ランス超高圧水銀ランプ、歯ガスレーザー、
Ｈｅ−Ｃｄガスレーザー等が適宜用いられる。また露光
方法はフォトマスクを用いる方法、二光束干渉露光法、
レーザービームを直接照射する方法等があシ適宜用いら
れる。

本発明は上述の膜を露光後、化合物（Ｂ）を任意の方法
で除去することによシ得られる。例えば減圧または常圧
下で０℃〜１２０℃で処理することにより、非露光部の
化合物０及び未反志の化合物向を除去することによシ所
望の形状の屈折率差とレリーフ構造を合わせもつ光学的
に透明な鮮明なパターンを作製できる。本発明のパター
ン作成方法によれば露光部の屈折率が非露光部の屈折率
よシも大きく、シかも露光部が非露光部よシも厚みの厚
い凸な構造となるという特長をもっている。たとえば、
低伝搬損失な先導波路や、回折格子等を任意の形状に作
製できる。本発明者らは屈折率差とレリーフ構造をコン
トロールする方法を検討した結果、本発明の組成物では
それらは（１）本発明の組成物中のポリマー（５）の割
合と、その（ト）中の一般式（１）で示される構造単位
の割合及び化合物０の割合、（２）露光時間０）または
それらの組合せによって任意にコントロールすることが
可能であることを見出した。

一般的に組成物中の化合物向としてフェニル環の数の多
い化合物を用いたときや、ポリマー（ト）中の非共役二
重結合が多いものを用いたときに屈折率差は大きくなる
。また、レリーフ構造の深さは化合物の）のポリマー（
へ）に対する割合が多くなると大きくなる。さらに反応
時間は長ければよシ多く反応するので屈折率差、レリー
フ構造の深さともに大きくなる。しかしながら、これら
の条件は、組成物中のポリマーに）や化合物０の組成や
、組成物の膜厚等から適宜選ばなければならないことは
いうまでもない。

本発明の組成物は露光後の光学的透明性が極めて良好で
あるので種々の光学素子製造の材料として利用できる。

本発明の組成物は屈折率差とレリーフ構造を同時に大き
くつけることが可能であるので、先導波路、回折格子、
グレーティングレンズ、フレネルレンズ、ホログラムレ
ンズ、光分岐回路ジオデシックレンズ、ルネブルグレン
ズ等に利用できる０ 〔実施例〕 合成例１ 試験管にゲラニルメタクリレート４ｔ、メチルメタクリ
レート５ｆ１アゾビスイソブチロニトリル８Ｈｉおよび
ジオキサン２５ｆをＮ２置換して仕込み、封管して５５
〜６０℃のウォーターパス中で２４時間加熱した。後、
アセトン５０ｍＡ’に反応液をあけ２００　ｗｅのメタ
ノールで生成ボリマーヲ沈澱させた。生成ポリマーを乾
燥すると５．０？得られた。このポリマーの組成をＮＭ
Ｒで観察すると、ゲラニルメタクリレートのアルコール
残基の炭素−炭素二重結合部の水素が５．５〜５．　ｇ
　ｐｐｍに見られゲラニルメタクリレート：メチルメタ
クリレート＝１：３．１（モル比）の共重合体であるこ
とが確認された。またこのポリマーの分子量はゲ、ルノ
く一ミエーションクロマトグラフィー法で測定すると数
平均分子量で２５万であつ九。

実施例１ 合成例１のポリマー１部、３−ベンゾイルベンゾフェノ
ン１部からなる組成物をベンゼンに済解し、基板上にス
ピンコードして約１．１μｍの薄膜を形成した。この薄
膜を７０℃で１時間ベーキングして、クロムフォトマス
クを通して２５０Ｗの超高圧水銀ランプで３分間露光し
た。露光後フォトマスクをはずし、真空乾燥器で９５℃
、　０，２．、＆で３時間アフターベークしパターンを
形成させた。

放冷後、この薄膜と基板との密着性は良好で、　Ｈｅ−
Ｎｅレーザーを用いたプリズムカップリング法で屈折率
を測定し、二光束干渉顕微鏡で膜厚とレリーフの深さを
測定した。これらの結果を第１表に示した。露光部と非
露光部は凹凸差と屈折率差を有する鮮明なパターンとし
て描けていた。

比較例１ 実施例１において合成例１のポリマーのかわシにプレニ
ルメタクリレート／メチルメタクリレ−）＝１／３（モ
ル比）からなる共重合体を用いて同様の操作を行った。

屈折率及びレリーフの深さを測定し結果を第１衣に示し
た。

第　　　　　１　　　　　表 実施例２ 露光時間を０〜３０分間の間で種々変化させる以外は実
施例１と同様にしてパターンを形成させた。結果を第１
図及び第２図に示した。

実施例３〜７ 合成例１のポリマー（５）とカルボニル基が１つである
櫨々の化合物（Ｂ）の重量比で１：０．８の組成物から
なる０、７〜２．０ＩＪｍの薄膜を基板上に作製し、超
高圧水銀ランプ（２５０Ｗ）で１８分露光した。

露光後、非露光部と未反応部の（Ｂ）を除去し、実施例
１と同様の方法で屈折率とレリーフ構造を測定した。こ
れらの結果を第２表に示す。

以下余白 実施例８〜１４ 合成例１の方法と同様にして各種組成のボ１ツマ−（５
）を合成し、化合物（Ｂ）として３−ベンゾイルベンゾ
フェノンを用いて実施列３〜７と同様の方法で、露光等
の操作を行い屈折率とし１ノーフ構造を測定した。これ
らの結果を第３表に示す。

以下余白 実施例１５ 合成例１のポリマー１部、３−ベンゾイルベンゾフェノ
ン１部からなる組成物を厚さ約１．０μｍで基板上に形
成しｉ　ｏ　１１ｍのラインアンドスペースのフォトマ
スクを通してｍ％光時間を１８分とした以外は実施例１
と同様の操作を行って、透過型位相格子を作製した。こ
の位相格子は膜厚０，９７μｍ１屈折率１．５５５の凸
部と膜厚０．６２μｍ１　　屈折率１．５１１の凹部よ
りなる形態屈折率双変調型位相格子であり、Ｈｅ−Ｎｅ
ｖ−ザー（０，６３２８μｍ）　で回折効率を測定する
と０次光強度は０．２９３で±１次光強度は０．２９３
であった。この結果は形態屈折率双変調型位相格子の理
論値と良く一致し、鮮明なパターンが描かれていること
が確認された。この位相格子は３分割光分波器として使
用できる。

実施例１６ 合成列１のポリマー１部、ベンゾフェノン０．５部から
なる組成物を厚さ約１μｍで、ガラス基板上に形成し％
ｌ＠５０μｍの線状パターンを有するフォトマスクを通
して実施例１と同様の操作を行い、薄膜光導波路を作製
した。この薄膜光導波路は、Ｈｅ　−Ｎｅ−レーザーの
ＴＥモードでシングルモードであり、伝搬損失はＱ、４
ｄＢ／ｃｘと良好であった。

〔発明の効果〕

本発明によれば所望の屈折率差とレリーフ構造をもつパ
ターンを短い時間で作製できる感光性樹脂組成物が提供
される。また、本発明の感光性樹脂組成物は高感度で光
照射後未反応部分を除去することによυ露光部分の屈折
率が非露光部分の屈折率より顕著に高く、シかも該露光
部分の厚みが非露光部分の厚みより＊著に増大した鮮明
なパターンが描けるという効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本発明の感光性樹脂の効果を示す図
であシ、第１図は露光時間と露光部と非露光部の屈折率
差を示し、第２図は露光時間と露光部と非露光部の厚み
の差（レリーフの深さの差）を示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）（Ａ）一般式 I の構造単位を２モル％以上含む重
   合体又は共重合体、および ▲数式、化学式、表等があります▼　 I （式中、Ｒ＿１は水素原子または炭素数１〜４のアルキ
   ル基であり、Ｒ＿２は光反応性の非共役型二重結合を２
   個以上有する置換基である。 （Ｂ）非置換または置換基を有する芳香族アルデヒドお
   よび芳香族ケトンより選択される化合物の一種または二
   種以上を含有する感光性樹脂組成物。 ２）（Ａ）の共重合体が非共役な二重結合を２個以上有
   する鎖状若しくは環状テルペンアルコールのアクリル酸
   またはメタクリル酸のエステルとアクリル酸またはメタ
   クリル酸のアルキルエステルとの共重合体である特許請
   求の範囲第１項記載の感光性樹脂組成物。 ３）（Ａ）の共重合体が、ゲラニルメタクリレート、ネ
   リルメタクリレート、イソゲラニルメタクリレート、フ
   アルネソルメタクリレート、ゲラニルゲラニルメタクリ
   レートのうち、１つないしはそれ以上とメチルメタクリ
   レートとの共重合体である特許請求の範囲第１項記載の
   感光性樹脂組成物。 ４）（Ｂ）の化合物が、ベンズアルデヒド、ベンゾフェ
   ノン、３−ベンゾイルベンゾフェノンまたは３，３′−
   ジベンゾイルベンゾフェノンである特許請求の範囲第１
   項、第２項又は第３項記載の感光性樹脂組成物。 ５）イ（Ａ）一般式 I の構造単位を、モル％以上含む
   重合体又は共重合体、および ▲数式、化学式、表等があります▼　 I （式中、Ｒ＿１は水素原子または炭素数１〜４のアルキ
   ル基であり、Ｒ＿２は光反応性の非共役型二重結合を２
   個以上有する置換基で ある。） （Ｂ）非置換または置換基を有する芳香族アルデヒドお
   よび芳香族ケトンより選択され る化合物の一種または二種以上を含有する 感光性樹脂組成物より薄膜を形成する工程、 （ロ）上記薄膜に選択的に紫外線を照射する工程、 （ハ）（Ｂ）の化合物を除去する工程 を順次行なうことを特徴とするパターンの作製方法。 （６）（Ｂ）の化合物を蒸発除去する特許請求の範囲第
   ５項記載のパターンの作製方法。 （７）除去する手段が減圧及び／または加熱下に行なわ
   れる特許請求の範囲第６項記載のパターンの作製方法。