JPS5942684B2 - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

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JPS5942684B2
JPS5942684B2 JP1060177A JP1060177A JPS5942684B2 JP S5942684 B2 JPS5942684 B2 JP S5942684B2 JP 1060177 A JP1060177 A JP 1060177A JP 1060177 A JP1060177 A JP 1060177A JP S5942684 B2 JPS5942684 B2 JP S5942684B2
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substituted
unsubstituted
coumarin
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ドナルド・ポ−ル・スペツチ
サミア−・ヤコブ・フアリツド
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Eastman Kodak Co
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Publication date
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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    • G03F7/008Azides
    • G03F7/0085Azides characterised by the non-macromolecular additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/04Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
    • C07D311/06Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2
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    • C07D311/16Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2 not hydrogenated in the hetero ring substituted in position 7
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は感光性材料の増感に関し、更に詳細には写真製
版用レジストおよび平板印刷用プレートに使用される光
硬化性重合体アジドのようなアジド:および輻射線によ
る露光の際にガスを放出する不飽和発泡飢 不飽和単量
体および光硬化性不飽和重合体のような感光性不飽和材
料の増感に関する。
輻射線感応物質を画像露光して、露光された層の碩域中
の材料の物理的特性を変えることからなる方法により画
像を再現することは写真技術において知られている。
この方法に用いられてきた輻射線感光性材料は化学的に
露光した際に不溶化または硬化される重合体のような光
硬化性材訓である。露光域と非露光域との物理特性につ
いて生じる差異は機械的加圧、加熱、溶斉拠理等の方法
により画鐵を作るために利用でぎる。したがつて、材料
の層を未硬化材料の溶剤であり、硬化重合体の非溶剤で
ある溶剤で処理し、それによつて未硬化材料を除去し硬
化重合体の画鐵を残すことができる。別法として、この
層を露光域と非露光域との2つの粘着点の中間の温度に
加熱して、融点の低い方の区域を着色粉末で着色するか
または受鐵表面に転写することができる。
この方法は平板印刷プレート、騰写板原紙、フオトレジ
スト、および同様な写真および写真製板画像を作るため
に使用されてきた。しかしながら、光重合性材料のスピ
ードは比較的低く、光不溶化反応を増大することが望ま
れていた。この結果、これまで多数の化合物が感光剤と
して提案されてきた。例えば、1956年1月24田こ
発行された米国特許第2,732,301号に記載され
た2−ベンゾイルメチレン一1−メチル−β−ナフトー
ルチアゾリン(BNTZ)は密着プリント用材料用の増
感剤として有用である。BNTZを製造するためには複
雑な合成法が要求されるから、BNTZと同等もしくは
それ以上のスピードを持ちかつ容易に合成できる新しい
増感剤が望まれていた。発明者等はここに不飽和単量体
、.不飽和重合体発泡剤およびアジドを含む感光性材料
用の新しい増感剤を見出した。
本発明の感光肚組成物は不飽和感光性材料または光重合
性アジド材料からなり、この材料は約250〜550n
mに最大吸収を持つ3一置換クマリン化合物、またはそ
のようなクマリン化合物と1または2以上の他の感光剤
(クマリン感光剤でも良い)との混合物を増感量含んで
いる。
好しい増感剤は次式で表わされる。式中、Qは−CNま
たは−Z−R1を示し〔ここでR1は炭素数1〜101
の置換または非置換アルキル基またはアルコキシ基、炭
素数6〜12の置換または非置換アリールまたはアリー
ルオキシ基炭素および異原子数5〜15の複素環基、式
(式中XOは陰イオン、R8は炭素数1〜4のアルキル
基である)のピリジニウム基を示し];R2,R3,R
4およびR5はそれぞ粍独立に水素、炭素数1〜6のア
ルコキシ、炭素数1〜6のアルカノイルオキシ、炭素数
1〜6のアルキルチオ、各アルキル基の炭素数1〜4の
ジアルキルアミノ、ヒドロキシ、ハロゲソ、ニトロまた
は5または6員複素環例えばピロリジノ、モルホリノ、
ピペリジノ、ピリジニウム等であり;R6は水素、炭素
数1〜4のアルキルまたは炭素数6〜12.のアリール
であり;R2〜R5のうちの2つまたは3つおよびそれ
ら置換基が結合している環構成炭素原子が結合して縮合
環を形成することもでき、これら各環は5員また6員環
であり;Zはカルボニル、スルホニル、スルフイニルま
たはアリーレノジカルボニルから選ばれる結合基である
特に好しい実施態様において本発明のクマリン増感剤は
適当な支持体上に感光性光重合性材料と共に使用されて
平板印刷用プレートを与える。
光重合性材料のための新しい一群の増感剤は約250〜
約550nmに最大吸収を持つクマリン化合物である。
これらクマリン化合物は好しくは次式によつて表わされ
るものである。式中Qは−CNまたは−Z−R1を示し
〔ここでR1はメチ′レ、 エチル、プロピル、イソプ
ロピル、t−ブチル、イソブチル、ブチル、アミノレ、
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシノレ、お
よびシクロペンチル、シクロヘキシル等のようなシクロ
アルキルを含む炭素数1〜10のアルキル;置換アルキ
ル;フエニルのようなアリール;ニトロ、アルコキシ、
ハロゲン、カルボアルコキシ、アルキル、アリール、カ
ルボキシ、ヒドロキシ、アミノ、ジアルキルアミノまた
はトリアルキルアンモニウム等の置換アミノ等で置換さ
れた置換アリール;メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の
アルコキシ;フエノキシ等のアリールオキシ:環構成炭
素および異原子の数が約5〜15の複素環基例えば式肖
÷! または Ml6h A (式中、R8はメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、n−ブチル、イソブチル、 S−ブチル等
を含む炭素数1〜4のアルキルであり、X8はFSO3
8,BF4θ,p−トルエンスルホネート、ハロゲン(
例えば、Cl,Br,)等を含む陰イオンである)のピ
リジニウムリニコチニル;ニコチニウム;フリル;2−
ベンゾフラニル:2−チアゾリル:2−チエニル等;ま
たは式(式中R2−R6は上記の置換基と同様な基から
選ばれる)で表わされる3一置換クマリニルである。
Zはカルボニル、スルホニル、スルフイニルまたはアリ
ーレンジカルボニルから選ばれる結合基である。
本発明で有用な代表的クマリンを例示すれば次のとおり
である。
3−ベンゾイル一5,7−ジメトキシクマリン3−ベン
ゾイルーJメ[メトキシクマリン3−ベンゾイル一6−メ
トキシクマリン 3−ベンゾイル一8−エトキシクマリン Jメ[メトキシ一3−(P−ニトロベンゾイル)クマリン
3−ベンゾイルクマリン 3−(P−ニトロベンゾイル)クマリン 3−ベンゾイルベンゾ〔f〕クマリン 3,37−カルボニルビス(7ーメトキシクマリン)3
−アセチルーJメ[メトキシクマリン 3−ベンゾイル一6−プロモクマリン 3,31−カルボニルビスクマリン 3−ベンゾイルーJメ[ジメチルアミノクマリン3,3′
一カルボニルビス(7ージエチルアミノクマリン)3−
カルボキシクマリン 3−カルボキシーJメ[メトキシクマリン 3−エトキシカルボニル−6−メトキシクマリン3−エ
トキシカルボニルーJメ[メトキシクマリン3−アセチル
ベンゾ〔f〕クマリン 3−アセチルーJメ[メトキシクマリン 3−(1−アダマントイル)−Jメ[メトキシクマリン3
−ベンゾイルーJメ[ヒドロキシクマリン3−ベンゾイル
一6−ニトロクマリン 3−ベンゾイルーJメ[アセトクマリン 3−ベンゾイルーJメ[ジエチルアミノクマリンJメ[ジメ
チルアミノ一3−(4−ヨードベンゾイル)クマリンJ
メ[ジエチルアミノ一3−(4−ヨードベンゾイル)ク
マリンJメ[ジエチルアミノ一3−(4−ジエチルアミノ
ベンゾイル)クマリンJメ[メトキシ一3−(4−メトキ
シベンゾイル)クマリン3−(4−ニトロベンゾイル)
ベンゾ〔f〕タマリン3−(4−エトキシシンナモイル
)−Jメ[メトキシクマリン3−(4−ジメチルアミノシ
ンナモイル)クマリン3−(4−ジフエニルアミノシン
ナモイル)クマリン3−〔(3−メチルベンゾチアゾー
ル−2−イリデン)アセチル〕クマリン3−〔(1−メ
チルナフト〔1,2−d〕チアゾール−2−イリデン)
アセチル〕クマリン3,3′一カルボニルビス(6−メ
トキシクマリシ″ )3,3/一カルボニルビス(7ー
アセトキシクマリン)3,37−カルボニルビス(7ー
ジメチルアミノクマリン)3,3′一カルボニルビス一
(5,7−ジイソプロポキシ)クマリン3,3/一カル
ボニルビス一(5,7−ジ一n−プロポキシ)クマリン
3,31−カルボニルビス−(5,7−ジ一nープトキ
シ)タマリン3−シアノ−6−メトキシクマリン 3−シアノーJメ[メトキシクマリン Jメ[メトキシ一3−フエニルスルホニルクマリJメ[メト
キシ一3−フエニルスルフイニルクマリン1,4−ビル
(7ージエチルアミノ一3−クマリルカルボニル)ベン
ゼンJメ[ジエチルアミノ一51,1−ジメトキシ−3,
37−カルボニルビスタマリンJメ[ジメチルアミノ一3
−テノイルクマリンJメ[ジエチルアミノ一3−フロイル
クマリンJメ[ジエチ′レアミノ一3−テノイルクマリン
3−ベンゾイルーJヨ黶i1−ピロリジニル)クマリン5
,7,67−トリメトキシ−3,3/一カルボニルビス
クマリン5,5,1−トリメトキシ−3,3″一カルボ
ニルビスクマリンJメ[ジエチルアミノ一6゛″−メトキ
シ−3,37−カルボニルビスクマリン3−ニコチノイ
ルーJメ[メトキシクマリン3−(2−ベンゾフラニルカ
ルボニル)−J■■3−(7ーメトキシ一3−クマリノ
イル)−1メチルピリミジウムフロロサルフエート3−
(5,7−ジエトキシ−3−クマリノイル)−1−メチ
ルピリミジウムフロロボレートN−(7ーメトキシ一3
−クマリノイルメチノレ)ピリジニウムプロミド9−(
7ージエチルアミノ一3−クマリノイル)一1,2,4
,5−テトラヒトロー3H,6H,10HCI〕ベンゾ
ピラノ〔A,9a・1−Gh〕キノラジン一10−オン
オルガノカルボニルクマリンの製造は 「ChemlcalReviews」361,(194
5),S.M.SethnaおよびN.H.Shah:
および 40P.K.PandyaおよびK.C.Pa
ndya[Agr.Univ.J.Research」
4,345(1955)C.A.52,73O7bに見
られる。
ビス化合物はL.L.WOOdsおよびM.FOOla
dl[J..hem.Erlg.DataJス, 62
4(1967)記載されている。製造の説明は下記の通
りである。
l造例 1 3−ベンゾイル一5,7−ジメトキシクマリンの製造1
8.27の4,6−ジメトキシサリチルアルデヒド、2
2]7のエチルベンゾイルアセテート、20meのアセ
トニトリルおよび30滴のピペリジ 1ンからなる混合
物を45分間熱板上で穏かに加熱した。
冷却後、生成分を集め、アセトニトリルで2回更に少量
のアセトニトリルを含有するベンゼンで1回再結晶した
。融点178〜179℃製造例 23−アセチルーJメ
[メトキシクマリンの製造15.27の2−ヒドロキシ
−4−メトキシベンズアルデヒドおよび13.5tのエ
チルアセトアセテートの混合物を溶液が得られるまで熱
板上で温めた。
30滴のピペリジンを添加し、反応混合物を穏かに加熱
し続けた。
数分後、反応混合物は固化した。冷却後、生成物をアル
コールとアセトニトリルとの混合物で再結晶した。収量
207製造例 33−(4−エトキシシンナモイル)−
Jメ[メトキシクマリンの製造エナルアルコール1007
7Ze中の2.187の3ーアセチルーJメ[メトキシク
マリンおよび1.65tのp−エトキシベンズアルデヒ
ドの懸濁液を蒸気 1浴上で還流して加熱した。
溶液が得られるまでアセトニトリルを添加した。50滴
のピペリジンを添加し、反応混合物を還流下に90分間
加熱した。
更に、50滴のピペリジンを添加し、溶液を還流下で更
に1時間加熱した。生成物を冷却して分離し、エチルア
ルコールで洗浄し、エチルアルコールとアセトニトリル
との混合液で再結晶した。製造例 43,3′一カルボ
ニルビス(7ージエチルアミノクマリン)の製造907
のジメチルホルムアミドに塩化ホスフ ンオリル(61
.27、0.40モル)を冷却撹拌下に滴下した。
氷浴により温度を25℃に保持し、60.47(0.3
6モル)のm−ジエチルアミノフエノールを少量ずつ添
加した。反応混合物を室温で1/2時間攪拌し、次いで
水蒸気浴で1.1/2時間加熱した。2室温に冷却した
後、反応混合物を1M酢酸ナトリウム水溶液(1200
me)中に注ぎ、1時間攪拌した。
溶液を2000meに稀釈し、更に2時間攪拌し、生成
物はしばしばタールを残している。タールは酢酸中で除
去され 2倍容積量の水を添加して褐色結晶として生成
物を沈澱させる。4−ジエチlレアミノサリチルアルデ
ヒドを回収した。
褐色結晶、収量21.0t0352.5t( 0.27
モル)の4−ジエチルアミノサリチルアルデヒド、22
.51( 0.13モノレ)のジメチル−1,3−アセ
トンジカルボキシレート、500WIIの95容量%の
エチルアルコールおよび30meのピペリジンを水蒸気
浴上にて還流下に3時間加熱した。冷却後、固型物を集
I〔 め、少量のエチルアルコールで洗浄し、エチルア
ルコールとアセトニトリルとの混合物で2回再結晶した
。収量38.0t融点213℃製造例 5 メチルJメ[ジエチルアミノ一3−クマリノイルアセテー
トの製造10滴のピペリジンを含有する10m1のアル
コール中の1.93Vの4−ジエチルアミノサリチルア
ルデヒド、1.80tのジメチル1,3−アセトンジカ
ルボキシレートの溶液を水蒸気浴上で還流下に2時間加
熱した。
冷凍機中で冷却した後、生嬉ε成物を集めエチルアルコ
ールとアセトニトリルとの混合物で再結晶した。収量2
6y(収率82%)製造例 67−ジエチルアミノ−
5’,7’−ジメトキシ−3,3−カルボニルビスクマ
リンの製造1.75VのメチルJメ[ジエチルアミノ一3
−クマリノイルアセテートおよび25meのアセトニト
リル中の1.IVの4,6−ジメトキシサリチルアルデ
ヒドを両試薬が溶解するまで加熱した。
1.5m1のピペリジンを添加し、反応混合物を水蒸気
浴上で還流下に2時間加熱した。
冷凍機中で冷却した後、生成物を回収し、アセトニトリ
ルとピリジンとの混合液で再結晶した。収量1.15y
(46%)本発明の増感剤を水性系または水性処理可能
fよ光反応性重合体系に使用するために、増感剤として
作用する能力に実質上影響を与えない可溶化基を増感剤
分子中に導人することが好都合である。
しかしながら、吸光範囲にある種の変化が生じ得る。特
に好都合な基はスルホネート基およびシクロオニウム塩
基を含むオニウム基、例えばピリジニウム、オキソニウ
ム等である。 〉これらの化合物のい<つかは慣用の有
機被覆用溶剤中で十分な溶解性を保ち、有機溶剤からの
被覆が要求されるが、水による処理を意図している方式
において使用できる。
好しい化合物は次式で表わされる。
式中R2,R3,R4,R5,R6,R8およびXΘは
前に定義したとおりである。
製造例 7 3−ニコチノイル一 7 −メトキシクマリンの製、6
三刀1 0.65yのエチルニコチオニルアセテート、0.5y
の2−ヒドロキシアニソアルデヒドおよび10m1のア
ルコールを水蒸気浴上で、溶液が得られるまで加熱した
5滴のピペラジンを添加し、加熱を継続した。
数分後、反応混合物は固化した。更に10m1のエチル
アルコールを添加し、反応混合物を更に15分間加熱し
た。冷却後、固形分を集め、エチルアルコールとアセト
ニトリルとの混合物で2回再結晶を行つた。2m1のメ
チルフロロスルホネートを1.5tの3ニコチノイルー
Jメ[メトキシクマリンの120meジクロロメタン溶液
に添加した。
0.5時間撹拌し、固形分を集め、エチルアルコールで
再結晶した。
黄色針状結晶収量1.57製造例 83し(5,7−ジ
エトキシ−3−クマリノーノレ)1−メチルビペリジニ
ウムフロロボレートの製造1.5m2のメチルフロロス
ルホネートを撹拌下の0.57の5,7−ジエトキシ−
3−ニコチノイルクマリンの20meジクロロメタンの
溶液に添加した。
ジクロロメタンを蒸発し、残渣をエチルアルコール中に
溶解し、更に沈澱が完了するまで50%フロロ硼酸を滴
下した。冷却後、生成物を集八エチルアルコールで再結
晶した。本発明の増感剤によつて、その感光性が改善さ
れる材料はアジド(−N3)または不飽和基、例えばオ
レフイン性〕C−C(基から選ばれる光感応性基を持簡
単な重合体化合物である。
これらの材料の多くは光重合性または光硬化性である。
この明細書で使用される[光重合性]および[光硬化性
」という語は少くとも光感応性層の少くとも1つの成分
の分子量が、露光域の溶解性またはレオロジ一的および
熱的挙動に変化を起すのに十分な化学線に露光すること
により増加する系を表わす。好しい光重合性または光硬
化性系としては、(1)光重合性単量体が単独または相
容性バインダーと共に組合されているもの、または(2
)重合体の主鎖内または主鎖に結合した光硬化性基が露
光により活性化さへ隣接の重合体主鎖の同様な基または
他の反応性部分と反応することにより架橋することがで
きるもの、である。
単量体または光硬化性基が付加重合性であれば、例えば
ビニル単量体であれば、光重合された鎖長は一回の光化
学作用によつて開始された多数の同じ単位の付加を意味
するであろう。同じ化合物の二量化、例えばシンナモー
ル化合物の場合にのみ、光感応性成分の平均分子量は一
回の光化学作用によつて最高2回にすぎない。光重合層
はどの付加重合性単量体(例えば、エチレン性不飽和単
量体)およびクマリン増感剤を他の同様な単量体の1種
または2種以上と混合して構成できる。
光重合層は更に予じめ作られた相容性縮合または付加重
合体、および非混和性重合体または非重合体有機または
無機充填剤を配合することができる。これら充填剤は実
質的に透明である、例えば親有機性シリカ、ペントナー
七、シリカ、ガラス粉末等で0.4ミル以下の粒子サイ
ズを持つもので、その量は光重合層の所望特性によつて
変る。好しい単量体はエチレン性不飽和【、付加重合性
単量体であり、特に前記エチレン性結合が末端部分にあ
る、即ちCH2−C(基を持つもの、すなわちビニル単
量体である。そのような組成物がより大きいスピードで
剛性物質に重合するため、光重合性層は1分子当り多数
の重合可能結合を含む相当量のエチレン性不飽和重合性
材料を含有することが好しい。光重合性単量体の例とし
てはアクリル系単量体、特にビス−トリス一等のアクリ
レートおよびメタアクリレートがある。
光重合性層はクマリン増感剤を配合した重合性単量体お
よび重合性重合体から構成することもできる。
光重合性分子が1以上の反応部位を持つ場合、架橋網状
構造化を行うことができる。典型的な架橋可能な光重合
体は1934年7月10田こ発行されたMurrayの
米国特許1965710に記載されている。
ここには、画詠的に露光された後、未露光域において選
択的に躊解されそれによつてベースにした支持体域を工
ツチングできる、他の樹脂材利を含有するシンナマール
ケトン層から形成されているレジスト画鐵が記載されて
いる。Minsk等の米国特許2,610,120;2
,690,966;2,670,285;2,670,
286および2,670,287にはそれぞれニトロ、
トリフエニルメタン、アントロン、キノンおよびクト
ン化合物によつて増感されたR一CH=CH−CO(式
中、Rはフエニル、m−ニトロフエニルのような置換ま
たは非置換アリール基である)の結合された重合単位を
含む重合体を含有する感光性写真製版用レジストが記載
されている。代表的な光重合性重合体はポリビニルアル
コールのシンナミリデンアセテートエステル、ポリビニ
ルアルコールのケイ皮酸エステル、セルロースのケイ皮
酸エステル、ヒドロキシアルキルセルロースのケイ皮酸
エステル、シンナモイル化ポリスチレン、シンナミルビ
ニルケトン重合体、不飽和ポリエステル等である。
本発明におけるクマリンによつて増感できる他の光重合
性材料は1973年12月18日にWadswOrth
等に発行された米国特許3,779,989に記載され
ている。
これら材料はジアリールシタロプロペニウムイオンまた
はジアリールシクロプロペニル基のようなジアリールシ
クロプロペン置換基を含有し、この置換基は重合体主鎖
に結合しているフエニル基に直接に結合している光感応
性重合体である。これらの重合体は写真製版の画鐵の形
成およびその他の目的に有用である。光感応性重合体の
他の種類は1974年1月1日にDeBOerに発行さ
れた米国特許3,782,938に記載されている。こ
れらの光感応性重合体は重合体主鎖に1つのエチレン性
二重結合を持つ3ないし6員の炭素環または単環式複素
環かまたは環外二重結合を持たずかつベンゼン系の芳香
族環を縮合してなる5ないし6員の炭素環または複素環
である光感応性不飽和環状基を結合している。クマリン
によつて増感できる更に他の感光性重合体は1962年
4月17田こSchellenberg等に発行された
米国特許3,030,208にも記載されている。
これら光感応性化合物は芳香核に結合した式N CH−CH−C−の基を有し、主としてエステル結合に
より結合された可溶性縮重合生成物である。
更に他の光重合性材料は1975年12月30田こAr
cesiおよびRaunerに対して付与された名称「
アルコール水溶液で現?可能な輻射線感応性要素を持つ
平板印刷用プレート」の米国特許3,929,489に
記載されている。
本発明の特に有用な態様において、光重合性材料は19
70年12月8田こCaldweII等に発行された米
国特許3,546,180に記載されているように次式
の重合体分子中にジスルホンアミド単量体を持つている
式中、 (a) Rは−Hまたはアルカリ金属、 (6)XおよびYは同一または異り、6ないし約12の
炭素原子を持つアリーレン基でこの基は1以上の塩素原
子で置換されていても良く(c) AおよびBは同一ま
たは異つており、−H1(式中wは−H、炭素数1〜約
8のアルキル、炭素数2〜約8のアルキレンまたは炭素
数6ないし約14のアリールであり;R1は水素または
炭素数1ないし約8のアルキル;およびR2は水素、炭
素数1ないし約8のアルキルでありそしてAおよびBの
うち少くとも1つは原子価1を持つている。
本発明の化合物によつて増感できるアジドの例としては
米国特許2,948,610;3,002,003およ
び3,096,311のポリビニルアジドベンゾエート
およびポリビニルアジドフタレートがある。
アジドポリマーは種々の式によつて表わすことができる
。この重合体は簡単には次式式中Uは重合体鎖自体の繰
返し原子を示し、Zは重合体のアジド基を繰返し原子に
結合する結合原子または基、例えば、−CH2− −C
O−、フC2H4−0−、である、で表わされる繰返し
単位を含む重合体である。
共重合体においては、上記Uと異なる更に他の重合繰返
し単位、Ul,U2等が存在し、したがつて、この共重
合体は式として表わすことがでぎる。
重合体は式 (式中、Zは同一または異なる前に定義した結合である
)で表わされ、例えば、2またはそれ以上のアジド基が
セルロース鎖の1つの重合繰返し単位に結合でぎるヒド
ラジド化セルロースエステルのアリールアジド誘導体に
おいて存在し得るような繰返し単位を含むものを用いる
ことができる。
同様に、ジアジドフエニル基の場合のように2以上のア
ジド基をZに結合することもできる。特に効果的に使用
できる特異な感光曲アルカリ可洛囲アジド重合体は式式
中Rは必ずしも芳香族核に属する必要はないがベンゼン
系の2価の芳香族基、例えば、フエニ―()=O−C2
H4−0−である、で表わされる繰返し単位を含む。
ある場合には、カルボキシル基のような特異に感光性ア
ルカリ可溶性アジド重合体の酸基はアジド基を有する繰
返し単位に結合しておらず、例えば後述のマレイン酸−
アジドスチレン共重合体の場合のように重合体の他の繰
返し単位に結合していても良い。後述のビニルアジドフ
タレート共重合体の場合、カルボキシル基はアジド基を
保持する芳香族核に直接に結合されている。有用な感光
性、フイルム形成性アジドスチレン重合体は式1の繰返
し単位を持ち、同様に有用な前記アジドスチレンの共重
合体は不規則な組合せとして式の繰返し単位からなつて
いる。
各樹脂分子中の(a)単位と(b)単位との比は1:1
9〜19:1の範囲で変えることができる。
即ち、(b)は5〜95モル%存在する。また、式中、
mは各場合において1または2、nは0〜2の数を示し
、Xは塩素原子;炭素数1〜4の置換または非置換アル
キル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル等
;炭素数1〜4の置換または非置換アルコキシ基、例え
ばメトキシ、エトキ之、プロポキシ、ブトキシ等:およ
びニトロ基であり、Rはエチレン、イソブチレン、1,
3−ブタジエン、スチレンおよび置換スチレン等の単位
:アクリル酸、α−アルキルアクリル酸、マレイン酸、
シトラコン酸、イタコン酸等のα,β一不飽和モノまた
はジカルボン酸:およびこれらの酸の無水物、アルキル
エステル、イミド、N−アルキルイミド、ニトリル、ア
ミドおよびN−アルキルおよびN,N−ジアルキルアミ
ドリフマール酸およびメサコン酸およびそれらのアルキ
ルエステル、ニトリル、アミド、N−アルキルおよびN
,N−ジアルキル置換アミドリビニルメチルケトンのよ
うなビニルアルキルケトン、塩化ビニルのようなハロゲ
ン化ビニル;塩化ビニリデンのようなハロゲン化ビニリ
デン等である。尚、上記の場合、アルキルおよびアルコ
キシ基は1ないし4の炭素原子を含む。本発明のクマリ
ンによつて増感でき、画像的露光時にガスを発生するこ
とができる不飽和輻射線照射分解性発泡剤としてはG.
L.Fletcher,D.H.WadswOrthお
よびJ.E−JOnesの米国特許出願に記載された起
泡剤がある。
これらの発泡剤は露光の際にガスを放出する。
熱変形性の比較的ガス不透過性フイルム被覆物に配合し
、化学線で照射し、加熱した場合、露光時にガスが放出
され、加熱の際ガス膨張により変形する軟化ストリツク
スにより膨張する。冷却した際、露光域は永久的に変形
しており、かつ光の透過に対して不透明となり、透明支
持体上に被覆されている場合投影により画鐵が見られる
。不透明支持体上に被覆されている場合には、画像は白
色であり反射光によつて見ることができる。好しい輻射
線照射分解性発泡剤は式 式中R1およびR2は同一または異なり、それぞれ芳香
族環に6ないし10個の炭素原子を含む置換および非置
換アリール基または芳香環部分に6ないし10個の炭素
原子を含み(例えばフエニノにナフチル特)かつアルケ
ニル部分に1ないし5個の炭素原子を含む基、例えば2
,2−ジフエニルビニル、2−フエニルビニル、2−ナ
フチルビニル等である、で表わされる化合物である。
前記置換アリール基の各置換基は次の置換基から選ばれ
る1またはそれ以上の基である。
1)炭素数1ないし5のアルキルまたはアルコキシ基2
)ニトロ基、 3)炭素数6ないし10のアリールオキシ基、および4
)犬÷R3+式中R3は炭素数1ないし5の低級アルキ
レン基である、で表わされる繰返し単位を少くとも1つ
持ち、アリール基が懸垂状に結合されている重合体特に
有用な態様においては、画鐵的露光の際にガスを発生す
ることのできる輻射線分解性発泡剤を含有する重合体バ
インダーが使用される。
感光性組成物は適当などの支持体上にも被覆できる。平
板印刷用プレートの製作に関して本発明の感光性重合体
を使用する際、プレートは感光性重合体と本発明の増感
剤とからなる溶液を金属板またはポリエステルのような
可撓性フイルム支持体のような適当な支持体上に被覆す
ることによつて製作される。乾燥後、プレートを線によ
る模様を通して露光し、それによつて露光域における重
合体を架橋させ溶剤不溶性とする。光源として紫外同調
レーザーまたは可視同調レーザーのようなレーザーを使
用する場合、特に興味深い。
例えばアルゴンイオンレーザーは351および364n
mにおける紫外光源または488および515nmの可
視光源を与えることができる。単一のクマリン増感剤を
使用できるが、しかしながら、本発明のクマリン増感剤
の1または2以上の組合せまたは1または2以上のクマ
リン増感剤と1または2以上の他の増感剤との組合せに
より高いスピードが得られる。例えば多くの架橋性重合
体は3,31−カルボニルビス(7ージエチルアミノク
マリン)により488nmにおいて最高に増感すること
ができる。しかしながら、この増感剤の350−370
nmにおける感応に最適ではない。この範囲において3
−ベンゾイルーJ■■かしながら、2つの化合物の混合
物は長波長における感応性について悪影響を与えること
なく3,37−カルボニルビス(7ージエチルアミノク
マリン)単独で増感される場合よりも350−370n
mにおいて高い写真スピードを与える。
露光されたプレートを適当な溶剤中に浸漬して非露光城
における非架橋重合体を除去する。このプレートは35
1−364nmまたは488−515nmのいずれかに
同調したレーザーに使用でぎる。有用な溶剤としては1
,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン、2−エトキシ
エチル酢酸、シクロヘキサノン、水、アルコール2−メ
トキシエチル酢酸およびキシレンの20:80(重量比
)混合液等がある。適当な支持材料は被覆用組成物と直
接化学的に反応しない種々の材料から選択できる。
この支持体材料としては紙、ポリエチレン被覆紙、ポリ
プロピレン被覆紙、羊皮紙、クロス等の繊維ベース材料
;アルミニウム、特に粗面化アルミニウへ陽極酸化アル
ミニウムまたは粗面化および陽極酸化アルミニウム、銅
、マグネシウム、亜鉛等の箔またはシート;ガラスおよ
びクロム、クロム合金、鋼、銀、金、プラチナ等の金属
で被覆したガラスリポリアルキルアクリレート、例えば
ポリメチルメタクリレート、ポリエステルフイルムベー
ス例えばポリ(エチレンテレフタレート)、ポリビニル
アセタール、ポリアミド例えばナイロンおよびセルロー
スエステルフイルムベース:例えば硝酸セルロース、酢
酸セルロース、加水分解された表面を持つセルロースエ
ステル、セルロースアセテートプロピオネート、セルロ
ースアセテートブチレート等の合成樹脂および重合体が
ある。輻射線感応層の最適被覆厚は、被覆が行われるも
のの用途、使用される具体的な輻射線感応性重合体、被
覆中に存在し得る他の成分の性質のような要素に依る。
典形的な厚さは約0.05ないし10.0ミクロンまた
はそれ以上で良く、平板印刷用プレート用としては0.
1ないし2.5ミクロンの厚味が好しい。一般に、本発
明の増感剤は一般に重合体17当り約3×10−6ない
し6×10−4モルの濃度または感光性材料に対して約
0.1ないし約20重量%好しくは約1ないし11重量
%の量で使用される。
後に示す実施例において記録された結果は下記の一般的
方法によつて得られた。
実施例1ないし11の各実施例においては、2%感光性
重合体シクロヘキサン溶液10me中に6×10−5モ
ルの増感剤を溶解した。
この溶液5meをアルミニウム上にスピン被覆した。同
量の2−ベンゾイルメチレン一1−メチル−β−ナフト
チアゾリンを用いて同様に新たに調製した被覆を対照と
して使用した。乾燥被覆のストリツプを0.150.D
.増加段階のウエツジを通して露光し、1,2−ジクロ
ロエタンの浴中で非架橋重合体を溶解除去して現像した
。使用できる光源はキセノンまたはカーボンアークを含
むフイルタ一を通し、または通さない広い分光分布を持
つ光源および短い(紫外)波長から中間の(可視)波長
内で放射する水銀ランプおよびレーザーのような狭い分
光分布を持つ光源が含まれる。
異なる光源が下記実施例において使用された。
A.オザマチツク光源一完全なスペクトルの高圧水銀ラ
ンプを用いている市販の装置B.366nm一高圧水銀
ランプをフイルタ一がけすることによつて取出した水銀
線の波長C.35OOλ一最大放射が350nmである
レイオネツト(RayOnet)光化学反応ランプの配
列からなる実験用露光機D.4O5nm一高圧水銀ラン
プをフイルタ一がけすることによつて取出した水銀線の
波長E.436nm一高圧水銀ランプをフイルタ一がけ
することによつて取出した水銀線の波長実施例1〜4の
全てのサンプルにおいて用いられる感光性重合体はポリ
ケイ皮酸ビニルである。
実施例5では、ビニルアセテートとビニルアジドベンゾ
エートとの共重合体であつた。実施例6〜9および11
では、変性ポリビニルアルコールであり、その20%が
遊離水酸基、12(f)が酢酸エステル基、37%が2
,3−ジフエニルシクロプロペンカルボキシレート基お
よび31%が安息香酸エステル基である。実施例10に
おいては、酢酸ビニル、安息香酸ビニル、シンナミリデ
ン酢酸ビニルの共重合体(モル比、12:38:50)
である。
本発明を実施例により更に説明する。
* この実施例および残りの実施例において、2−ベン
ゾイルメチレン一1−メチル−β−ナフトチアゾリン(
BNTZ)で増感されたそれぞれの感光囲重合体が対照
として用いられた。
比較の目的で、この組合せの対照重合体の相対スピード
を1とした。このもののスピードは未増感ポリケイ皮酸
ビニルよりも350〜500倍大きい* これはBNT
Zで増感したポリケイ皮酸ビニルよりも4倍も高いスピ
ードである。
*このサンプルは比較のためであり、 増感剤ではない。
本発明の 木3,3−カルボニルビス(7ージエチルアミノクマリ
ン)(4×10−5モル)を2,1%のポリ(1,4−
シクロヘキシレンビス(オキシエチレン)−1,4−フ
エニレンジアクリレート(感光性重合体)のジクロロエ
タン溶液10m!.に溶解した。
この溶液5meをアルミニウム上にスピン被覆した。前
記3,3/一カルボニルビス(7ージエチルアミノクマ
リン)に代えて4×10−5モルの3一ベンゾイルーJ
メ[メトキシクマリンを含有する以外は第1の層と同様
に第2の被覆を作成した。
前記3,31−カルボニルビス(7ージエチルアミノク
マリン)に代えて6×10−5モルの2ーベンゾイルメ
チレン−1−メチル−β−ナフトチアゾリンを含有する
第3の被覆を第1の被覆と同様に作成した。各被覆物は
常法で露光され、MartisO蒔に1972年12月
26日に発行された米国特許3,707,373の実施
例3に記載されたものと同様な現廉液を用い15分間ス
ワツプ現鐵し、水に浸漬した。
画?が良く見えるように標準着色技術が用いられた。実
施例 13 発泡画像形成方式の利用 の各成分からなる濃厚液を下塗りしたポリ(エチレンテ
レフタレート)上に被覆台温度27℃で湿潤厚4ミルに
被覆した。
49℃における常法による乾燥の後、被覆物を65℃で
10秒間フラツシ乾燥した。
前記濃厚液に14m7のBNTZを添加する以外(ま第
1の被覆物と同様に第2の被覆物を作成した。
前記濃厚液に15ηの3−ベンゾイルーJメ[メトキシク
マリンを添加する以外は第1の被覆物と同様に第3の被
覆物を作成した。各被覆物は400ワツトの水銀アーク
により0.15の光学的濃度段階の光楔を通して同時間
露光した。
HおよびD曲線をプロツトし、光学濃度1における対数
露光量の差から相対スピードを計算した。
実施例 14(比較例)1974年11月6日に出願さ
れたWagner等の米国特許出願の実施例10に記載
されているように光重合性被覆物において3,31−カ
ルボニルビス(7ージエチルアミノクマリン)を7ージ
メチルアミノ一4−メチルクマリンと比較した。
下記の組成からなる濃厚液を粗面化、陽極酸化アルミニ
ウムにホール被覆した。濃厚液は次の組成を持つ。d)
ジクロロエタン10m2 e)7ージメチルアミノ一4−メチルクマリン0,04
07乾燥被覆物上に1975年7月3田こWarger
等の名儀で出願された英国特許出願28092/75に
記載されているような2%サクシノイル化したポリビニ
ルアルコールの10%水溶液を更に被覆した。
第2番目の被覆物は7ージメチルアミノ一4−メチルク
マリンに代えて3,3′一カルボニルビス(7ージエチ
ルアミノクマリン)を使用した以外軛a)次式で表わさ
れる重合体の10(:Ft)ジクロロメタン溶液10m
eb) 10f)ベンゼンクロムトリカルボニルのジク
ロロエタン溶液0.5mec) 次式の可塑剤0.15y 有する被覆物においては、典型的な未増感被覆物を越え
るような分光増感範囲の増加およびスピードの増大は認
められなかつた。
3,31−カルボニルビス(4−ジエチルアミノクマリ
ン)を含有する被覆物は分光噌感範囲を430nmから
540nmに拡大し、それによつてその被覆物を可視光
感応性にして被覆物全体のスピードを増した。
実施例 15 実施例14の第2の被覆物と同じ被覆物を粗面化、リン
酸陽極酸化アルミニウム上にウイラ一被覆し、実施例1
4と同様に更に被覆を行つた。
乾燥被覆物を488nmにおいて2×104エルグ/C
dでレーザーにより露光した。画鐵は手で着色した。実
施例14の第1の被覆物と同じ被覆物は488nmにお
けるレーザーによる露光では画鐵は得られなかつた。
実施例 16 の2−ヒドロキシ−3−メタアクリロイルオキシプロピ
ル−4−メタアクリロイルオキシベンゾエート17;メ
チルメタアクリレート、エチルアクリレートおよびメタ
アクリル酸の共重合体(重量比;51.6:34.4:
14)17および3−ベンゾイルーJメ[メトキシクマリ
ン0.1yを5meのメチルエチルケトンに溶解した溶
液を銅で被覆したエポキシガラス繊維プリント回路板上
に43℃で湿潤厚0.008インチに被覆し、5分間空
気乾燥し、80〜90℃で5分間焼付けた。
冷却した板を0.150D.増加段階ウエツジを通して
コライト(COIight)M−99プリンターで2分
間露光し、4%炭酸ナトリウム水溶液を1分間噴霧する
ことにより現鐵してレジスト画鐵を作つた。ウツジの3
段が現像された。0.17のベンゾフエノンおよび0.
17のMichIer/sケトンの増感混合物をクマリ
ン化合物に代えて使用した場合には6段現鐵された。
増感剤を含有しない対照においてはどの段階も現鐵され
なかつた。これらの結果は本発明のクマリン増感剤が光
重合性組成物を増感する能力を持つことを示している。
実施例 17 次の被覆組成物を調製した。
6×10−5モルのクマリン増感剤;および実施例11
で使用した重合体の2重量(f)4−ブチロールアセト
ン/酢酢エトキシエチル(1:3、重量比)この溶液5
meをアルミニウム上にスピン被覆した。
等モル量のBNTZを使用して被覆物を対照として新た
に調製した。乾燥被覆物の細片を0.150D増加段階
ウエツジを通して高圧水銀ランプで露光し、コダツクポ
リマチツクエルエヌ(POlymaticLN親鐵液で
拭くことにより現鐵した。
現詠した細片は画隙が良く見えるように着色した。結果
は次のとおりである。
実施例 18 次の被覆組成物を調製した。
クマリン増感剤6×105モル;および実施例11で用
いた重合体の201)シクロヘキサノン溶液10me;
この溶液を実施例17のょうに被覆し、露光し、対照と
比較して次の結果を得た。
実施例 次の構造を持つ光感応性重合体17 を18meのジクロロエタンおよび2m1のジメチルホ
ルムアミドに溶解した濃厚液を下塗りしたアルミニウム
板に150rpmで被覆した。
この板の一部をコダツクT−14対照スケールを通して
エツクスポーザ一(XpOser)(コライト社製)上
で4分間露光した。露光した板をMX854−3現像液
(ポリマチツクLM型現詠液)で拭つて現鐵し、着色し
た。このもののスピードは増感剤としてBNTZを含有
する比較用プレートのスピードの0.7倍であつた。前
記の板の第2の部分を同様に露光し、次いで90%の水
、5%のメタノールおよび5%の水酸化アンモニウムか
らなる液で現詠した。
実施例 20 下記のサンプルA−Hを2%の実施例11で使用した重
合体を含有するシクロヘキサノン溶液;と3×10−3
または6×10−3モルの3,32−カルボニルビス(
7ージエチルアミノクマリン)および/または3−ベン
ゾイルーJメ[メトキシタマリンとを下塗りしたアルミニ
ウムにウイール被覆した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 エチレン性不飽和材料または重合性アジド材料であ
    る感光性材料と該感光性材料のための増感剤とからなり
    ;該増感剤が約250〜約550nmに吸収極大を持ち
    、かつ式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Qは−CNまたは−Z−R^1(ここでR^1は
    炭素数1〜10の置換または非置換アルキル基アルケニ
    ル基またはアルコキシ基炭素数6〜12の置換または非
    置換アリール基炭素数6〜12の置換または非置換アリ
    ールオキシ基、または環を構成する炭素原子および異原
    子が5〜15個である置換または非置換複素環基、また
    は水酸基;そしてZはカルボニル基、スルホニル基 ス
    ルフィニル基またはアリーレンジカルボニル基);R^
    2、R^3、R^4およびR^5はそれぞれ独立に水素
    、炭素数1〜6の置換または非置換アルコキシ基、炭素
    数1〜6の置換または非置換アルケニルオキシ基、炭素
    数1〜6の置換または非置換アルキルチオ、各アルキル
    基の炭素数が1〜4であるジアルキルアミノ基、水酸基
    、アシルオキシ基ハロゲン、ニトロ基、または5または
    6員複素環基;またはR^2ないしR^5の2個または
    3個と前記R^2ないしR^5の置換基が結合されてい
    る環構成炭素原子とかいつしよになり各縮合環が5また
    は6員環である縮合環または縮合環系を形成しており;
    R^6は水素、炭素数1〜4の置換または非置換アルキ
    ル基または 炭素数6〜12の置換または非置換アリー
    ル基である〕で表わされる化合物であることを特徴とす
    る、感光性組成物。
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