JPS6294931A - 現像装置 - Google Patents
現像装置Info
- Publication number
- JPS6294931A JPS6294931A JP23571885A JP23571885A JPS6294931A JP S6294931 A JPS6294931 A JP S6294931A JP 23571885 A JP23571885 A JP 23571885A JP 23571885 A JP23571885 A JP 23571885A JP S6294931 A JPS6294931 A JP S6294931A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developing
- container
- sample
- fluid
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えば半導体装置製造Ｖ目のフォトマスク
等を現像する現像装置に関するものである。
等を現像する現像装置に関するものである。
＠３図は従来の現像装置を示す図であり、図において、
（１１は皿状の廃液受皿、（２１ばこの廃液受皿の開口
部に取り付けらねたカバーであり−これらは容器（イ）
を形成する。（３１はカバー（２１上部に取り付けられ
た噴射器−（４）は上記廃液受皿（１１の底部に設けら
れた排出口、（５）はこの排出口（４）に敗り付けられ
た排出パイプ、（６）に試料（９１を回転するための駆
動モーター、（７）はこのｊ枢動モーター（６）の動力
を云達する回転軸、（８）は試料（９）を保持するホル
ダであり、上記１回転軸（７）に連結されている。（１
０）は試料（９）を交換するために容器Ｏ２に収り付け
られたアクセスドアである。α１）は現像を行なう現像
室を示している。
（１１は皿状の廃液受皿、（２１ばこの廃液受皿の開口
部に取り付けらねたカバーであり−これらは容器（イ）
を形成する。（３１はカバー（２１上部に取り付けられ
た噴射器−（４）は上記廃液受皿（１１の底部に設けら
れた排出口、（５）はこの排出口（４）に敗り付けられ
た排出パイプ、（６）に試料（９１を回転するための駆
動モーター、（７）はこのｊ枢動モーター（６）の動力
を云達する回転軸、（８）は試料（９）を保持するホル
ダであり、上記１回転軸（７）に連結されている。（１
０）は試料（９）を交換するために容器Ｏ２に収り付け
られたアクセスドアである。α１）は現像を行なう現像
室を示している。
従来の動作は土肥のように構成さね、例えば曙光後の半
導体装置製１行甲のフォトマスク等からなる試料（９１
をホルダ（８）Ｋセットし、噴射器（３１から所定の現
１１？液を試料（９１に噴射［７、駆動モーター（６）
を回転（灼３００ｒ、ｐ、ｍ、）させ、そのご助力を回
転刺１（７）でホルダー（８１に伝え試料（９）を回転
させる。これにより、現像液は材料１９）の表面全体に
波力；つで、試料（９）が現像される。その際、現像液
及び現像後廃液が容器（１巧内周部傾向って飛び散る。
導体装置製１行甲のフォトマスク等からなる試料（９１
をホルダ（８）Ｋセットし、噴射器（３１から所定の現
１１？液を試料（９１に噴射［７、駆動モーター（６）
を回転（灼３００ｒ、ｐ、ｍ、）させ、そのご助力を回
転刺１（７）でホルダー（８１に伝え試料（９）を回転
させる。これにより、現像液は材料１９）の表面全体に
波力；つで、試料（９）が現像される。その際、現像液
及び現像後廃液が容器（１巧内周部傾向って飛び散る。
上記現像液及び現像後ＩＮｏ、は容器１４の内壁を伝っ
て集まり、廃液受皿中の底部に溜まり、排出口（４）か
ら排出パイプ＋５１を介して排出される。
て集まり、廃液受皿中の底部に溜まり、排出口（４）か
ら排出パイプ＋５１を介して排出される。
上記のような従来の現像装置では、試料（９）から飛び
散る現像液及び現（９後団液は相当の〕！１肋滑を持っ
ているので、容器（社）内壁に当ってからはね返り、試
、料（９１上に再付着して試料の局所的現像不良を起し
、欠陥が増加したり現像後ができたりして解像度の低下
をまねき、微細パターンの現１象ができない等の問題点
がある。
散る現像液及び現（９後団液は相当の〕！１肋滑を持っ
ているので、容器（社）内壁に当ってからはね返り、試
、料（９１上に再付着して試料の局所的現像不良を起し
、欠陥が増加したり現像後ができたりして解像度の低下
をまねき、微細パターンの現１象ができない等の問題点
がある。
この発明は、上ｇ１の問題点を解消するためになされた
もので、回転する試料（９）より飛び散る現像液及び現
像後廃液等の容器０２からのはね返りを防ぐことにより
、試料（９）の現像状態を最適にし、欠陥がなく解＠１
１丁の高い微細パターンの現像ができる現像装置を得る
ことを目的としている。
もので、回転する試料（９）より飛び散る現像液及び現
像後廃液等の容器０２からのはね返りを防ぐことにより
、試料（９）の現像状態を最適にし、欠陥がなく解＠１
１丁の高い微細パターンの現像ができる現像装置を得る
ことを目的としている。
この発明に係る装置は現像室（Ｉυにおいて試料（９）
の回転により飛び散る現像液及び現像後廃液の容器（６
）の内壁からのはね返り防止するために容器ｒ１２の内
周部に流体の流れを起こさせる流体層形成手段を設けた
ものである。
の回転により飛び散る現像液及び現像後廃液の容器（６
）の内壁からのはね返り防止するために容器ｒ１２の内
周部に流体の流れを起こさせる流体層形成手段を設けた
ものである。
この発明における容器（１′ｌＪ内同部に流体の流れを
起こさせる流体層形成手段は、試料（９１から飛び敗つ
た現像液及び現像後廃液を流体と共に流し去り、飛び散
った液の容器内壁でのはね返りと、はね返った液の試料
への付着を防止する。
起こさせる流体層形成手段は、試料（９１から飛び敗つ
た現像液及び現像後廃液を流体と共に流し去り、飛び散
った液の容器内壁でのはね返りと、はね返った液の試料
への付着を防止する。
以下、この発明を第１図に示す実施例に基づいて説明す
る。図中で、（Ｉ＋−１，１ａは第３図に示した従来の
現像装置と同じである。（４ａ）は排気効果をよくする
ために廃液受皿（１１の底部に設けられ之リング状の四
部である。排出口（４）及び排出パイプ（５）は複数設
けられている。（１３は乾燥空気を現像室αＢ内部に送
り込む給り装置、ａ＜は給気パイプ、０９は給気口であ
る。αＱは給気装置ｑ３より姶包バイブｑ句を通って現
像室０１）に入った気体の流わの向きを変化させるため
にカバー（２）に収り付けられた整流板である。また、
０７）は排出パイプ（５１に取り付けられた排出９置で
ある。Ｑａ）は現像室ＯＤ内の気体の流ね（流体層）を
示［、ている。
る。図中で、（Ｉ＋−１，１ａは第３図に示した従来の
現像装置と同じである。（４ａ）は排気効果をよくする
ために廃液受皿（１１の底部に設けられ之リング状の四
部である。排出口（４）及び排出パイプ（５）は複数設
けられている。（１３は乾燥空気を現像室αＢ内部に送
り込む給り装置、ａ＜は給気パイプ、０９は給気口であ
る。αＱは給気装置ｑ３より姶包バイブｑ句を通って現
像室０１）に入った気体の流わの向きを変化させるため
にカバー（２）に収り付けられた整流板である。また、
０７）は排出パイプ（５１に取り付けられた排出９置で
ある。Ｑａ）は現像室ＯＤ内の気体の流ね（流体層）を
示［、ている。
次に上記実施例の雇１作について第１図、第２図を用い
て説明する。ここで、第２南は現像室θ９内へ給気及び
そわから排気される乾燥空気の流量を縦動に、現像工程
の時間を横軸にとって示した図である。
て説明する。ここで、第２南は現像室θ９内へ給気及び
そわから排気される乾燥空気の流量を縦動に、現像工程
の時間を横軸にとって示した図である。
第１図に示したように給気装置α］から送り出された気
体は給気パイプ圓を通り給気口０９から現像室０１Ｊ内
に入る。その後、気体は整流板ｕＧに当り容器ａｚ内壁
に沿って第１図矢印方向に流ｆ′１７流体層０８１が形
成される。そして廃液受皿ｆ１１の凹部（１ａ）に達し
排プロ（４）より排気パイプ（５）を通って排便される
。試料（９）の回転により半径方向に飛び散った現像液
及び現像後序液は飛び敗った直後に上記流体１ｍ ａ８
）により、軸方向に方向が変えられる。また、流体Ｆ％
負沙を通過して容器＠内壁に当り、はね返った液も同様
に方向が変えられ試料（９１までもどることはなく、容
器＠から試料（９１へのはね返りを防ぐことができる。
体は給気パイプ圓を通り給気口０９から現像室０１Ｊ内
に入る。その後、気体は整流板ｕＧに当り容器ａｚ内壁
に沿って第１図矢印方向に流ｆ′１７流体層０８１が形
成される。そして廃液受皿ｆ１１の凹部（１ａ）に達し
排プロ（４）より排気パイプ（５）を通って排便される
。試料（９）の回転により半径方向に飛び散った現像液
及び現像後序液は飛び敗った直後に上記流体１ｍ ａ８
）により、軸方向に方向が変えられる。また、流体Ｆ％
負沙を通過して容器＠内壁に当り、はね返った液も同様
に方向が変えられ試料（９１までもどることはなく、容
器＠から試料（９１へのはね返りを防ぐことができる。
また、リング状の凹部（ｌａ） 、複数の排出口（４）
、排ヴバイプ（５１，排便装置（Ｉηの働きにより廃液
受皿（１１に溜った廃液も速やかに排出され、現像室ａ
ｔｔ内の現、１雰囲気も最適な状態に保たねる。、また
、現像室０１）に送り込ま拘る給気量及び排りされる排
気量の１用例により、第２図に示したように、試料（９
１０セット時１敗り出し時における排出１を第２図破線
のようにし、実線で示す吸気量より少すくす乙ことによ
り現像室０υの内圧が外圧に比べ高くなり、アクセスド
ア１０１からの塵芥等の與物の侵入を防ぐことができる
と共に現像中、内壁に付着した現像液や現像後廃液の基
板への付着を防ぐことが可能である。
、排ヴバイプ（５１，排便装置（Ｉηの働きにより廃液
受皿（１１に溜った廃液も速やかに排出され、現像室ａ
ｔｔ内の現、１雰囲気も最適な状態に保たねる。、また
、現像室０１）に送り込ま拘る給気量及び排りされる排
気量の１用例により、第２図に示したように、試料（９
１０セット時１敗り出し時における排出１を第２図破線
のようにし、実線で示す吸気量より少すくす乙ことによ
り現像室０υの内圧が外圧に比べ高くなり、アクセスド
ア１０１からの塵芥等の與物の侵入を防ぐことができる
と共に現像中、内壁に付着した現像液や現像後廃液の基
板への付着を防ぐことが可能である。
な督、現ｒ９室（ＩＩ）内の流体の制御に整流板を用い
る代りに給気口の形状、吹き出し方等を変えることによ
り現像室０１）内壁に沿って流体ｆ−流すようＫしてイ
）同様の効果が得らねる。
る代りに給気口の形状、吹き出し方等を変えることによ
り現像室０１）内壁に沿って流体ｆ−流すようＫしてイ
）同様の効果が得らねる。
試料は半導体装置？ｉ背用マスクでなく半導体装置Ｉｊ
ｌＪ侍ｊＰウェハでも同様の効果がある。
ｌＪ侍ｊＰウェハでも同様の効果がある。
送り込む流体は乾燥空気でなぐても窒ｆ等の他の、′〃
体でもよい。
体でもよい。
以上のようにこの発明によね、ば、容器ｑ２の内周部に
流れる流体１司を形成することにより現像液及び現像後
廃液の試料（９）へのはね返りを防ぐことかで六、現像
時の欠陥発生、現像後がなくなるとともに１が像度が向
上し現像状態が安定する等の微細パターンの現像がでふ
る効果がある。
流れる流体１司を形成することにより現像液及び現像後
廃液の試料（９）へのはね返りを防ぐことかで六、現像
時の欠陥発生、現像後がなくなるとともに１が像度が向
上し現像状態が安定する等の微細パターンの現像がでふ
る効果がある。
また、高７１１１り度の微細パターンが精度よく１ヒ戚
できるため不良率の向上、コストダウン、作成工期が短
縮できる効果がある。
できるため不良率の向上、コストダウン、作成工期が短
縮できる効果がある。
第１図はこの発明の一英症例による現像装置を示す断面
図、第２図はこの発明の一実柿例Ｖζおける現像室０１
）での給気量、排気着を示す図であり・クリ３図（〈従
来の現像装置をｉ■ｆす断面図でｒＤ＋る。 （１１は廃液受皿、（２）はカバー、（３）は噴射ツノ
′ル、（６）は駆動モーター、（８）はホルダー、（９
１は試料、＠は容器、ｑｌは紛＋＜装置、αｆ３は整流
板、α力は排出装置、０８）は流体層。 なお、図中、同−符壮は同一、又は相当部分を示す。
図、第２図はこの発明の一実柿例Ｖζおける現像室０１
）での給気量、排気着を示す図であり・クリ３図（〈従
来の現像装置をｉ■ｆす断面図でｒＤ＋る。 （１１は廃液受皿、（２）はカバー、（３）は噴射ツノ
′ル、（６）は駆動モーター、（８）はホルダー、（９
１は試料、＠は容器、ｑｌは紛＋＜装置、αｆ３は整流
板、α力は排出装置、０８）は流体層。 なお、図中、同−符壮は同一、又は相当部分を示す。
Claims (4)
- （１）現像室を形成する容器、この容器内に設けられ試
料を保持するホルダー、このホルダーを回転枢動するモ
ーター、上記試料に向けて現像液を噴射するノズルを備
えた現像装置において、上記試料の回転により上記現像
液及び現像後廃液が飛散する上記容器の内周部に沿つて
流体の流れを起こさせる流体層形成手段を設けたことを
特徴とする現像装置。 - （２）流体層形成手段が流体を送り出す送出装置と、上
記流体を現像室に導く送出パイプと、現像室内に送り込
まれた流体を容器内周に沿つて軸方向に流すための整流
板と、上記容器の底部から流体を排出する手段とから構
成されたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
現像装置。 - （３）現像室内に送り込まれる流体の流量又は現像室内
から排出される流体の流量を制御することにより試料の
セット又は取り出し時に現像室内を大気圧より高くする
ようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第１項また
は第２項記載の現像装置。 - （４）流体が乾燥空気であることを特徴とする特許請求
の範囲第１項〜第３項の何れかに記載の現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23571885A JPS6294931A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23571885A JPS6294931A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 現像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6294931A true JPS6294931A (ja) | 1987-05-01 |
Family
ID=16990199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23571885A Pending JPS6294931A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6294931A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS645437U (ja) * | 1987-06-26 | 1989-01-12 |
-
1985
- 1985-10-21 JP JP23571885A patent/JPS6294931A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS645437U (ja) * | 1987-06-26 | 1989-01-12 |
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