JPS6280324U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6280324U JPS6280324U JP17241185U JP17241185U JPS6280324U JP S6280324 U JPS6280324 U JP S6280324U JP 17241185 U JP17241185 U JP 17241185U JP 17241185 U JP17241185 U JP 17241185U JP S6280324 U JPS6280324 U JP S6280324U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cluster
- ion beam
- substrate
- axis
- cluster ion
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
Description
第1図は、この考案の一実施例に係る薄膜形成
装置を示す概略図である。第2図および第3図は
、それぞれ、第1図の装置における走査電圧波形
の例を示す図である。第4図は、第1図の装置に
よる基板上の膜厚分布の一例を示す概略図である
。第5図および第6図は、実施例に係る装置のよ
り具体的仕様を説明するための概略図である。第
7図は、従来の装置による基板上の膜厚分布の一
例を示す概略図である。 2……真空容器、4……基板、6……クラスタ
ビーム源、18……クラスタビーム、18i……
クラスタイオンビーム、18n……中性クラスタ
ビーム、20,24……走査電極、22,28…
…走査電源、26……オフセツト電源。
装置を示す概略図である。第2図および第3図は
、それぞれ、第1図の装置における走査電圧波形
の例を示す図である。第4図は、第1図の装置に
よる基板上の膜厚分布の一例を示す概略図である
。第5図および第6図は、実施例に係る装置のよ
り具体的仕様を説明するための概略図である。第
7図は、従来の装置による基板上の膜厚分布の一
例を示す概略図である。 2……真空容器、4……基板、6……クラスタ
ビーム源、18……クラスタビーム、18i……
クラスタイオンビーム、18n……中性クラスタ
ビーム、20,24……走査電極、22,28…
…走査電源、26……オフセツト電源。
Claims (1)
- 真空容器内に、基板と、クラスタイオンビーム
を含むクラスタビームを射出するクラスタビーム
源とを設け、更にクラスタビーム源からのクラス
タビームの経路上に、静電気力によつてクラスタ
イオンビームをX軸およびY軸方向に走査すると
共に当該クラスタイオンビームを偏向させてそれ
のみを基板に導く静電走査手段を設けて成ること
を特徴とする薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17241185U JPS6280324U (ja) | 1985-11-09 | 1985-11-09 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17241185U JPS6280324U (ja) | 1985-11-09 | 1985-11-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6280324U true JPS6280324U (ja) | 1987-05-22 |
Family
ID=31108920
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17241185U Pending JPS6280324U (ja) | 1985-11-09 | 1985-11-09 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6280324U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0286824A (ja) * | 1988-06-21 | 1990-03-27 | Anelva Corp | 真空蒸着装置 |
-
1985
- 1985-11-09 JP JP17241185U patent/JPS6280324U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0286824A (ja) * | 1988-06-21 | 1990-03-27 | Anelva Corp | 真空蒸着装置 |