JPS6275948A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体の製造方法Info
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- JPS6275948A JPS6275948A JP21374885A JP21374885A JPS6275948A JP S6275948 A JPS6275948 A JP S6275948A JP 21374885 A JP21374885 A JP 21374885A JP 21374885 A JP21374885 A JP 21374885A JP S6275948 A JPS6275948 A JP S6275948A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本光明は、究、特にレー+f光を用いて情報を記録再生
する光記録媒体の製造方法に関4る。
する光記録媒体の製造方法に関4る。
(従来技術)
光(特にその指向性、東光性等から主にレーナ光)を用
いて情報を記録再生する記録媒体は、高密度の光ビーム
のエネルギを吸収し、照射部分が局部的に加熱され、融
解、凝集、蒸発、竹葉等の物理的変化により、非照射部
9ンど光学的な差異を生じることを利用して情報を記録
する。
いて情報を記録再生する記録媒体は、高密度の光ビーム
のエネルギを吸収し、照射部分が局部的に加熱され、融
解、凝集、蒸発、竹葉等の物理的変化により、非照射部
9ンど光学的な差異を生じることを利用して情報を記録
する。
従来、1−述した光記録媒体に使用される光記録材料に
は、PI’)、 B i 、 −J’e、 Se、−1
−I Wの無機金属やその合金、又は配録光波長に吸収
ピークを持つ有機色素等が多く提案され、そのいごつか
は実用に供されている。こう1ノた材料よ【]光記録層
を形成するには、金属8判では蒸着、スパッタリング等
の真空ノ[1セス、有機色素の中でシアニン色素、メロ
シアニン色素等の溶媒溶解性のI!3索の場合にはディ
ッピング、ドクターブレード法、スピナー法等のΩ式塗
布、フタロシアニン系色糸。
は、PI’)、 B i 、 −J’e、 Se、−1
−I Wの無機金属やその合金、又は配録光波長に吸収
ピークを持つ有機色素等が多く提案され、そのいごつか
は実用に供されている。こう1ノた材料よ【]光記録層
を形成するには、金属8判では蒸着、スパッタリング等
の真空ノ[1セス、有機色素の中でシアニン色素、メロ
シアニン色素等の溶媒溶解性のI!3索の場合にはディ
ッピング、ドクターブレード法、スピナー法等のΩ式塗
布、フタロシアニン系色糸。
ナフトキノン系色素、アン1−ラキノン系色素等の離溶
解性の色素の場合には前述した金属と同様の真空プロセ
スを用いてガラス、ポリアクリル樹脂。
解性の色素の場合には前述した金属と同様の真空プロセ
スを用いてガラス、ポリアクリル樹脂。
ポリカーボネ−1・樹脂等の基体トに形成する方法が採
用されている。
用されている。
しかしながら、上記従来方法は、いずれの場合もバッチ
タイプで媒体1牧ずつ記録層を形成しなければならない
ため、聞産竹に欠け、]ス1〜の白でも割高になるとい
う問題があった。また、個々のバラツキも大きく、品質
の安定化が回軸r・歩留リb (Itい等の間趙があっ
た。
タイプで媒体1牧ずつ記録層を形成しなければならない
ため、聞産竹に欠け、]ス1〜の白でも割高になるとい
う問題があった。また、個々のバラツキも大きく、品質
の安定化が回軸r・歩留リb (Itい等の間趙があっ
た。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、媒14基
体を高分子長尺フィルムとし、その上に連続蒸着法■は
連続塗布法に」;り該フィルムを巻取りながら連続的に
光記録間を形成することによって、量産11の向ト、品
質の安定化、コストの低減化等を達成し)ご光記録媒体
の製造方法を提供しようとするものである。
体を高分子長尺フィルムとし、その上に連続蒸着法■は
連続塗布法に」;り該フィルムを巻取りながら連続的に
光記録間を形成することによって、量産11の向ト、品
質の安定化、コストの低減化等を達成し)ご光記録媒体
の製造方法を提供しようとするものである。
c間艙点を解決リ−るための手段及び作用〕本発明IJ
、合成高分子からなる可撓性の長尺フィルム基体十t4
−1連続蒸着法又は連続塗布法によ1)有機色素から<
rる光記録間を形成することを特徴どするものである。
、合成高分子からなる可撓性の長尺フィルム基体十t4
−1連続蒸着法又は連続塗布法によ1)有機色素から<
rる光記録間を形成することを特徴どするものである。
以下、連続蒸着を採用した本発明の¥J造方法について
第1図に示す基本構成図を参照して詳細に説明する。
第1図に示す基本構成図を参照して詳細に説明する。
まず、真空槽1内において、光記録媒体の基板どなる高
分子フィルム2を原反[1−ル3から冷却キャン4を介
1)で巻取ロール5へ巻取る。冷却キトン4の小部に股
IJだ蒸着ボー1−6中に置かれた色素粉末7を蒸着ボ
ート6の加熱に。l:り熱弁ざt!、シャッタ8により
蒸着暢を制御しく前記−ノrルム2上に記録層としての
vJ膜を形成づる。
分子フィルム2を原反[1−ル3から冷却キャン4を介
1)で巻取ロール5へ巻取る。冷却キトン4の小部に股
IJだ蒸着ボー1−6中に置かれた色素粉末7を蒸着ボ
ート6の加熱に。l:り熱弁ざt!、シャッタ8により
蒸着暢を制御しく前記−ノrルム2上に記録層としての
vJ膜を形成づる。
上記高分子フィルムとして1ま、例えばポリ丁ヂレンテ
レフタレ−1・(PET) 、ボ11]−チレン、ポリ
アミド、ポリイミド等の比較的耐熱性の高い熱収縮が少
なく、経時寸払安定竹の優れた高分子フィルムが適して
いる。かかる−フィルl\の厚さ(J151tm〜0.
5#の範囲で巻取か口I能であるか、好ましくは110
l1〜1100fIの範囲が取111Aイが容易で作業
上の安定性も良好である。また、フィルム表面の相さ精
度は配録さねる信号ピッ1− (¥;約1μm1記録層
の膜厚: 0.01〜1.Ottmと比較して平均粗さ
Ra≦C)、(’) 2 ttm、繰入表面粗さRm≦
0.111mの範囲にすることが好ましい。なお、予め
所定形状のガイ1ニドラックをzQけたフィルムを使用
してもJ:い。また、8弱に応じて下地処理、下fil
1層形成等を施してもJ、く、史に真空槽1内での蒸着
面においてイAンホンバード等の表面処理を施してもよ
い。
レフタレ−1・(PET) 、ボ11]−チレン、ポリ
アミド、ポリイミド等の比較的耐熱性の高い熱収縮が少
なく、経時寸払安定竹の優れた高分子フィルムが適して
いる。かかる−フィルl\の厚さ(J151tm〜0.
5#の範囲で巻取か口I能であるか、好ましくは110
l1〜1100fIの範囲が取111Aイが容易で作業
上の安定性も良好である。また、フィルム表面の相さ精
度は配録さねる信号ピッ1− (¥;約1μm1記録層
の膜厚: 0.01〜1.Ottmと比較して平均粗さ
Ra≦C)、(’) 2 ttm、繰入表面粗さRm≦
0.111mの範囲にすることが好ましい。なお、予め
所定形状のガイ1ニドラックをzQけたフィルムを使用
してもJ:い。また、8弱に応じて下地処理、下fil
1層形成等を施してもJ、く、史に真空槽1内での蒸着
面においてイAンホンバード等の表面処理を施してもよ
い。
ンηu1キャン(よ、通常、水冷型を用いた方がフィル
ムの冷fJl効率が高く、フィルムの熱的損傷を防11
シ、更にフィルlい表面に被着した蒸着色素分子が余分
な熱Tネルキにより移動して凝集を起こし、表面平滑性
が失われるのを防止できるために有効である。冷却キャ
ンの表面温度は、10〜25℃が好ましい。
ムの冷fJl効率が高く、フィルムの熱的損傷を防11
シ、更にフィルlい表面に被着した蒸着色素分子が余分
な熱Tネルキにより移動して凝集を起こし、表面平滑性
が失われるのを防止できるために有効である。冷却キャ
ンの表面温度は、10〜25℃が好ましい。
フィルムの送り11度は、蒸着する色素にるよるが、0
、5=−10ni 、zminが適当である。マタ、
フィルムの熱損傷を避け、色素の凝集を防ぐ目的から速
い速度で送りながら、数回に分けて所定の膜)すまで積
層してもよい。
、5=−10ni 、zminが適当である。マタ、
フィルムの熱損傷を避け、色素の凝集を防ぐ目的から速
い速度で送りながら、数回に分けて所定の膜)すまで積
層してもよい。
蒸着ボートの加熱は、通常の抵抗加熱で徐々に調度制御
するこが好ましく、電子ビーム等による急速加熱は有機
色素の分解を18 <ので好ましくない。また、有機色
素分子の酸化分解を防ぐために、必要に応じたN2.1
−1e等の不活性ガスを微量真空槽内に導入して蒸着4
ることが好ましい。
するこが好ましく、電子ビーム等による急速加熱は有機
色素の分解を18 <ので好ましくない。また、有機色
素分子の酸化分解を防ぐために、必要に応じたN2.1
−1e等の不活性ガスを微量真空槽内に導入して蒸着4
ることが好ましい。
蒸着可能4r有機色素としては、例えばアントラキノン
系色素、ナフトキノン系色素、金属フタロシアニン系色
素、金展ナフタ「]シ)ノニン系色素等を挙げることが
できる。特に好ましいf1′!索について例示すると、
光吸収性と光反射1([の両特悄りりる色素;Tiナフ
タロシアニン、AQナフタ[1シアニン、Znナフタロ
シアニン、ACフタロシアニン等、光吸収性を有する色
素;rR84r)(日本火薬社製商品名)等、光反射性
を有する色素:C1−2.3ナフタロシアニン、Snフ
タ[1シアニン、N+フタロシアニン等がある。
系色素、ナフトキノン系色素、金属フタロシアニン系色
素、金展ナフタ「]シ)ノニン系色素等を挙げることが
できる。特に好ましいf1′!索について例示すると、
光吸収性と光反射1([の両特悄りりる色素;Tiナフ
タロシアニン、AQナフタ[1シアニン、Znナフタロ
シアニン、ACフタロシアニン等、光吸収性を有する色
素;rR84r)(日本火薬社製商品名)等、光反射性
を有する色素:C1−2.3ナフタロシアニン、Snフ
タ[1シアニン、N+フタロシアニン等がある。
次に、連続塗布を採用した本光明の製造方法について第
2図に示す基本構成図を参照(〕て詳細に説明する。塗
布手段どしては、スリットリバースコートやビードリバ
ースコ−1・、ニップスリットリバースコート、更に高
速グラビアオフセット:J−ト等が適しているが、ここ
ではスリットリバースコート法を例にして説明する。
2図に示す基本構成図を参照(〕て詳細に説明する。塗
布手段どしては、スリットリバースコートやビードリバ
ースコ−1・、ニップスリットリバースコート、更に高
速グラビアオフセット:J−ト等が適しているが、ここ
ではスリットリバースコート法を例にして説明する。
まず、コーティングロール11に巻付(Jられで走行す
る高分子フィルム12表面に、該ロール11に隣接した
ノズル13から送液された色素溶液14をコーティング
する。つづいて、An記]−テrング【1−ル11と反
対向きに高速回転するメクリング〔−1−ル15によっ
て余剰のコーテイング液を除去しC光記録層どしての所
定膜厚の薄膜を形成づる。
る高分子フィルム12表面に、該ロール11に隣接した
ノズル13から送液された色素溶液14をコーティング
する。つづいて、An記]−テrング【1−ル11と反
対向きに高速回転するメクリング〔−1−ル15によっ
て余剰のコーテイング液を除去しC光記録層どしての所
定膜厚の薄膜を形成づる。
l記′4膜のll!iij撃(J、=]−ティングロー
ル11の回転速度、つまり−ノイルム12の走行速度、
ノズル13とフィルム12の間隔、メタリングロール′
15の相対回転速度及び該メタリングロール15どフィ
ルム12の間隔を選定することによって所定の膜厚に制
御#11可能である。本発明者らの検討の結束、1Jf
f和i*Ii(: 5 = 150 m/min 、
/ズルーフィルム間隔;1(1−1(10zzm、メタ
リングロール−フィルム間隔;2〜3 (17ノ+11
、メタリングロールメの表面速度: 3−30 m
、/′1dinであれは゛、0.01へA、Ottmの
膜卸の薄膜を制御性よく形成できる。
ル11の回転速度、つまり−ノイルム12の走行速度、
ノズル13とフィルム12の間隔、メタリングロール′
15の相対回転速度及び該メタリングロール15どフィ
ルム12の間隔を選定することによって所定の膜厚に制
御#11可能である。本発明者らの検討の結束、1Jf
f和i*Ii(: 5 = 150 m/min 、
/ズルーフィルム間隔;1(1−1(10zzm、メタ
リングロール−フィルム間隔;2〜3 (17ノ+11
、メタリングロールメの表面速度: 3−30 m
、/′1dinであれは゛、0.01へA、Ottmの
膜卸の薄膜を制御性よく形成できる。
−1−配光記録層は、有機色素単独Cも、更に膜の密着
性の改善、記録感度の制御、耐久性の改善等を目的とし
て高分子バインダを添加してもよい。
性の改善、記録感度の制御、耐久性の改善等を目的とし
て高分子バインダを添加してもよい。
かかる有機吊索は、有機溶剤に刑し適度の溶解性を持つ
ものであればいずれも使用可能であり、例えばシアニン
系色素、メロシアニン系色素、フットキノン系色素、ア
ントラキノン系色素、1〜リフ工ニルメタン系色素、ス
クアリリウム系色素、フタ日シアニン系色累、アミン系
色素、金属錫体系色素等を挙げることができる。特に好
ましい色素について例示すると、光吸収性と光反射性の
両特性を有する色素;シアニン系色素であるlR820
(日本火薬社製商品名)、NK−2014、NK−12
5、NK−5(いずれも日本感光色素研究所社製商品名
)、1〜リフ工ニルメタン系色素であるlR830(日
本火薬?4製商品名)等、光吸収性を有する色素;アミ
ン系色素であるT RG002、IRGOO3(いずれ
も日本火薬社製商品名)、アントラキノン系色素である
IR−800(日本火薬社製商品名)、金属錯体系的索
であるPA1006(三井東圧ファインン1商品品名)
等、光反射性を有する色素;シアニン系色素であるNK
−2670、NK−687、NK−1778(いずれも
日本感光色素研究所社製商品名)等がある。
ものであればいずれも使用可能であり、例えばシアニン
系色素、メロシアニン系色素、フットキノン系色素、ア
ントラキノン系色素、1〜リフ工ニルメタン系色素、ス
クアリリウム系色素、フタ日シアニン系色累、アミン系
色素、金属錫体系色素等を挙げることができる。特に好
ましい色素について例示すると、光吸収性と光反射性の
両特性を有する色素;シアニン系色素であるlR820
(日本火薬社製商品名)、NK−2014、NK−12
5、NK−5(いずれも日本感光色素研究所社製商品名
)、1〜リフ工ニルメタン系色素であるlR830(日
本火薬?4製商品名)等、光吸収性を有する色素;アミ
ン系色素であるT RG002、IRGOO3(いずれ
も日本火薬社製商品名)、アントラキノン系色素である
IR−800(日本火薬社製商品名)、金属錯体系的索
であるPA1006(三井東圧ファインン1商品品名)
等、光反射性を有する色素;シアニン系色素であるNK
−2670、NK−687、NK−1778(いずれも
日本感光色素研究所社製商品名)等がある。
また、高分子バインダとしては、例えばポリ塩化ビニル
、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体などのビニル系樹脂を始め、アクリル樹脂
、ポリエステル系樹脂、ボリウ1ノタン樹脂、ポリカー
ボネート又はニトロセルロースや酢酸セルロースなどの
セルロース系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレンなど
のAレフイン系樹脂1、ポリブチラール樹脂等の熱可塑
性樹脂、並びに■ボキシ樹脂、アクリルポリオール系ウ
レタン樹脂、不飽和ポリエステル等の熱硬化性樹脂を挙
げることができる。
、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体などのビニル系樹脂を始め、アクリル樹脂
、ポリエステル系樹脂、ボリウ1ノタン樹脂、ポリカー
ボネート又はニトロセルロースや酢酸セルロースなどの
セルロース系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレンなど
のAレフイン系樹脂1、ポリブチラール樹脂等の熱可塑
性樹脂、並びに■ボキシ樹脂、アクリルポリオール系ウ
レタン樹脂、不飽和ポリエステル等の熱硬化性樹脂を挙
げることができる。
更に、光記録−を形成する塗膜の物性改良のために、各
種界面活性剤や分散助剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤
、酸化防止剤等の耐久性改質添加剤を加えてもよい。
種界面活性剤や分散助剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤
、酸化防止剤等の耐久性改質添加剤を加えてもよい。
上記光記録層の形成に使用される塗布液の調製について
は、公知の所定方法で色素又は必要に応じて添加される
高分子バインダ、添加剤等を溶解させた後、ミクロボア
フィルタにより精製濾過し一〇− て、固形分やゴミ等の未溶解物を除去することが−望ま
しい。
は、公知の所定方法で色素又は必要に応じて添加される
高分子バインダ、添加剤等を溶解させた後、ミクロボア
フィルタにより精製濾過し一〇− て、固形分やゴミ等の未溶解物を除去することが−望ま
しい。
上記塗布液に用いられる溶剤と1ノでは、例えば酢酸エ
チル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、メチルエチルエ
ーテル、メチルイソブチルケトン、アセトン等のケトン
系溶剤、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール等のアルコール系溶剤、メチルエチルエーテル、ジ
エチルエーテル等のエーテル系溶剤、トルエン、キシレ
ン等の芳香族系溶剤、ジクロロメタン等のハロゲン化炭
素系溶剤、テ1−ラヒドロフラン等のフラン系溶剤等の
有機溶剤の中和もしくは混合溶剤を使用できる。
チル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、メチルエチルエ
ーテル、メチルイソブチルケトン、アセトン等のケトン
系溶剤、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール等のアルコール系溶剤、メチルエチルエーテル、ジ
エチルエーテル等のエーテル系溶剤、トルエン、キシレ
ン等の芳香族系溶剤、ジクロロメタン等のハロゲン化炭
素系溶剤、テ1−ラヒドロフラン等のフラン系溶剤等の
有機溶剤の中和もしくは混合溶剤を使用できる。
以上説明した連続蒸着法又は連lIt塗布払を用いて長
尺フィルム基体上に光記録層を形成することによって、
従来の個々の媒体基板上に蒸着又はスピンスーコート、
ディップコート等のバッチ方式による光記録層の形成に
比べて飛躍的にイの生産性を向上でき、その結果、−産
性、コスト性等で極″′l益1ある・ま1・−トt″1
程によ0個 。
尺フィルム基体上に光記録層を形成することによって、
従来の個々の媒体基板上に蒸着又はスピンスーコート、
ディップコート等のバッチ方式による光記録層の形成に
比べて飛躍的にイの生産性を向上でき、その結果、−産
性、コスト性等で極″′l益1ある・ま1・−トt″1
程によ0個 。
々の媒体間及びロツ]へ間の特性のバラツキを低減させ
ることが可能となり、品質面においても常に安定した光
記録媒体を得ることができる。
ることが可能となり、品質面においても常に安定した光
記録媒体を得ることができる。
更に、上記本発明方法で得られた光記録媒体は従来法に
よるものと比較しても、その特性上全く遜色なく、記録
再生方式においても基板側からの記録、或いはオーバー
コーテイング、フィルムラミネー[・化、保護基板設置
等の手段を施した記録層側からの配録も可能であり、選
択する素材及び構成により反射光再生、透過光再生等の
システムに合せた方式を任意に選択できる。
よるものと比較しても、その特性上全く遜色なく、記録
再生方式においても基板側からの記録、或いはオーバー
コーテイング、フィルムラミネー[・化、保護基板設置
等の手段を施した記録層側からの配録も可能であり、選
択する素材及び構成により反射光再生、透過光再生等の
システムに合せた方式を任意に選択できる。
更にまた、第3図(a)に示すように基板21−1:に
光吸収層22と光反射層23を順次積層した構成の光記
録媒体、又は同図(b)に示すように基板21にVに光
反射層23及び光吸収層22を順次積層した構成の光記
録媒体を製造するに際し、本発明では光吸収性を有する
色素と光反射性を有づる色素とを用いてそれら層の相互
形成を独立して、異なったプロセスで形成できるため、
互いに層物性を損うことなく積層形成でき、それら光吸
収性ど光反射性の利点を生かした光記録層を形成できる
。従って、従来の媒体よりも吸収性枝び反射性に富み、
その結果高感度、高S/N比の優れた光記録媒体を容易
に得ることができる。かかる光吸収性の色素や光反射性
の色素は、既述した色素の説明で例示したものを使用す
ればよい。
光吸収層22と光反射層23を順次積層した構成の光記
録媒体、又は同図(b)に示すように基板21にVに光
反射層23及び光吸収層22を順次積層した構成の光記
録媒体を製造するに際し、本発明では光吸収性を有する
色素と光反射性を有づる色素とを用いてそれら層の相互
形成を独立して、異なったプロセスで形成できるため、
互いに層物性を損うことなく積層形成でき、それら光吸
収性ど光反射性の利点を生かした光記録層を形成できる
。従って、従来の媒体よりも吸収性枝び反射性に富み、
その結果高感度、高S/N比の優れた光記録媒体を容易
に得ることができる。かかる光吸収性の色素や光反射性
の色素は、既述した色素の説明で例示したものを使用す
ればよい。
このように長尺フィルム上連続蒸着法又は連続塗布法に
より光記録層を形成した後において、該フィルムを所定
の媒体形状に裁断、打I友き等を施すことにより、カー
ド状媒体、テープ状媒体等の任意の形状を有する媒体を
容易に製造できる。
より光記録層を形成した後において、該フィルムを所定
の媒体形状に裁断、打I友き等を施すことにより、カー
ド状媒体、テープ状媒体等の任意の形状を有する媒体を
容易に製造できる。
以下、本発明の実施例を詳細に説明する実施例1
まず、厚さ100μmのP E T長尺フィルム上に連
続蒸着法によりフィルム走行速度2m/mln、真空度
1×10うtorr、蒸着源濃度350℃の条件にて下
記表に示す構造式(■)に示すチタンナフタロシアニン
を蒸暑して膜厚40nmの光記録層を形成した。
続蒸着法によりフィルム走行速度2m/mln、真空度
1×10うtorr、蒸着源濃度350℃の条件にて下
記表に示す構造式(■)に示すチタンナフタロシアニン
を蒸暑して膜厚40nmの光記録層を形成した。
次いで、上記長尺フィルムの光記録層トに厚さ1511
mのPETフィルムをラミネート処理した後、幅15I
RIR1長さ70#Ill+のリボン状に打抜き、更に
プラスチックカード基板上に貼着して光カードを製造し
た。
mのPETフィルムをラミネート処理した後、幅15I
RIR1長さ70#Ill+のリボン状に打抜き、更に
プラスチックカード基板上に貼着して光カードを製造し
た。
しかして、得られた光カードを走行速度2m/SeCで
走行させながら、波長830nmの半導体レーザを用い
て照射面出力5.2W、ビームスボッ1−径2.0μm
1500KHzの矩形波信号にて記録を行なった。その
後、0.3mWの再生出力で信号再生したところ、58
dBのC/Nが得られ、良好な再生特性を示した。
走行させながら、波長830nmの半導体レーザを用い
て照射面出力5.2W、ビームスボッ1−径2.0μm
1500KHzの矩形波信号にて記録を行なった。その
後、0.3mWの再生出力で信号再生したところ、58
dBのC/Nが得られ、良好な再生特性を示した。
実施例2
まず、厚さ15μmのPET長尺長尺フィルムスリット
リバースコート法(塗布速度;20m/1n )により
下記表に示す構造式(IT)のシアニン色素(日本感光
色素研究所社製商品8二NK−2014)の1%塩化メ
チレン溶液を塗布し、乾燥して膜厚50nmの光記録層
を形成した。
リバースコート法(塗布速度;20m/1n )により
下記表に示す構造式(IT)のシアニン色素(日本感光
色素研究所社製商品8二NK−2014)の1%塩化メ
チレン溶液を塗布し、乾燥して膜厚50nmの光記録層
を形成した。
つづいて、PET艮尺フィルムの光記録層上に基板とし
てのPETフィルムと同厚さのPETフィルムをラミネ
ート処理した後、幅10mに裁断しテープ状媒体を製造
した。
てのPETフィルムと同厚さのPETフィルムをラミネ
ート処理した後、幅10mに裁断しテープ状媒体を製造
した。
しかして、得られたテープ状媒体をカセッ1〜ハーフ内
に装填して走行速度0.75m/secで走行させなが
ら、波長830nmの半導体レーザを用いて照射面出ノ
)3.OW、じ−ムスポット径1.0μm、500 K
Hzの信号で記録した。その後、テープ状媒体を巻ぎ
戻し、0.3mWの再生出力で信号再生したところ、C
/N60dBと良好な再生信号が得られた。
に装填して走行速度0.75m/secで走行させなが
ら、波長830nmの半導体レーザを用いて照射面出ノ
)3.OW、じ−ムスポット径1.0μm、500 K
Hzの信号で記録した。その後、テープ状媒体を巻ぎ
戻し、0.3mWの再生出力で信号再生したところ、C
/N60dBと良好な再生信号が得られた。
実施例3
まず、厚さ1100I1のポリイミド製長尺フィルム(
幅200・M1長さ500m)上にスリットリバースコ
ート法により走行速度: 30m/1nで下記表に示す
構造式(III)の色素(日本火薬社製商品名: rR
G−002)の1.5%塩化メチレン溶液を塗布し、乾
燥して膜厚50nmの光吸収層(同厚さでの波長830
nmに対する吸収率:18%)を形成した。つづいて、
真空槽内にて連続蒸着法によりフィルム走行速度2.5
m/u+in 。
幅200・M1長さ500m)上にスリットリバースコ
ート法により走行速度: 30m/1nで下記表に示す
構造式(III)の色素(日本火薬社製商品名: rR
G−002)の1.5%塩化メチレン溶液を塗布し、乾
燥して膜厚50nmの光吸収層(同厚さでの波長830
nmに対する吸収率:18%)を形成した。つづいて、
真空槽内にて連続蒸着法によりフィルム走行速度2.5
m/u+in 。
真空ff6X 1 (V 6torr、蒸着源濃度40
0℃の条件にて下記表に示す構造式(IV)に示すアル
ミニウムフタ[1シアニンを蒸着して膜厚3Qnmの光
反射層(同厚さでの波長830nmの光に対する反射率
;25%)を形成した。次いで、この長尺フィルムの光
反射層上に基板と同じポリイミドフィルムをラミネート
処理した後、直径200IIMAの円盤状に打抜き光デ
ィスクを製造した。
0℃の条件にて下記表に示す構造式(IV)に示すアル
ミニウムフタ[1シアニンを蒸着して膜厚3Qnmの光
反射層(同厚さでの波長830nmの光に対する反射率
;25%)を形成した。次いで、この長尺フィルムの光
反射層上に基板と同じポリイミドフィルムをラミネート
処理した後、直径200IIMAの円盤状に打抜き光デ
ィスクを製造した。
しかして、得られた光ディスクを回転数150Orpm
で回転させながら基板方向より波長830nmの半導体
レーザを用いて照射面出力3.5W。
で回転させながら基板方向より波長830nmの半導体
レーザを用いて照射面出力3.5W。
ビームスポット径1.0μm、4MHzの矩形波信号で
配録した。その後、0.3mWの再生出力で信号再生し
たところ、C/ N 59 JBと良好な再生信号が得
られた。
配録した。その後、0.3mWの再生出力で信号再生し
たところ、C/ N 59 JBと良好な再生信号が得
られた。
以上詳述した如く、本発明によれば長尺基体トに連続蒸
着法又は連続塗布法に光記録層も形成できるため、工程
の大幅な短縮、歩留りの向トを達成でき、媒体形状に左
右されず量産性、」スI・1/lに優れた高感度の光記
録媒体を製造し得る方法を提供できる。
着法又は連続塗布法に光記録層も形成できるため、工程
の大幅な短縮、歩留りの向トを達成でき、媒体形状に左
右されず量産性、」スI・1/lに優れた高感度の光記
録媒体を製造し得る方法を提供できる。
第1図及び第2図は夫々本発明の1造方法の基本構成を
示す概略図、第30(a)、(b)は本発明方法により
製造された光記録媒体の一例を示す断面図である。 1・・・真空槽、2.12・・・高分子フィルム、4・
・・冷却キャン、6・・・蒸着ボート、7・・・色素粉
末、8・・・シャッタ、11・・・コーティングロール
、13・・・ノズル、15・・・メタリングロール、2
1・・・基板、22・・・光吸収層、23・・・光反射
層。 出願人代理人 弁理士 坪井 淳 一17= 第1図 第2図 (a) 第 (b) 3 関
示す概略図、第30(a)、(b)は本発明方法により
製造された光記録媒体の一例を示す断面図である。 1・・・真空槽、2.12・・・高分子フィルム、4・
・・冷却キャン、6・・・蒸着ボート、7・・・色素粉
末、8・・・シャッタ、11・・・コーティングロール
、13・・・ノズル、15・・・メタリングロール、2
1・・・基板、22・・・光吸収層、23・・・光反射
層。 出願人代理人 弁理士 坪井 淳 一17= 第1図 第2図 (a) 第 (b) 3 関
Claims (1)
- 合成高分子からなる可撓付の長尺フィルム基体上に、連
続蒸着法又は連続塗布法により有機色素からなる光記録
層を形成することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21374885A JPS6275948A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 光記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21374885A JPS6275948A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 光記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6275948A true JPS6275948A (ja) | 1987-04-07 |
Family
ID=16644366
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21374885A Pending JPS6275948A (ja) | 1985-09-27 | 1985-09-27 | 光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6275948A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5594711A (en) * | 1993-11-26 | 1997-01-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording and reproducing apparatus using a plurality of light spots for recording and reproducing |
WO1998044497A1 (fr) * | 1997-03-31 | 1998-10-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Support d'enregistrement optique et son procede de fabrication |
-
1985
- 1985-09-27 JP JP21374885A patent/JPS6275948A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5594711A (en) * | 1993-11-26 | 1997-01-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording and reproducing apparatus using a plurality of light spots for recording and reproducing |
WO1998044497A1 (fr) * | 1997-03-31 | 1998-10-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Support d'enregistrement optique et son procede de fabrication |
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