JPH05258346A - 光学的記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 色素を溶剤に溶解して調製した記録層形成用
塗布液を窒素雰囲気または乾燥空気雰囲気で基板上に塗
布し乾燥して記録層を形成することを特徴とする光学的
記録媒体の製造方法であり、該方法により提供される光
学的記録媒体を開示する。 【効果】 本発明の製造方法によれば、結晶析出が発生
せず、ノイズの少ない、耐久性に優れた光学的記録媒体
を提供することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光学的記録媒体及びそ
の製造方法に関し、特に光ディスクまたは光カード技術
に用い得る記録層の形成方法及び保存安定性を向上させ
た光学的記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、社会の情報化が進み、多種多様の
情報を効率良く取り扱う手段として、光ディスク、光カ
ード、光テープ等の光学的に情報の記録または再生を行
う情報記録媒体及び情報の記録・再生装置が数多く提案
されている。前記情報記録媒体には、二値化された情報
が反射率の変化、ピット（穴）の有無のような表面形成
の変化に伴う反射光の強度の変化に交換して検出できる
ものがある。

【０００３】光学的反射率の変化に依る記録媒体として
は、記録層にレーザービームなどのエネルギービームを
スポット状に照射して記録層の一部を状態変化させて記
録する、いわゆるヒートモード記録材料が提案されてい
る。これらの記録材料は情報の書き込み後、現像処理な
どの必要が無く、「書いた後直読する」事のできる、い
わゆるＤＲＡＷ（ダイレクト リード アフター ライ
ト（direct read after write））媒体であって、高密
度記録が可能であり、追加書き込みも可能である。

【０００４】また、反射率の高い金属光沢性のある有機
系色素を使用し、塗布法により作製した記録層を有する
光学的情報記録媒体が、数多く提案されている。これら
有機色素は、吸収極大波長付近で高い反射率を有し、吸
収係数も大きいものが知られている。この用な有機系色
素を用いた媒体は、金属等の記録材料を用いた場合に比
べて高感度であるなど、記録媒体自体の特性において長
所を有する他に、真空系を用いずに記録層を塗布法によ
り簡単に形成することができるという製造上の大きな利
点をも有している。

【０００５】しかしながら、ポリメチン系、シアニン
系、アズレン系、フタロシアニン系などのうち、大多数
の色素は、一般的に溶解性が十分ではなく、溶解度限界
ぎりぎりで使用しているのが現状である。溶解性の比較
的悪い、結晶性の高い高純度の色素の場合は、塗布時に
結晶の析出が起こることがある。特に水溶性の極性溶媒
を用いた場合には、乾燥させる際に気化熱により冷却さ
れて、空気中の湿気を取り込んで（結露して）、色素の
結晶化が起こり易くなっている。また高温あるいは高温
高湿下での環境試験においても、塗布時にフィルターを
すり抜けた微小の結晶核が記録層の無定形被膜の中に存
在して結晶化を促進してしまうことが多かった。

【０００６】記録層が結晶化すると、結晶粒界が存在す
るために反射率ムラとなって現われ、ノイズが増加する
ので、記録媒体のＣ／Ｎ（キャリア／ノイズ）比、エラ
ーレート等の特性を損なう原因となっていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
の問題点に鑑みなされたものであって、記録層形成時の
結晶析出を防止し、保存安定性に優れた光学的記録媒体
及びその製造方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】即ち本発明は、レーザー
光により情報の記録または再生が可能な色素を含む記録
層が設けられた光学的記録媒体の製造方法において、該
色素を溶剤に溶解して調製した記録層形成用塗布液を窒
素雰囲気または乾燥空気雰囲気で基板上に塗布し乾燥し
て記録層を形成することを特徴とする光学的記録媒体の
製造方法であり、該方法により作製される光学的記録媒
体である。

【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。

【００１０】本発明において使用する基板は、従来の情
報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から
任意に選択することができる。基板の光学的特性、平面
性、加工性、取扱性、経時安定性及び製造コストなどの
点から、基板材料としてはガラスの他に、ポリカーボネ
ート樹脂、ポリアクリル系樹脂、非晶質ポリオレフィン
樹脂、及びエポキシ樹脂などのプラスチック材料をセル
キャスティング、射出成型、押出し成型などの一般的に
知られた方法によって製造されるものが使用される。こ
れらの基板上に更に紫外線硬化樹脂を用いてプレグルー
ブを形成しても構わない（２Ｐ法）。

【００１１】本発明において記録層に含まれる色素とし
ては、ポリメチン系色素、シアニン系色素、フタロシア
ニン／ナフタロシアニン系色素、アズレン系色素、ピリ
リウム系色素、スクアリリウム系色素、クロコニウム系
色素、ナフトキノン／アントラキノン系色素、インドフ
ェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニル
メタン系色素、アミニウム／ジイモニウム系色素、Ｎｉ
などの金属錯体系色素などを挙げることができる。

【００１２】上記の色素のうち、７００〜９００ｎｍの
近赤外領域の光に吸収を持つ色素が半導体レーザーの利
用が可能となるために好ましい。

【００１３】より具体的には以下に例示するものが挙げ
られる。

【００１４】１）ポリメチン系色素

【００１５】

【化１】

【００１６】

【化２】

【００１７】

【化３】

【００１８】

【化４】

【００１９】

【化５】 上記式中、Ｒ₁₁，Ｒ₁₂，Ｒ₁₃，Ｒ₁₄，Ｒ₁₅，Ｒ₁₆，
Ｒ₁₇，Ｒ₁₈及びＲ₁₉は各々独立に水素原子、ハロゲン原
子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未
置換のアリール基、置換もしくは未置換のスチリル基、
または置換もしくは未置換の複素環基を示す。ただし、
Ｒ₁₁，Ｒ₁₂，Ｒ₁₃及びＲ₁₄の少なくとも１つはジアルキ
ルアミノ置換アリール基である。ｍ₁は０または１であ
り、ｎ₁は０、１または２である。

【００２０】Ａ，Ｂ，Ｄ及びＥは、水素原子、ハロゲン
原子、置換もしくは未置換のアルキル基、アルケニル
基、置換または未置換のアラルキル基、置換または未置
換のアリール基を示す。ただし、Ａ，Ｂ，Ｄ及びＥの少
なくとも１つはジアルキルアミノ置換アリール基であ
る。ｍ₂、ｎ₂は０、１または２である。Ｙは５員環また
は６員環を完成するのに必要な原子群を有する２価の残
基を示す。

【００２１】Ｚ^-は

【００２２】

【化６】 を示す。

【００２３】Ｘ^-は陰イオンを示す。

【００２４】２）シアニン系色素

【００２５】

【化７】

【００２６】

【化８】

【００２７】

【化９】 （式中Ａ^-は

【００２８】

【化１０】 を示す。Ｒ₁及びＲ₂は、置換もしくは未置換のアルキル
基、置換もしくは未置換のアラルキル基、またはアルケ
ニル基を示す。Ｚ₁及びＺ₂は、置換または未置換の複素
環を完成するに必要な原子群を示す。Ｚ₃は、置換もし
くは未置換の５員環または６員環を完成するに必要な原
子群を示し、また前記５員環もしくは６員環は芳香族環
と縮合していても良い。Ｒ₃は、水素原子またはハロゲ
ン原子を示す。Ｒ₄及、びＲ₅は、水素原子、ハロゲン原
子、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルキル基、置換
もしくは未置換のアリール基、またはアシルオキシ基を
示す。Ｘ^-は、酸アニオンを示す。ｐ，ｑ及びｒは０ま
たは１である。

【００２９】３）フタロシアニン／ナフタロシアニン系
色素

【００３０】

【化１１】 式中、Ｍは、金属、金属の酸化物、または金属のハロゲ
ン化物を表わし、Ｌ1，Ｌ2，Ｌ3及びＬ4は未置換または
１つ以上の一価の置換基Ｚを有するベンゼン環、ナフタ
レン環、アントラセン環または含窒素複素環を表わす。
Ｙは有機置換基を表わし、ｎは１または２の整数を表わ
す。ただしＺは以下の置換基からなる群より選択され
る。ニトロ基、シアノ基、スルホン酸基、−Ｒ¹，−Ｏ
Ｒ²，−ＳｉＲ³Ｒ⁴Ｒ⁵，−ＳＲ⁶，−ＣＯＲ⁷，−ＣＯＯ
Ｒ⁸，−ＣＯＮＨＲ⁹，−ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹，−Ｒ¹²ＯＲ¹³，−
Ｒ¹⁴Ｘ，−ＳＯ₂ＮＲ¹⁵Ｒ¹⁶，−ＮＨＣＯＲ¹⁷，−Ｎ＝
ＮＲ¹⁸，−Ｎ＝ＣＨＲ¹⁹（式中、Ｒは水素原子、置換ま
たは未置換のアルキル基、アリール基、複素環残基、ア
シル基、シクロアルキル基またはポリエーテル基を表わ
す。Ｘはハロゲン原子を表わす。） ４）アズレン系色素

【００３１】

【化１２】

【００３２】

【化１３】

【００３３】

【化１４】 ただし、一般式［４−１］，［４−２］及び［４−３］
において、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄，Ｒ₅，Ｒ₆及びＲ₇は水
素原子、ハロゲン原子または１価の有機残基を表わし、
またＲ₁とＲ₂，Ｒ₃とＲ₄，Ｒ₄とＲ₅，Ｒ₅とＲ₆及びＲ₆
とＲ₇の組合せのうち、少なくとも１つの組合せで置換
または未置換の芳香族環を形成しても良い。Ａは２重結
合によって結合した２価の有機残基を表わす。Ｚ^-はア
ニオン残基を表わす。尚、アズレン環を構成する少なく
とも１つの炭素原子が窒素原子で置き換えられてアザア
ズレン環となっていても良い。

【００３４】５）ピリリウム系色素

【００３５】

【化１５】

【００３６】

【化１６】 （式中、Ａ^-は

【００３７】

【化１７】 を示す。 Ｘ₁及びＸ₂：硫黄原子、酸素原子またはセレン原子を示
す。 Ｚ₁：置換されても良いピリリウム、チオピリリウム、
セレナピリリウム、ベンゾピリリウム、ベンゾチオピリ
リウム、ベンゾセレナピリリウム、ナフトピリリウム、
ナフトチオピリリウムまたはナフトセレナピリリウムを
完成するに必要な原子群からなる炭化水素基を示す。 Ｚ₂：置換されても良いピラン、チオピラン、セレナピ
ラン、ベンゾピラン、ベンゾチオピラン、ベンゾセレナ
ピラン、ナフトピラン、ナフトチオピランまたはナフト
セレナピランを完成するに必要な原子群からなる炭化水
素基を示す。Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃及びＲ₄：水素原子、置換も
しくは未置換のアルキル基または置換もしくは未置換の
アリール基を示す。 Ｒ₅，Ｒ₆及びＲ₇：水素原子、ハロゲン原子、置換もし
くは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリー
ル基または置換もしくは未置換のアラルキル基を示す。 ｔ及びｓ：１または２を示す。 ｕ：０、１または２を示す。ただし、ｕが２の時、Ｒ₅
はそれぞれ同一であっても良くまた異なっていても良
い。またＲ₆はそれぞれ同一であっても良くまた異なっ
ていても良い。

【００３８】６）ナフトキノン／アントラキノン系色素

【００３９】

【化１８】 （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である。）

【００４０】

【化１９】 （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である。）

【００４１】

【化２０】 （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である。）

【００４２】

【化２１】 （ただし、Ｘはハロゲン原子であり、ｎは０〜１０の整
数である。）

【００４３】

【化２２】 （ただし、Ｘはハロゲン原子である。）

【００４４】

【化２３】 などを挙げることができる。

【００４５】７）インドフェノール系色素

【００４６】

【化２４】 （ただし、Ｘ及びＹはそれぞれ水素原子、アルキル基、
アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子であ
り、Ｒ¹，Ｒ²及びＲ³はそれぞれ水素原子、Ｃ₁〜Ｃ₂₀の
置換または未置換のアルキル基、アリール基、複素環ま
たはシクロヘキシル基であり、Ａは−ＮＨＣＯ−または
−ＣＯＮＨ−である。） ８）アミニウム／ジイモニウム系色素

【００４７】

【化２５】

【００４８】

【化２６】 （式中、Ａは

【００４９】

【化２７】 を示し、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基で置
換されていても良い。Ｘ^-は陰イオンを示す。Ｒ₁〜Ｒ₈
は炭素数１〜８の置換基であり、アルキル基、アルコキ
シアルキル基、アルケニル基、アルキニル基を示し、あ
るいはＲ₁とＲ₂、Ｒ₃とＲ₄、Ｒ₅とＲ₆、Ｒ₇とＲ₈でシク
ロ環を形成しても良い。） ９）金属錯塩系色素

【００５０】

【化２８】 （ただし、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれアルキル基またはアリー
ル基であり、Ｍは二価の遷移金属原子である。）

【００５１】

【化２９】 （ただし、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれアルキル基またはハロ
ゲン原子であり、Ｍは二価の遷移金属原子である。）

【００５２】

【化３０】 （ただし、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ置換または未置換のア
ルキル基またはアリール基であり、Ｒ³はハロゲン原子
または−ＮＲ⁴Ｒ⁵（ここで、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ置換
または未置換のアルキル基またはアリール基である）で
あり、Ｍは二価の遷移金属原子であり、ｎは０〜３の整
数である。）

【００５３】

【化３１】 （ただし、[Cat]は錯塩を中性にならしめる為に必要な
陽イオンであり、ＭはＮｉ，Ｃｕ，Ｃｏ，ＰｄまたはＰ
ｔであり、ｎは１または２である。）

【００５４】

【化３２】 （ただし、[Cat]は錯塩を中性にならしめる為に必要な
陽イオンであり、ＭはＮｉ，Ｃｕ，Ｃｏ，ＰｄまたはＰ
ｔであり、ｎは１または２である。）

【００５５】

【化３３】 （ただし、Ｘは水素原子、塩素原子、臭素原子またはメ
チル基であり、ｎは１〜４の整数であり、Ａは第四級ア
ンモニウム基である。）

【００５６】

【化３４】 （ただし、Ｘ¹及びＸ²はそれぞれニトロ基及び／または
ハロゲン原子であり、ｎ ₁及びｎ₂はそれぞれ１〜３の整
数であり、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれアミノ基、モノアルキ
ルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセチルアミノ基、
ベンゾイルアミノ基（置換ベンゾイルアミノ基を含む）
であり、Ｘ¹とＸ²、ｎ₁とｎ₂及びＲ¹とＲ²はそれぞれ互
いに同じであっても異なっていても良い。ＭはＣｒまた
はＣｏ原子である。Ｙは水素、ナトリウム、カリウム、
アンモニウム、脂肪族アンモニウム（置換脂肪族アンモ
ニウムを含む）または脂環族アンモニウムである。） これらの色素のうちで、本発明の方法を溶くに好ましく
適用できるものは、ポリメチン系色素、シアニン系色
素、フタロシアニン／ナフタロシアニン系色素である。
尚、これらの色素は単独でもあるいは２種以上の混合物
として用いても良い。また、ポリメチン系色素、シアニ
ン系色素を用いる場合には、上記アミニウム／ジイモニ
ウム系色素を耐光安定剤として用いても良い。

【００５７】記録層の形成は、上記色素、更に所望によ
りバインダーを溶剤に溶解して記録層形成用塗布液を調
製し、次いでこの塗布液を窒素または乾燥空気雰囲気下
で基板表面に塗布して塗布液層を形成し、これを窒素ま
たは乾燥空気雰囲気下で乾燥させることにより記録層用
塗膜を形成させる。

【００５８】上記記録層形成用塗布液を調製するための
溶剤としては、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプ
ロパノール、ｎ−ブタノール等のアルコール類、２，
２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，
３，３，３−ペンタフルオロプロパノール、２，２，
３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンタノー
ル、２，２，２−トリフルオロエタノール等のフッ素化
アルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等の
ケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香
族類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロ
ロホルム等のハロゲン化炭化水素類、エチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、エピクロルヒドリン
等のエーテル類、ジメチルホルムアミド等のアミド類、
ジメチルスルホキシド等のイオウ化合物、エチレングリ
コールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチ
レングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソル
ブ）、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、メトキシメトキシエタノール、エチレングリコール
モノアセテート、エチレングリコールイソプロピルエー
テル、１−ブトキシエトキシプロパノール等の多価アル
コールとその誘導体などを挙げることができる。

【００５９】これらの溶剤は単独または混合して使用す
ることができる。

【００６０】これらの溶剤の中でも特に、エチレングリ
コールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチ
レングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソル
ブ）、ジアセトンアルコール、２，２，３，３−テトラ
フルオロプロパノールなどの極性溶剤が好適な結果が得
られるために好ましい。

【００６１】塗布液中には更に酸化防止剤、ＵＶ吸収
剤、分散剤などの添加剤を目的に応じて加えても良い。

【００６２】バインダーを用いる場合は、バインダーと
してニトロセルロース、リン酸セルロース、硫酸セルロ
ース、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸
セルロース、ミリスチン酸セルロース、パルミチン酸セ
ルロース、酢酸・プロピオン酸セルロース、酢酸・酪酸
セルロースなどのセルロースエステル類、メチルセルロ
ース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチル
セルロースなどのセルロースエーテル類、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドンなどのビニル樹脂類、スチレ
ン−ブタジエンコポリマー、スチレン−アクリロニトリ
ルコポリマー、スチレン−ブタジエン−アクリロニトリ
ルコポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマーなど
の共重合樹脂類、ポリメチルメタクリレート、ポリメチ
ルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリアクリ
ル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリア
クリルニトリルなどのアクリル樹脂類、ポリエチレンテ
レフタレートなどのポリエステル類、ポリ（４，４’−
イソプロピリデンジフェニレン−コ−１，４’−シクロ
ヘキシレンジメチレンカーボネート）、ポリ（エチレン
ジオキシ−３，３’−フェニレンチオカーボネート）、
ポリ（４，４’−イソプロピリデンジフェニレンカーボ
ネート−コ−テレフタレート）、ポリ（４，４’−イソ
プロピリデンジフェニレンカーボネート）、ポリ（４，
４’−ｓｅｃ−ブチリデンジフェニレンカーボネー
ト）、ポリ（４，４’−イソプロピリデンジフェニレン
カーボネート−ブロック−オキシエチレン）などのポリ
アクリレート樹脂類、ａ−Ｓｉ類はポリアミド類、ポリ
イミド類、エポキシ樹脂類、フェノール樹脂類、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、塩素化ポリエチレンなどのポ
リオレフィン類などを用いることができる。

【００６３】記録層形成のための塗布方法としては、ス
ピンコート、ディップコート、ロールコート、カーテン
コート、ブレードコート、バーコート、グラビアコー
ト、ナイフコート、スプレーコート、スクリーン印刷等
の公知の方法で薄膜とすることができ、その膜厚は３０
０Å〜２０００Åである。更に溶剤乾燥のために、オー
ブンまたは乾燥炉を設けても良い。

【００６４】窒素ガスは、基板の塗布面に直接吹き出し
口が向かないようにしてコーターあるいは印刷機内へ導
入して窒素雰囲気とするのが好ましく、コーターあるい
は印刷機内は外気よりも陽圧状態に保つことが望まし
い。ただし、スピンコート以外のコーティング方法の場
合には、塗布と乾燥は基本的に同時に行われないので、
少なくとも乾燥炉において指触乾燥するまでは窒素雰囲
気を保つことが必要である。

【００６５】また、窒素ガスも基板塗布面で層流となる
ようにすれば直接吹き付けても構わない。

【００６６】上記窒素ガスの代わりに乾燥空気を用いて
も、またそれらの混合ガスでも構わない。これらのガス
には環境条件下程度の湿分は含まれてはならない。

【００６７】図１、図２に塗布装置の一例を示す。図１
はスピンコートの、図２はロールコートのための装置の
一例を示すものである。図１において１はスピナー本
体、２は基板である。窒素ガスは基板外周部あるいは上
方から供給する。図２において３は押出し成形機であ
る。ホッパから投入した樹脂ペレットを溶融押出しして
成形ロールによりシートとする。ロールに光記録媒体用
のスタンパーを取り付けておくかあるいは成形された平
シートに２Ｐ法を用いて紫外線硬化樹脂によりプレグル
ーブを設けることができる。次いでロールコーター５に
より記録層を塗布し乾燥させる。コーター及び乾燥炉は
窒素ブース４により囲まれ、窒素の陽圧状態に保つ。

【００６８】塗布乾燥時の条件は、常温、常圧付近の条
件であれば特に限定されず、乾燥時には基板の熱変形、
溶剤によるアタックが起こらない範囲であれば１００℃
程度まで加熱しても構わない。また、記録層と基板との
間に下引層を、記録層の上に保護層を設けても良い。

【００６９】下引層としては、耐溶剤性付与、反射率向
上、繰り返し再生の向上、あるいはプレグルーブ形成の
ために用いられる。保護層は、キズ、ホコリ、汚れなど
からの保護、及び記録層の環境安定性のために用いられ
る。

【００７０】これらに使用される材料は、無機化合物、
金属あるいは有機高分子化合物が主に用いられる。無機
化合物としては例えば、ＳｉＯ₂，ＭｇＦ₂，ＳｉＯ，Ｔ
ｉＯ ₂，ＺｎＯ，ＴｉＮ，ＳｉＮ，ＳｎＯ₂など、金属と
しては例えば、Ｚｎ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ａｌ，Ｃｒ，Ｇｅ，
Ｓｅ，Ｃｄなどを、有機高分子化合物としては、熱可塑
性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂が挙げられ、具
体的には、アイオノマー樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニ
ル系樹脂、天然高分子、エポキシ樹脂、ポリエステル系
樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、シリコーンゴム、
フッ素ゴムなどが用いられる。

【００７１】熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを適当な
溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗
布、乾燥させて形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂
の場合は、そのまま、もしくは適当な溶剤に溶解して塗
布液を調製した後、この塗布液を塗布して、ＵＶ光を照
射して硬化させることにより形成することができる。Ｕ
Ｖ硬化性樹脂としては、ウレタン（メタ）アクリレー
ト、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メ
タ）アクリレート等の（メタ）アクリレートのオリゴマ
ー類、（メタ）アクリル酸エステル等のモノマー類等、
更に光重合開始剤等を含んだ通常のＵＶ硬化樹脂組成物
を使用することができる。これらの塗布液中には、更に
帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等、添加剤を加え
ても良い。

【００７２】保護層の層厚は塗布型では一般に０．１〜
１００μｍに形成する。

【００７３】上記以外にも、プラスチックの押出し成形
シートあるいはフィルムをホットメルト系接着層を介し
て記録層の上にラミネートすることにより保護層を形成
することができる。

【００７４】無機化合物あるいは金属の場合は、真空蒸
着、スパッタリングによって形成することができる。

【００７５】光ディスクの場合には、２枚の基板をスペ
ーサーを介して張り合わせ、エアーサンドイッチ構造と
しても構わない。

【００７６】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるもので
はない。

【００７７】実施例１ 直径１３０ｍｍφ、厚さ１．２ｍｍのインジェクション
成形によりプレグルーブを設けたポリカーボネート基板
をスピンコーターにセットし、スピンコーター内部に基
板外周側から窒素ガスを流し、完全に窒素置換状態とし
た。更に窒素ガスを１ｌ／ｍｉｎの流量で流し続けた。
押出されたエアーと窒素ガスはスピナー上蓋の中心付近
より外へ逃げるようにした。次いで、下記構造式の化合
物（１）のナフタロシアニン色素３重量部をエチルセロ
ソルブ９７重量部に溶解した塗布液を０．２μｍのフィ
ルターで瀘過しながら基板上に滴下し、スピンコーティ
ング法により塗布、乾燥して８００Åの色素記録膜を得
た。この時のスピナー（クリーンルーム）内の温度は２
２℃であった。

【００７８】

【化３５】 このようにして作製した記録層を顕微鏡（６００倍）で
観察したところ、結晶析出の無い無定形薄膜であること
が確認された。

【００７９】更にこのようにして作製した光学的記録媒
体を０．３ｍｍのスペーサーを介して１．２ｍｍ厚のポ
リカーボネート裏基板とイオン重合型ＵＶ硬化接着剤を
用いて貼り合わせ、エアーサンドイッチ構造の光ディス
クを得た。この光ディスクをターンテーブル上に取り付
け、ターンテーブルをモーターで１８００ｒｐｍで回転
させて、発振波長８３０ｎｍの半導体レーザーを用い
て、基板側より記録層にスポットサイズ１．５μｍφ、
記録パワー８ｍＷ、記録周波数３ＭＨｚで情報を書き込
み、読み出しパワー０．４ｍＷで再生し、その再生波形
をスペクトル解析（スキャンニングフィルター、バンド
幅３０ｋＨｚ）してＣ／Ｎ比を測定した。さらに前記条
件で作製した同一の記録媒体を、８５℃、ドライの条件
下で１０００時間放置して、環境保存安定性試験を行っ
た後の反射率（８３０ｎｍ測定）及びＣ／Ｎ比を測定し
た。その結果を表１に示す。

【００８０】比較例１ 塗布、乾燥時の条件を２２℃、４０％ＲＨとし、窒素置
換を行わない以外は実施例１と同様の方法で光学的記録
媒体を作製し、同様に評価した。結果を表１に示す。

【００８１】比較例２ 塗布、乾燥時の条件を２２℃、５０％ＲＨとし、窒素置
換を行わない以外は実施例１と同様の方法で光学的記録
媒体を作製し、同様に評価した。結果を表１に示す。

【００８２】

【表１】 実施例２〜８ 実施例１で用いた化合物（１）を下記構造式の化合物
（２）〜（８）に代えて、表２に示す溶剤との組合せで
実施例１と同様の方法でそれぞれ光学的記録媒体を作製
した。

【００８３】これらの実施例２〜８の光学的記録媒体を
実施例１と同様の方法で評価した。その結果を表２に示
す。

【００８４】

【化３６】

【００８５】

【化３７】

【００８６】

【化３８】

【００８７】

【化３９】

【００８８】

【化４０】

【００８９】

【化４１】

【００９０】

【化４２】 比較例３〜９ 塗布、乾燥時の条件を２２℃、５０％ＲＨとし、窒素置
換を行わない以外は実施例２〜８とそれぞれ同様の方法
で光学的記録媒体を作製し、同様に評価した。結果を表
２に示す。

【００９１】

【表２】 実施例９ ウォーレットサイズの厚さ０．４ｍｍのポリカーボネー
ト基板上に熱プレス法によりプレグルーブを設け、ダイ
レクトグラビア印刷機のステージに取り付け、グラビア
印刷機を覆っているクリーンブース内に窒素ガスを流
し、完全に窒素置換状態とした。更に窒素ガスを１ｌ／
ｍｉｎの流量で流し続けた。グラビア印刷機に続く乾燥
ブース内も窒素のダウンフローとなる様にした。この
時、印刷機と乾燥ブースの温度は２２℃であった。

【００９２】次いで、下記構造式の化合物（９）のナフ
タロシアニン系色素３重量部をエチルセロソルブ９７重
量部に溶解した塗布液を基板上にダイレクトグラビア塗
布し、乾燥して８００Åの色素記録膜を得た。さらにオ
ーブンで９０℃、５分間乾燥させた。

【００９３】

【化４３】 このようにして作製した記録層を顕微鏡（６００倍）で
観察したところ、結晶析出の無い無定形薄膜であること
が確認された。

【００９４】更にこのようにして作製した光学的記録媒
体をアクリル酸エステル系ホットメルト接着剤ドライフ
ィルムを介してウォーレットサイズの０．３ｍｍ厚のポ
リカーボネート基板と熱ロール法によりラミネートして
密着構造の光カードを作製した。

【００９５】この光カードをＸ−Ｙ方向に駆動するステ
ージ上に取り付け、発振波長８３０ｎｍの半導体レーザ
ーを用いて、厚さ０．４ｍｍのポリカーボネート基板側
より記録層にスポットサイズ３μｍφ、記録パワー１０
ｍＷ、記録周波数１５０ｋＨｚでＹ軸方向に情報を記録
し、読み出しパワー０．５ｍＷで再生し、その再生波形
をスペクトル解析（スキャンニングフィルター、バンド
幅１ｋＨｚ）してＣ／Ｎ比を測定した。

【００９６】さらに前記条件で作製した同一の記録媒体
を、８５℃、ドライの条件下で１０００時間放置して、
環境保存安定性試験を行った後の反射率（８３０ｎｍ測
定）及びＣ／Ｎ比を測定した。その結果を表３に示す。

【００９７】比較例１０ 塗布、乾燥時の条件を２２℃、５０％ＲＨとし、窒素置
換を行わない以外は実施例９と同様の方法で光学的記録
媒体を作製し、同様に評価した。結果を表３に示す。

【００９８】

【表３】 実施例１０〜１６ 実施例９で用いた化合物（９）を下記構造式の化合物
（１０）〜（１６）に代えて、表４に示す溶剤との組合
せで実施例９と同様の方法でそれぞれ光学的記録媒体を
作製した。

【００９９】これらの実施例１０〜１６の光学的記録媒
体を実施例９と同様の方法で評価した。その結果を表４
に示す。

【０１００】

【化４４】

【０１０１】

【化４５】

【０１０２】

【化４６】

【０１０３】

【化４７】

【０１０４】

【化４８】

【０１０５】

【化４９】

【０１０６】

【化５０】 比較例１１〜１７ 塗布、乾燥時の条件を２２℃、５０％ＲＨとし、窒素置
換を行わない以外は実施例１０〜１６とそれぞれ同様の
方法で光学的記録媒体を作製し、同様に評価した。結果
を表４に示す。

【０１０７】

【表４】

【０１０８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の製造方法
によれば、結晶析出が発生せず、ノイズの少ない、耐久
性に優れた光学的記録媒体を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明で使用するスピンコーターの一例の模式
図である。

【図２】本発明で使用するロールコーターの一例の模式
図である。

【符号の説明】

１ スピナー本体 ２ 基板 ３ 押出し成形機 ４ 窒素ブース ５ ロールコーター

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菅田 裕之 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 大久保 幸俊 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザー光により情報の記録または再生
   が可能な色素を含む記録層が設けられた光学的記録媒体
   において、該記録層が色素を溶剤に溶解して調製した記
   録層形成用塗布液を窒素雰囲気または乾燥空気雰囲気で
   基板上に塗布し乾燥して形成したものであることを特徴
   とする光学的記録媒体。
2. 【請求項２】 前記色素が、ポリメチン系色素、シアニ
   ン系色素、フタロシアニン／ナフタロシアニン系色素で
   あることを特徴とする請求項１の光学的記録媒体。
3. 【請求項３】 前記溶剤が、エチルセロソルブ、メチル
   セロソルブ、ジアセトンアルコール、２，２，３，３−
   テトラフルオロプロパノールであることを特徴とする請
   求項１の光学的記録媒体。
4. 【請求項４】 レーザー光により情報の記録または再生
   が可能な色素を含む記録層が設けられた光学的記録媒体
   の製造方法において、該色素を溶剤に溶解して調製した
   記録層形成用塗布液を窒素雰囲気または乾燥空気雰囲気
   で基板上に塗布し乾燥して記録層を形成することを特徴
   とする光学的記録媒体の製造方法。
5. 【請求項５】 前記色素が、ポリメチン系色素、シアニ
   ン系色素、フタロシアニン／ナフタロシアニン系色素で
   あることを特徴とする請求項４の光学的記録媒体の製造
   方法。
6. 【請求項６】 前記溶剤が、エチルセロソルブ、メチル
   セロソルブ、ジアセトンアルコール、２，２，３，３−
   テトラフルオロプロパノールであることを特徴とする請
   求項４の光学的記録媒体の製造方法。